薄膜、制备薄膜、薄膜铜、磁性薄膜生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0170-0001、 有细密均匀结构和晶体组织的金属件和制造它的方法
摘要、 描述了一种金属件的生产，该金属件有细密的金相结构和晶体组织，通过包括锻造和滚轧以及控制锻造和滚轧条件的方法进行生产。还描述了一种金属件，它有最小的静态结晶的晶粒尺寸和均匀(100)的立体晶体组织。
0025-0002、 具有或者没有铁电覆底层的硅器件中的氢抑制方法
摘要、 本发明提供了一种去除在具有或者没有铁电覆底层的硅器件内氢原子的方法。在该氢原子去除方法中，为了防止器件特性因氢原子所造成的劣化，在铁电材料上形成Pt上电极并且然后在其上淀积一个氧化硅膜。另外，进行一种高密度氧等离子体处理，从而提高该Pt电极的颗粒直径或者抑制该催化反应。因而，在硅的淀积过程中，抑制了氢原子扩散进入该铁电层内并且去除了该氧化硅膜内的氢原子。因而，可以抑制因氢原子所造成的器件特性的劣化。
0086-0003、 在刀具上沉积细粒氧化铝涂层的方法
本发明涉及一种在由烧结硬质合金、金属陶瓷、陶瓷或高速钢构成的刀具上沉积耐火氧化铝（Al,2,O,3,）薄涂层的方法。本发明的方法是等离子体化学气相沉积（PACVD）法，其中等离子体由加在两个电极上的双极脉冲直流电压产生的，并在将待涂覆的基材固定在电极上且为电连接。与现有方法相比，该方法抑制了绝缘表面上电荷的积累，因此在所述表面上不产生电弧，从而使反应平稳、长期进行。在本发明方法中，由单相Y－Al,2,O,3,或γ－和α－Al,2,O,3,相混合物组成的涂层可在低至500℃的沉积温度下沉积在刀具上。当将本发明的涂覆有烧结硬质合金刀具用于加工钢或铸铁时，与现有技术制成的涂覆Al,2,O,3,刀具相比，可以观察到一些重要改进。
0176-0004、 金属化合物溶液以及用其制备薄膜的方法
摘要、 本发明涉及一种将化学式(Ⅰ)所表示的金属化合物溶于化学式(Ⅱ)所表示的环己烷化合物中所形成的金属化合物溶液,式中，R,1,、R,2,和R,3,中的每一个代表具有1～8个碳原子的、卤素取代或未取代的烷基基团，而且在其主链上可能含有一个氧原子；R,4,代表具有2～18个碳原子的直链或支链的亚烷基；M代表铅原子、钛原子或锆原子；当M是铅原子时，l、m和n分别为0、2和0；当M是钛原子或锆原子时，n为0或1，而l和m各自为满足下列等式的、0至4之间的一个整数：l+m+2n=4；式中，R,5,为氢原子或具有1～4个碳原子的烷基基团；p为1或2。
0124-0005、 给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法
摘要、 本发明涉及一种给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法，镀膜是在真空中在薄金属片上溅射上一层金属化合物．薄金属片在压力为10，－3,，至10，－3,，毫巴的氩等离子体中、以等离子体离子的可变流量率和可变能量被处理可变的时间。借助于至少一个含铬或含铬合金的靶子的反应性磁控管雾化而把一层氧化铬层或含氧化铬的层连续地溅射上去。该膜层是在压力为10，－3,，至10，－2,，毫巴的氩－氧混合气中用至少一个雾化源溅射上去的。在给薄金属片镀膜时，工作点被恒定地保持在规定的限度之内，薄金属片被确定地与热缓冲物作热接触。薄金属片的镀膜一直要继续到其上的膜达到一阶或二阶干涉的指定干涉色为止。在薄金属片被等离子体处理后，借助于在压力为10，－3,，至10，－2,，毫巴的氩气中的磁控管雾化而在被等离子体处理过的薄金属辖ι渖弦徊愀趸蚝鹾辖鸩恪
0162-0006、 管靶
摘要、 本发明涉及阴极喷涂装置的管靶，这种管靶的圆柱状空心体的制作方法及用途。为提供一种简单经济的方法制作管靶的圆柱状空心体，以及制作带均匀、细粒结构的圆柱状空心体，本发明提出的方法是，通过熔融物离心浇铸制作圆柱状空心体，而管靶具有一离心浇铸的圆柱状空心体。运用离心浇铸的圆柱状空心体制作管靶备有优点，由银料离心浇铸的圆柱状空心体管靶用于平板玻璃的涂层的好处业已证明。
0045-0007、 具有外阻气涂层的塑料容器
