涂层、具有涂层、涂层拉丝、反射涂层生产及应用技术
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涂层、具有涂层、涂层拉丝、反射涂层生产及应用技术
作者:百创科技    金属矿产来源:本站原创    点击数:    更新时间:2024/2/8
0129-0001、 具有减少的裸点和优异的镀层附着力的热浸镀锌和锌合金的钢板及其制造方法
摘要、 一种热浸镀锌和锌合金钢板和一种合金化的热浸镀锌和锌合金钢板,以及一种用于制造这些钢板的方法,这些钢板用于汽车。热浸镀锌和锌合金的钢板具有位于镀层正下面的由易氧化元素形成的氧化物,这种钢板具有减少的裸点数以及优异的镀层附着力。依据这种方法,将热轧过程中的卷取温度设为不小于600℃并且以慢冷速度进行冷却以使氧化物保留至后续步骤之后。
0196-0002、 放电表面处理用电极及制造方法、放电表面处理方法及设备
摘要、 一种放电表面处理方法,由此在电极(14)和工件(2)之间引起放电,从而利用所产生的能量在工件(2)的表面上形成硬涂层(16),所述方法包括以下步骤:把金属粉末、金属化合物粉末、陶瓷材料粉末或这些粉末的混合物用作电极材料;通过压紧而使电极材料成形后,在电极材料中用作粘合剂的一部分材料熔化的温度下进行焙烧而形成电极;以及使得在电极(14)与工件(2)之间发生电弧放电,此电弧放电是脉冲形状的电弧放电、连续电弧放电或连续电弧放电与间歇电弧放电的结合,从而利用该电弧放电的能量在所述工件(2)的表面上形成硬涂层(16)。
0211-0003、 电镀方法及其使用的镀液前体
提供一种电镀方法,该方法在工业上能广泛使用具有优良性能的氧化还原体系无电电镀方法,和提供一种电镀浴前体,该前体是优选用于电镀方法。该电镀方法包括将电镀浴的氧化还原体系的第一种金属离子从较低氧化态氧化成较高氧化态,和将所说氧化还原体系的第二种金属离子还原并沉积在待电镀的物体表面上,其中提供了一种给电镀浴供应电流的处理步骤,将第一种金属离子从所说较低氧化态还原,由此活化该电镀浴。形成电镀浴前体使电镀浴稳定以便实质上不会发生第二种金属离子的还原和沉积,以改进其储存性能。
0007-0004、 等离子加工室的温控方法及设备
摘要、 等离子加工室(10)包括一个基片座(12)和一个具有面对基片座的内表面的绝缘件如绝缘窗口(20)或气体分配板,在基片加工过程中上述内表面保持低于阈值温度以尽量减小加工漂移。加工室可包括一个天线(18),该天线通过绝缘件感应耦合RF能量以便使工艺气体被赋能而达到等离子状态。天线可包括一条通道(24),其中通过已被闭合回路温度控制器冷却的温控流体。内表面的温度控制减小了在基片连续加工过程中,如在半导体晶片的氧化腐蚀过程中的加工漂移和质量下降。
0086-0005、 用于处理磷酸盐化的金属表面的组合物和方法
摘要、 一种处理有转化涂层的金属表面的漂洗液,它适合改善快干涂层的粘附力和耐腐蚀性,该漂洗液包括IVA族金属离子(即锆、钛、铪离子及其混合物)和酚聚合物的水溶液,pH值大约为3.5至5.1。一种通过将漂洗液施于基材处理这种材料的方法。
0189-0006、 具有良好润滑耐磨性能的金属基复合梯度材料,其制备方法和用途
摘要、 公开了一种具有良好润滑耐磨性能的金属基复合梯度材料,其特征在于,该材料以金属M为基,并在其表面存在一个金属硫化物M(S)和金属氧化物M(O)的复合梯度层,在该复合梯度层内M(S)的浓度Ds与M(O)的浓度Do之和Ds+Do从表面到内部逐步降低,而金属M的浓度D,M,从表面到内部逐步增加。还公开了上述复合梯度材料的制备方法和该材料的用途。
0038-0007、 用于离子源的磁性过滤器
摘要、 提供一种用于离子源(26)的磁性过滤器(90)。离子源包括限定等离子体约束室(76)的外壳,其中通过使源材料离子化产生包括离子的等离子体。该外壳包括一般是平面的壁(50),其中形成有可以经其从等离子体提取离子束(84)的多个细长开口(64)。多个细长开口基本上相互平行地定向,并且与位于平面壁内的第一轴(66)基本平行,第一轴与也位于平面壁内的第二轴(68)基本正交。磁性过滤器(90)设置在等离子体约束室(76)内。磁性过滤器把等离子体约束室分隔成第一区(86)和第二区(88)。磁性过滤器包括多个平行的细长磁体(90a-90n),与第二轴(68)成夹角θ地定向,并且位于通常与一般是平面的壁(50)平行的平面内。
0008-0008、 一种碳钢表面耐磨涂层的制备工艺
摘要、 通过选用特定的化学反应、润湿层物质及物料的有序堆放,采用高温气压自蔓延反应方法在普通碳素结构钢表面制备了Ni,3,Al-Cr,7,C,3,复合材料涂层,该制备方法工艺简单,节能,所制备的涂层纯度高,微观组织致密良好涂层与底材为牢固的冶金结合涂层具有良好的室温抗磨性能及较高的硬度,其耐磨性是轴承钢的4~7倍。
0156-0009、 碳钢及合金钢表面涂覆铝刚玉化层的制造方法
摘要、 本发明公开了一种碳钢及合金钢表面涂覆铝刚玉化层的制造方法。该方法主要工艺过程包括对钢材的表面进行前处理涂覆纯铝层及高温熔融强氧化生成腁l,2,O,3,刚玉化层。本发明技术要点是:碳钢及合金钢表面的活性处理及涂覆纯铝层的工艺条件和刚玉化工艺条件。本发明所制成的钢材表面涂覆铝刚玉化层具有极高的硬度、耐磨性、耐蚀性和耐温性,可广泛用于石油化工、机械行业,也可广泛用于其他领域。
0081-0010、 带有覆层的制品
摘要、 用由Ni层、难熔金属层,较好是Zr层,以难熔金属的化合物和难熔金属组成的多个交替层所构成的夹心层、在该夹心层上的难熔金属化合物层及难熔金属的氧化物层或由难熔金属、O和N的反应产物构成的层所组成的多层覆层镀覆的一种制品。该覆层提供了抗刮伤、防腐蚀和改善了的耐酸性能。
0092-0011、 低含量铜和锰的锌磷酸盐处理方法
0128-0012、 抗腐蚀的表面处理过的金属材料和其表面处理剂
0032-0013、 金属材料表面化学镀镍再套镀硬铬的方法
0051-0014、 涂膜刀具
0109-0015、 沉淀硬化不锈钢表面冶金工艺
0151-0016、 金属表面合金催化液
0022-0017、 离子化学热处理设备
0078-0018、 从无电镀镍浴中去除亚磷酸根离子
0026-0019、 热浸镀电缆挂勾件及其制作工艺
0184-0020、 淀积电催化剂的方法和用该方法形成的电极
0083-0021、 一种心血管系人工器官表面改性技术
0174-0022、 低融点金属熔融液中钢铁制驱动零件的表面防蚀方法
0169-0023、 火焰熔融喷敷修补用粉状混合物
0069-0024、 在移动基材上沉积富碳涂层的方法和装置
0208-0025、 防御电站锅炉过热器热腐蚀的金属碳化物涂层
0065-0026、 溅射截面的模拟方法
0006-0027、 离子镀膜前工件处理工艺及除油、去污清洗剂
0025-0028、 使用籽晶层形成PZT薄膜的方法
0133-0029、 形成碳膜的方法
0027-0030、 外延生长用气体的供给方法及其装置
0073-0031、 镀熔融金属的装置
0048-0032、 泥尘的处理方法
0124-0033、 二氧化硅薄膜的生产设备及其所用的生产方法
0113-0034、 具有涂层的制品
0204-0035、 金刚石薄膜冷阴极结构及其制备方法
0082-0036、 铝合金轮圈表面处理法
0181-0037、 用于保护镀锌层的无铬钝化液及其涂覆方法
0149-0038、 金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺
0135-0039、 高温保护涂料
0180-0040、 喷射等离子体方法,沉积涂层的设备及制得的涂层
0037-0041、 热喷涂方法及设备
0099-0042、 用于电弧等离子体沉积设备的喷嘴式喷射器
0187-0043、 金属底材的防腐蚀方法和组合物
0137-0044、 表面耐磨损烧结机件及其制造方法
0172-0045、 化学镀镍层的发黑处理方法
0056-0046、 生产低内部热应力的耐磨涂覆压板的高速扫描溅涂法
0035-0047、 一种热处理工艺及设备
0157-0048、 利用热灯丝直流等离子体进行金刚石成核和沉积的设备及方法
0164-0049、 基底的真空镀层方法和设备
0087-0050、 溅射靶及其制备方法
0167-0051、 单体喷射器和沉积室
0192-0052、 硅衬底上适于键合技术的金刚石膜制备工艺
0009-0053、 金属表面处理剂
0179-0054、 形成银膜用化学溶液和采用该化学溶液形成银膜的方法
0096-0055、 具有涂层的制品
0131-0056、 小零件渗铬的改进方法
0134-0057、 除污性优良的研磨加工不锈钢板及其制造方法
0123-0058、 可调且可去除的等离子体淀积的抗反射涂层
0147-0059、 利用激光辅助自蔓延在金属表面形成陶瓷涂层的方法
0029-0060、 用于溅射或电弧蒸发的设备
0057-0061、 钽喷丝头表面等离子体强化技术
0089-0062、 表面上具有涂层的制品
0214-0063、 一种活塞环气体氮化的生产工艺
0050-0064、 对空心导体的金属表面进行化学镀覆的方法和装置、空心导体、电机的定子棒以及...