摘要、 一种镀覆塑料容器提供了低的空气和蒸气渗透性。一种镀覆塑料容器的方法和系统包括通过等离子辅助式真空蒸气淀积法将一个无机氧化物薄层施加到容器的外表面上。例如涂层可包括二氧化硅，它与容器的外表面结合在一起。此涂层是柔软的，而且无论容器内压如何或容器设有内压，都可以镀覆上此涂层。涂层牢固地粘附在容器上，并且即使在涂层被划伤、破裂、弯曲和／或拉伸时，在加压之后也具有增强的阻气效果。另外阻气性能的提高将基本上不受容器灌装的影响。还披露了一种回收镀覆的塑料容器的方法和一种用镀覆容器封装饮料的方法和系统。
0023-0008、 一种镀制可热处理的仿低辐射膜玻璃的方法
摘要、 本发明公开了一种镀制可热处理的仿低辐射膜玻璃的方法，使用真空磁控溅射镀膜玻璃生产设备，该方法交错地使用不锈钢靶和钛靶，并且用氧气作为工艺气体；先镀制氧化不锈钢膜，再镀制氧化钛膜，交错重复镀制；用该方法制造的镀膜玻璃具有高透射率、高反射率和低辐射率，并且可以进行热处理。
0099-0009、 化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法
摘要、 提供了一种化学汽相淀积设备和利用该设备合成碳纳米管的方法。该化学汽相淀积设备在一片或多片基片上合成碳纳米管，并且包括包含多个垂向轴的载物舟，沿着每一根轴设置用于支撑基片的支撑突出物基片水平向平行地安装在支撑突出物上。而且，该化学汽相淀积设备包括具有在其一端的用于供应反应气的通道，以及在其另一端的用于排放反应气的通道的反应炉，其成型为长方体的内部设置载物舟，以及设置在反应炉外部的加热单元。采用这种化学汽相淀积设备可以大量合成碳纳米管。
0107-0010、 自由浮动的护罩和半导体处理系统
摘要、 提供了一种保护罩和一种包括保护罩的半导体处理系统。所述护罩包括：一框架组件，它包括一对相间隔的端壁以及一对在所述端壁之间延伸并安装在该端壁上的侧壁；以及，多个护罩主体，它们由上述框架组件所承载。每个护罩主体均包括：一基体，它带有连续的单元框架；一带孔板，它由上述连续的框架所承载；一充气室，它位于上述基体与带孔板之间；以及，一气体传送装置，它用于按一定的流速将惰性气体传给上述充气室，因此，所述气体能弥散穿过带孔板。
0027-0011、 化学镀镍液
0111-0012、 化学镀镍液的再生处理方法及其处理装置
0134-0013、 带有沉积屏蔽板的等离子体反应器
0167-0014、 一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备
0122-0015、 一种制备锆钛酸铅（PZT）厚膜的方法
0038-0016、 薄膜的制造方法及制造装置,薄膜层叠体和电子元件
0074-0017、 低温热化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法
0077-0018、 用于超导磁约束聚变装置第一壁表面的离子回旋硼化工艺
0069-0019、 使金属表面具备玻璃质层的方法
0092-0020、 脉冲辅助过滤电弧沉积薄膜装置和方法
0190-0021、 具有有色涂层的装饰物及其制备方法
0216-0022、 选择性化学镀制备纳米间隙电极的方法
0030-0023、 用于溅射设备的电源装置
0156-0024、 溅射铜用自离化的等离子体
0209-0025、 工作物热浸镀锡的加工方法
0206-0026、 镁合金的表面处理方法及镁合金构件
0056-0027、 包装材料
0072-0028、 预氧化催渗高温短时氮化工艺
0084-0029、 含β相镍铝的涂层
0049-0030、 金属表面处理用组成物及表面处理液与表面处理方法
0153-0031、 高耐腐蚀性表面处理镁合金制品及其制造方法
0215-0032、 有机化合物的汽相沉积法和精制法
0185-0033、 新一代环保型特种表面合金催化液
0119-0034、 电工触点的金属蒸汽真空弧源离子注入制造技术
0042-0035、 自动杀菌消毒补锌不锈钢器皿及其制造工艺
0053-0036、 超硬纳米多层薄膜及其制作工艺
0140-0037、 涂覆和退火大面积玻璃基底的方法
0040-0038、 薄膜制备的喷雾热分解方法
0061-0039、 非取向型电磁钢板、其制备方法及所用绝缘膜形成剂
0120-0040、 金属镀液晶聚合物的方法和与其相关的组合物
0105-0041、 等离子体化学汽相淀积装置和制造光纤、预制棒及套管的方法以及由此制造的光纤
0031-0042、 用于溅射的电源装置和使用该装置的溅射设备
0091-0043、 金属低温渗入的装置和方法
0195-0044、 静电屏蔽的射频室冷却系统和方法
0194-0045、 喷射减薄设备的改进
0094-0046、 磁控管溅射源
0130-0047、 积淀半导体材料的装置和方法
0180-0048、 设有饱和水蒸气气化室的金属表面黑化机械
0080-0049、 在颗粒上包覆金刚石样碳的方法与设备
0161-0050、 镁或镁合金的表面处理制品,表面预处理方法和涂装方法
0073-0051、 PVDAl2O3涂层刀具
0175-0052、 InSb红外焦平面列阵器件减反射膜淀积方法及专用掩膜架
0029-0053、 微多孔性铜覆膜及用于制备该铜覆膜的化学镀铜液
0143-0054、 钢板、热镀钢板和合金化热镀钢板及其制备方法
0032-0055、 缝纫机及缝纫机部件的制造方法
0082-0056、 金属熔融镀槽中辊轴的表面处理方法
0172-0057、 包含镍和硼的涂料组合物
0024-0058、 在基材上以锡漏涂图文的方法
0179-0059、 树脂涂覆的钢板及其制造的胶卷盒卡头和盒体部件
0055-0060、 长形金属毛坯的镀覆方法
0204-0061、 自催化镍－锡－磷合金镀液及其镀层
0028-0062、 具有带永磁配置结构的阴极的溅射装置
0058-0063、 导引废气的机动车辆部件
0039-0064、 涂敷了耐磨不粘树脂的底物
0095-0065、 等离子硼化
0159-0066、 金属表面处理剂、金属材料的表面处理方法及表面处理金属材料
0004-0067、 用于油箱的表面处理钢板及其制造方法
0036-0068、 真空蒸镀设备用的蒸镀装置
0046-0069、 金属材料用水性表面处理剂及其表面处理金属材料
0089-0070、 钽非晶氧化物表面层或薄壁件的制备方法
0184-0071、 通过离子注入形成导电区的方法
0158-0072、 银镜还原制剂
0067-0073、 一种磁性薄膜及其制造方法
0078-0074、 放电表面处理用压粉体电极
0208-0075、 一种烟气脱硫设备的制造工艺
0014-0076、 一种表面经氧化处理的刀剑体及处理方法
0106-0077、 选择性沉积铋基铁电薄膜的方法
0137-0078、 利用原子层沉积法形成薄膜的方法
0097-0079、 耐孔洞性优良的镀锌钢板
0003-0080、 一种掺锑钛酸锶薄膜及其制备方法
0200-0081、 热化学汽相沉积设备和使用该设备合成碳纳米管的方法
0202-0082、 含锌镀层钢板的磷酸盐化成处理方法
0196-0083、 沉积膜形成设备
0001-0084、 表面处理方法和设备、汽相淀积材料及稀土金属基永磁铁
0152-0085、 多功能钢铁表面处理液
0182-0086、 电磁波屏蔽膜涂敷方法及其装置
0212-0087、 电弧离子镀沉积氮化钛铌硬质薄膜技术
0065-0088、 干法制备硫化亚铜薄膜方法
0173-0089、 介质表面上镀制强附着力电极薄膜的方法
0168-0090、 用于在半导体处理反应器中各次清洗之间增大晶片处理量的装置和方法
0018-0091、 制造抗菌金属制品的方法及由此制造的抗菌金属制品
0197-0092、 自由浮动屏障与半导体工艺系统
0210-0093、 冲板式组合件的板片接合缝的热浸镀锡填补方法
0166-0094、 包层的中空阴极磁控管溅射靶的制造方法
0063-0095、 一种自催化镍基合金镀层及其镀制方法
0178-0096、 一种抗腐蚀处理
0100-0097、 连续热镀锌机组沉没辊及稳定辊退锌溶液
0088-0098、 可收集熔渣的镀锌槽
0009-0099、 用于预处理金属表面以形成磷酸盐层的调节液与调节方法
0174-0100、 金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法
0050-0101、 高效和长寿命的场致发光磷光体的制备方法
0008-0102、 钢材的表面处理剂和表面处理过的钢材
0186-0103、 碳膜及其形成方法以及碳膜被覆物品及其制造方法
0022-0104、 金属材料用表面处理剂组合物及其处理方法