0047-0065、 一种钛铝金属间化合物的表面处理技术
0114-0066、 镀敷方法
0130-0067、 高抗黑变性能电镀锌钢板的生产方法
0143-0068、 淀积膜形成系统和方法
0106-0069、 液化气的受控输送系统及方法
0212-0070、 纳米金刚石粉预处理的大面积金刚石膜材料的生长工艺
0058-0071、 钢带的磷酸盐化方法
0023-0072、 一种化学镀镍光亮剂
0177-0073、 一种新结构多性能BaTiO3超晶格材料
0102-0074、 等离子体活化蒸发法沉积二氧化硅
0111-0075、 带有含硼和氮的超硬涂层的基质及其制造方法
0199-0076、 用等离子体聚合反应来改善制冷和空调用金属的表面
0098-0077、 多功能前处理液及其制作方法
0118-0078、 薄钢板镀锌装置及其方法
0176-0079、 蒸镀装置
0161-0080、 用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备
0085-0081、 存储二进制数据的数据载体和制备该数据载体的方法
0146-0082、 涂有多层涂层的物件
0033-0083、 具有优良冲制性能的无取向电工钢薄板及其生产方法
0036-0084、 电镀钢板
0046-0085、 一种钢件表面铁铬硅涂层制备技术
0079-0086、 带有覆层的制品
0139-0087、 镀层制品
0034-0088、 一种生产钛-陶瓷结合的复合材料体系的方法
0117-0089、 大致平的片状衬底的镀膜装置
0028-0090、 一种碳基薄膜合成方法
0136-0091、 减少污泥的锌磷化工艺及组合物
0207-0092、 气体分配系统
0097-0093、 一种用于金属塑性加工的锌钙系磷化液
0206-0094、 真空装置用驱动机构及真空装置
0040-0095、 废塑料处理设备的防蚀处理方法
0011-0096、 纯化物理气相沉积过程中工作气氛的吸气系统
0090-0097、 单晶硅-纳米晶立方氮化硼薄膜类P-N结及其制作方法
0016-0098、 反应磁控管溅射装置和方法
0115-0099、 氧化锌薄膜、光电转换元件、及它们的生产方法
0049-0100、 制造切削刀具的方法和设备
0093-0101、 低含量镍和/或钴的锌磷酸盐的处理方法
0120-0102、 带有装饰和保护覆层的制品
0101-0103、 低应力立方氮化硼薄膜及其制备装置和制备方法
0154-0104、 液体输送系统
0001-0105、 无电镀铜溶液和无电镀铜的方法
0064-0106、 单片式磁控管溅射装置
0100-0107、 由电弧等离子体高速淀积法形成的保护涂层
0105-0108、 齿轮二段碳氮共渗工艺
0150-0109、 锌-镍合金镀层的黑色钝化工艺
0019-0110、 从熔融金属中除去底部熔渣的方法和设备
0002-0111、 高温合金的抗腐蚀强度
0132-0112、 用于半导体制造的石英玻璃构件
0142-0113、 一种直接分解式渗碳工艺
0054-0114、 等离子束喷涂强化工艺
0075-0115、 具有经改进之初始润湿性的陶瓷蒸发皿
0168-0116、 特别是滑动轴承的热喷涂方法
0195-0117、 热侵镀锌合金及其制造方法
0158-0118、 功能性薄膜的形成方法及形成装置
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0043-0120、 航空发动机钢制叶片低温渗铝工艺
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0041-0122、 脉冲辉光放电等离子表面冶金技术
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0215-0124、 带有保护层系的刀具
0020-0125、 一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法
0061-0126、 航空发动机钢制叶片多次低温渗铝工艺
0140-0127、 一种在高声速材料衬底上生长氮化铝压电薄膜的方法
0015-0128、 内加热式浸镀锅
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0017-0133、 由金属制成的薄壁整体式金属氧化物结构以及制造此种结构的方法
0144-0134、 C3N4/MN多层复合超硬薄...
0030-0135、 覆层金属带
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0163-0137、 用化学汽相沉积制作薄膜的方法和装置
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