0075-0105、 同时铝化镍基和钴基超级合金的方法
0214-0106、 机械能助渗金属表面改性新技术
0211-0107、 电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜技术
0149-0108、 热镀锌方法及装置
0148-0109、 淀积双轴结构涂层的方法与设备
0059-0110、 高炉风口抗冲蚀防护层及其制造方法
0102-0111、 钢铁冷变形加工的磷化液及其磷化工艺
0139-0112、 用于金属表面磷酸盐化的水溶液和方法
0047-0113、 气体渗碳炉废气循环利用的方法
0127-0114、 化学汽相淀积装置及其净化方法和半导体制造装置
0041-0115、 表面处理支承装置、表面处理支架、表面处理方法，以及表面处理设备
0136-0116、 有机真空镀膜掩膜板的制作方法
0002-0117、 一种掺铌钛酸钡薄膜材料及其制备方法
0054-0118、 一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶度的方法
0005-0119、 一种半导体电热膜的工艺配方及加工方法
0201-0120、 无电解镀处理方法及前处理剂
0171-0121、 用于筒形反应器的基座
0044-0122、 制造制件内部通道的方法及具有内部通道的制件
0026-0123、 多功能表面处理的方法及实施该方法的设备
0125-0124、 给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法
0064-0125、 甲硅烷氢化物功能树脂上的无电金属沉积
0110-0126、 一种常温磷化液
0128-0127、 一种滑动轴承喷涂材料
0114-0128、 放电表面处理方法和实施该方法的装置及电极
0151-0129、 镁合金化学改性皮膜的非铬系处理
0012-0130、 气缸套的表面氧化处理配方及其工艺
0016-0131、 含混合稀土元素高阻溅射靶材
0113-0132、 一种制冷机芯钢管内壁表面处理方法
0117-0133、 克锈液
0146-0134、 一种在不锈钢或镍基合金钢制成的构件表面上产生一增强氧化物涂层的方法
0035-0135、 化学镀镍的预处理溶液及预处理方法
0164-0136、 通过电渗析再生化学镀金属沉积浴液的方法和装置
0085-0137、 利用化学蒸汽沉积法形成氧化铝膜的化合物和制备该化合物的方法
0141-0138、 线路结构的生产方法
0177-0139、 回收磷酸盐化学转化中的水性洗液方法和用于金属表面处理的装置
0198-0140、 等离子体处理装置
0071-0141、 制备类金刚石薄膜的装置
0104-0142、 气体擦拭装置和方法
0062-0143、 低摩擦镀层
0188-0144、 一种化学镀镍配方及其应用
0157-0145、 化学镀镍溶液及其制备和使用方法
0160-0146、 制备复合涂层的方法
0150-0147、 斑锡金属日用工艺品
0183-0148、 材料表面光亮合金催化液
0118-0149、 镁合金的表面处理方法
0093-0150、 电烤锌工艺
0121-0151、 时效硬化工具钢合金粉剂
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0135-0153、 覆膜特性优良的取向性电工钢板及其制造方法
0083-0154、 用退火隔离剂涂覆电炉钢带的方法
0142-0155、 钨的超微粒子及其制法
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0169-0157、 薄膜的制作方法及制作装置
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0138-0160、 镀铜添加剂及其制备方法和在焊丝镀铜中的应用
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0207-0162、 铝热反应制做陶瓷复合钢管内衬的物料
0192-0163、 化学气相沉积室钝化方法
0129-0164、 一种复合金属陶瓷喷涂材料
0011-0165、 根除氰根污染的钢铁软氮化工艺
0191-0166、 溅射靶
0133-0167、 用于铜膜化学汽相沉积的新型有机亚铜前体
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摘要、 描述了一种金属件的生产，该金属件有细密的金相结构和晶体组织，通过包括锻造和滚轧以及控制锻造和滚轧条件的方法进行生产。还描述了一种金属件，它有最小的静态结晶的晶粒尺寸和均匀(100)的立体晶体组织。
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摘要、 本发明提供了一种去除在具有或者没有铁电覆底层的硅器件内氢原子的方法。在该氢原子去除方法中，为了防止器件特性因氢原子所造成的劣化，在铁电材料上形成Pt上电极并且然后在其上淀积一个氧化硅膜。另外，进行一种高密度氧等离子体处理，从而提高该Pt电极的颗粒直径或者抑制该催化反应。因而，在硅的淀积过程中，抑制了氢原子扩散进入该铁电层内并且去除了该氧化硅膜内的氢原子。因而，可以抑制因氢原子所造成的器件特性的劣化。
0086-0003、 在刀具上沉积细粒氧化铝涂层的方法
本发明涉及一种在由烧结硬质合金、金属陶瓷、陶瓷或高速钢构成的刀具上沉积耐火氧化铝（Al,2,O,3,）薄涂层的方法。本发明的方法是等离子体化学气相沉积（PACVD）法，其中等离子体由加在两个电极上的双极脉冲直流电压产生的，并在将待涂覆的基材固定在电极上且为电连接。与现有方法相比，该方法抑制了绝缘表面上电荷的积累，因此在所述表面上不产生电弧，从而使反应平稳、长期进行。在本发明方法中，由单相Y－Al,2,O,3,或γ－和α－Al,2,O,3,相混合物组成的涂层可在低至500℃的沉积温度下沉积在刀具上。当将本发明的涂覆有烧结硬质合金刀具用于加工钢或铸铁时，与现有技术制成的涂覆Al,2,O,3,刀具相比，可以观察到一些重要改进。
0176-0004、 金属化合物溶液以及用其制备薄膜的方法
摘要、 本发明涉及一种将化学式(Ⅰ)所表示的金属化合物溶于化学式(Ⅱ)所表示的环己烷化合物中所形成的金属化合物溶液,式中，R,1,、R,2,和R,3,中的每一个代表具有1～8个碳原子的、卤素取代或未取代的烷基基团，而且在其主链上可能含有一个氧原子；R,4,代表具有2～18个碳原子的直链或支链的亚烷基；M代表铅原子、钛原子或锆原子；当M是铅原子时，l、m和n分别为0、2和0；当M是钛原子或锆原子时，n为0或1，而l和m各自为满足下列等式的、0至4之间的一个整数：l+m+2n=4；式中，R,5,为氢原子或具有1～4个碳原子的烷基基团；p为1或2。
0124-0005、 给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法
摘要、 本发明涉及一种给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法，镀膜是在真空中在薄金属片上溅射上一层金属化合物．薄金属片在压力为10，－3,，至10，－3,，毫巴的氩等离子体中、以等离子体离子的可变流量率和可变能量被处理可变的时间。借助于至少一个含铬或含铬合金的靶子的反应性磁控管雾化而把一层氧化铬层或含氧化铬的层连续地溅射上去。该膜层是在压力为10，－3,，至10，－2,，毫巴的氩－氧混合气中用至少一个雾化源溅射上去的。在给薄金属片镀膜时，工作点被恒定地保持在规定的限度之内，薄金属片被确定地与热缓冲物作热接触。薄金属片的镀膜一直要继续到其上的膜达到一阶或二阶干涉的指定干涉色为止。在薄金属片被等离子体处理后，借助于在压力为10，－3,，至10，－2,，毫巴的氩气中的磁控管雾化而在被等离子体处理过的薄金属辖ι渖弦徊愀趸蚝鹾辖鸩恪
0162-0006、 管靶
摘要、 本发明涉及阴极喷涂装置的管靶，这种管靶的圆柱状空心体的制作方法及用途。为提供一种简单经济的方法制作管靶的圆柱状空心体，以及制作带均匀、细粒结构的圆柱状空心体，本发明提出的方法是，通过熔融物离心浇铸制作圆柱状空心体，而管靶具有一离心浇铸的圆柱状空心体。运用离心浇铸的圆柱状空心体制作管靶备有优点，由银料离心浇铸的圆柱状空心体管靶用于平板玻璃的涂层的好处业已证明。
0045-0007、 具有外阻气涂层的塑料容器
摘要、 一种镀覆塑料容器提供了低的空气和蒸气渗透性。一种镀覆塑料容器的方法和系统包括通过等离子辅助式真空蒸气淀积法将一个无机氧化物薄层施加到容器的外表面上。例如涂层可包括二氧化硅，它与容器的外表面结合在一起。此涂层是柔软的，而且无论容器内压如何或容器设有内压，都可以镀覆上此涂层。涂层牢固地粘附在容器上，并且即使在涂层被划伤、破裂、弯曲和／或拉伸时，在加压之后也具有增强的阻气效果。另外阻气性能的提高将基本上不受容器灌装的影响。还披露了一种回收镀覆的塑料容器的方法和一种用镀覆容器封装饮料的方法和系统。
0023-0008、 一种镀制可热处理的仿低辐射膜玻璃的方法
摘要、 本发明公开了一种镀制可热处理的仿低辐射膜玻璃的方法，使用真空磁控溅射镀膜玻璃生产设备，该方法交错地使用不锈钢靶和钛靶，并且用氧气作为工艺气体；先镀制氧化不锈钢膜，再镀制氧化钛膜，交错重复镀制；用该方法制造的镀膜玻璃具有高透射率、高反射率和低辐射率，并且可以进行热处理。
0099-0009、 化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法
摘要、 提供了一种化学汽相淀积设备和利用该设备合成碳纳米管的方法。该化学汽相淀积设备在一片或多片基片上合成碳纳米管，并且包括包含多个垂向轴的载物舟，沿着每一根轴设置用于支撑基片的支撑突出物基片水平向平行地安装在支撑突出物上。而且，该化学汽相淀积设备包括具有在其一端的用于供应反应气的通道，以及在其另一端的用于排放反应气的通道的反应炉，其成型为长方体的内部设置载物舟，以及设置在反应炉外部的加热单元。采用这种化学汽相淀积设备可以大量合成碳纳米管。
0107-0010、 自由浮动的护罩和半导体处理系统
摘要、 提供了一种保护罩和一种包括保护罩的半导体处理系统。所述护罩包括：一框架组件，它包括一对相间隔的端壁以及一对在所述端壁之间延伸并安装在该端壁上的侧壁；以及，多个护罩主体，它们由上述框架组件所承载。每个护罩主体均包括：一基体，它带有连续的单元框架；一带孔板，它由上述连续的框架所承载；一充气室，它位于上述基体与带孔板之间；以及，一气体传送装置，它用于按一定的流速将惰性气体传给上述充气室，因此，所述气体能弥散穿过带孔板。
0027-0011、 化学镀镍液
0111-0012、 化学镀镍液的再生处理方法及其处理装置
0134-0013、 带有沉积屏蔽板的等离子体反应器
0167-0014、 一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备
0122-0015、 一种制备锆钛酸铅（PZT）厚膜的方法
0038-0016、 薄膜的制造方法及制造装置,薄膜层叠体和电子元件
0074-0017、 低温热化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法
0077-0018、 用于超导磁约束聚变装置第一壁表面的离子回旋硼化工艺
0069-0019、 使金属表面具备玻璃质层的方法
0092-0020、 脉冲辅助过滤电弧沉积薄膜装置和方法
0190-0021、 具有有色涂层的装饰物及其制备方法
0216-0022、 选择性化学镀制备纳米间隙电极的方法
0030-0023、 用于溅射设备的电源装置
0156-0024、 溅射铜用自离化的等离子体
0209-0025、 工作物热浸镀锡的加工方法
0206-0026、 镁合金的表面处理方法及镁合金构件
0056-0027、 包装材料
0072-0028、 预氧化催渗高温短时氮化工艺
0084-0029、 含β相镍铝的涂层
0049-0030、 金属表面处理用组成物及表面处理液与表面处理方法
0153-0031、 高耐腐蚀性表面处理镁合金制品及其制造方法
0215-0032、 有机化合物的汽相沉积法和精制法
0185-0033、 新一代环保型特种表面合金催化液
0119-0034、 电工触点的金属蒸汽真空弧源离子注入制造技术
0042-0035、 自动杀菌消毒补锌不锈钢器皿及其制造工艺
0053-0036、 超硬纳米多层薄膜及其制作工艺
0140-0037、 涂覆和退火大面积玻璃基底的方法
0040-0038、 薄膜制备的喷雾热分解方法
0061-0039、 非取向型电磁钢板、其制备方法及所用绝缘膜形成剂
0120-0040、 金属镀液晶聚合物的方法和与其相关的组合物
0105-0041、 等离子体化学汽相淀积装置和制造光纤、预制棒及套管的方法以及由此制造的光纤
0031-0042、 用于溅射的电源装置和使用该装置的溅射设备
0091-0043、 金属低温渗入的装置和方法
0195-0044、 静电屏蔽的射频室冷却系统和方法
0194-0045、 喷射减薄设备的改进
0094-0046、 磁控管溅射源
0130-0047、 积淀半导体材料的装置和方法
0180-0048、 设有饱和水蒸气气化室的金属表面黑化机械
0080-0049、 在颗粒上包覆金刚石样碳的方法与设备
0161-0050、 镁或镁合金的表面处理制品,表面预处理方法和涂装方法
0073-0051、 PVDAl2O3涂层刀具
0175-0052、 InSb红外焦平面列阵器件减反射膜淀积方法及专用掩膜架
0029-0053、 微多孔性铜覆膜及用于制备该铜覆膜的化学镀铜液
0143-0054、 钢板、热镀钢板和合金化热镀钢板及其制备方法
0032-0055、 缝纫机及缝纫机部件的制造方法
0082-0056、 金属熔融镀槽中辊轴的表面处理方法
0172-0057、 包含镍和硼的涂料组合物
0024-0058、 在基材上以锡漏涂图文的方法
0179-0059、 树脂涂覆的钢板及其制造的胶卷盒卡头和盒体部件
0055-0060、 长形金属毛坯的镀覆方法
0204-0061、 自催化镍－锡－磷合金镀液及其镀层
0028-0062、 具有带永磁配置结构的阴极的溅射装置
0058-0063、 导引废气的机动车辆部件
0039-0064、 涂敷了耐磨不粘树脂的底物
0095-0065、 等离子硼化
0159-0066、 金属表面处理剂、金属材料的表面处理方法及表面处理金属材料
0004-0067、 用于油箱的表面处理钢板及其制造方法
0036-0068、 真空蒸镀设备用的蒸镀装置
0046-0069、 金属材料用水性表面处理剂及其表面处理金属材料
0089-0070、 钽非晶氧化物表面层或薄壁件的制备方法
0184-0071、 通过离子注入形成导电区的方法
0158-0072、 银镜还原制剂
0067-0073、 一种磁性薄膜及其制造方法
0078-0074、 放电表面处理用压粉体电极
0208-0075、 一种烟气脱硫设备的制造工艺
0014-0076、 一种表面经氧化处理的刀剑体及处理方法
0106-0077、 选择性沉积铋基铁电薄膜的方法
0137-0078、 利用原子层沉积法形成薄膜的方法
0097-0079、 耐孔洞性优良的镀锌钢板
0003-0080、 一种掺锑钛酸锶薄膜及其制备方法
0200-0081、 热化学汽相沉积设备和使用该设备合成碳纳米管的方法
0202-0082、 含锌镀层钢板的磷酸盐化成处理方法
0196-0083、 沉积膜形成设备
0001-0084、 表面处理方法和设备、汽相淀积材料及稀土金属基永磁铁
0152-0085、 多功能钢铁表面处理液
0182-0086、 电磁波屏蔽膜涂敷方法及其装置
0212-0087、 电弧离子镀沉积氮化钛铌硬质薄膜技术
0065-0088、 干法制备硫化亚铜薄膜方法
0173-0089、 介质表面上镀制强附着力电极薄膜的方法
0168-0090、 用于在半导体处理反应器中各次清洗之间增大晶片处理量的装置和方法
0018-0091、 制造抗菌金属制品的方法及由此制造的抗菌金属制品
0197-0092、 自由浮动屏障与半导体工艺系统
0210-0093、 冲板式组合件的板片接合缝的热浸镀锡填补方法
0166-0094、 包层的中空阴极磁控管溅射靶的制造方法
0063-0095、 一种自催化镍基合金镀层及其镀制方法
0178-0096、 一种抗腐蚀处理
0100-0097、 连续热镀锌机组沉没辊及稳定辊退锌溶液
0088-0098、 可收集熔渣的镀锌槽
0009-0099、 用于预处理金属表面以形成磷酸盐层的调节液与调节方法
0174-0100、 金红石疏水薄膜的强化直流磁控溅射制备方法
0050-0101、 高效和长寿命的场致发光磷光体的制备方法
0008-0102、 钢材的表面处理剂和表面处理过的钢材
0186-0103、 碳膜及其形成方法以及碳膜被覆物品及其制造方法
0022-0104、 金属材料用表面处理剂组合物及其处理方法
0075-0105、 同时铝化镍基和钴基超级合金的方法
0214-0106、 机械能助渗金属表面改性新技术
0211-0107、 电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜技术
0149-0108、 热镀锌方法及装置
0148-0109、 淀积双轴结构涂层的方法与设备
0059-0110、 高炉风口抗冲蚀防护层及其制造方法
0102-0111、 钢铁冷变形加工的磷化液及其磷化工艺
0139-0112、 用于金属表面磷酸盐化的水溶液和方法
0047-0113、 气体渗碳炉废气循环利用的方法
0127-0114、 化学汽相淀积装置及其净化方法和半导体制造装置
0041-0115、 表面处理支承装置、表面处理支架、表面处理方法，以及表面处理设备
0136-0116、 有机真空镀膜掩膜板的制作方法
0002-0117、 一种掺铌钛酸钡薄膜材料及其制备方法
0054-0118、 一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶度的方法
0005-0119、 一种半导体电热膜的工艺配方及加工方法
0201-0120、 无电解镀处理方法及前处理剂
0171-0121、 用于筒形反应器的基座
0044-0122、 制造制件内部通道的方法及具有内部通道的制件
0026-0123、 多功能表面处理的方法及实施该方法的设备
0125-0124、 给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法
0064-0125、 甲硅烷氢化物功能树脂上的无电金属沉积
0110-0126、 一种常温磷化液
0128-0127、 一种滑动轴承喷涂材料
0114-0128、 放电表面处理方法和实施该方法的装置及电极
0151-0129、 镁合金化学改性皮膜的非铬系处理
0012-0130、 气缸套的表面氧化处理配方及其工艺
0016-0131、 含混合稀土元素高阻溅射靶材
0113-0132、 一种制冷机芯钢管内壁表面处理方法
0117-0133、 克锈液
0146-0134、 一种在不锈钢或镍基合金钢制成的构件表面上产生一增强氧化物涂层的方法
0035-0135、 化学镀镍的预处理溶液及预处理方法
0164-0136、 通过电渗析再生化学镀金属沉积浴液的方法和装置
0085-0137、 利用化学蒸汽沉积法形成氧化铝膜的化合物和制备该化合物的方法
0141-0138、 线路结构的生产方法
0177-0139、 回收磷酸盐化学转化中的水性洗液方法和用于金属表面处理的装置
0198-0140、 等离子体处理装置
0071-0141、 制备类金刚石薄膜的装置
0104-0142、 气体擦拭装置和方法
0062-0143、 低摩擦镀层
0188-0144、 一种化学镀镍配方及其应用
0157-0145、 化学镀镍溶液及其制备和使用方法
0160-0146、 制备复合涂层的方法
0150-0147、 斑锡金属日用工艺品
0183-0148、 材料表面光亮合金催化液
0118-0149、 镁合金的表面处理方法
0093-0150、 电烤锌工艺
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0021-0152、 激光处理取向硅钢表面的方法
0135-0153、 覆膜特性优良的取向性电工钢板及其制造方法
0083-0154、 用退火隔离剂涂覆电炉钢带的方法
0142-0155、 钨的超微粒子及其制法
0155-0156、 热浸镀稀土铝合金的方法
0169-0157、 薄膜的制作方法及制作装置
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0138-0160、 镀铜添加剂及其制备方法和在焊丝镀铜中的应用
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0123-0215、 低介电常数绝缘介质α－SiCOF薄膜及其制备方法
0087-0216、 用离子束对聚合物,金属和陶瓷材料进行表面改性的装置
0217-0217、 钢工件表面钝化处理的方法
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