镀膜、镀膜方法、离子镀膜、制品镀膜生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0004-0001、 一种除锈磷化液
摘要、 一种除锈磷化液，能实现酸洗磷化一步法工艺。它是由磷酸、酒石酸、油酸酰胺丙烯*、磷酸三钠、聚氧乙烯辛烷基酚醚、邻*硫脲和水配制而成。另外还配有添加剂—咪唑啉衍生物，从而达到消除“三废”污染、提高金属表面的涂装质量和降低成本的目的。
0030-0002、 铝锡合金电镀耐磨、减摩合金的预浸合金工艺
摘要、 用含锡量较低的低锡铝合金来代替含锡量高的高锡铝合金制造耐磨、减摩性能好的机械零部件,需要在零件的工作面电镀耐磨、减摩镀层.为获得镀层与基金属之间良好的结合力,本发明采用预浸Ｚｎ－Ｎｉ合金的方法来代替传统的两次浸锌工艺,获得良好效果.例如在低锡铝合金(含锡量6%)工作表面电镀Ｐｂ－Ｓｎ合金,表面光洁度为∴8,弯曲试验直至折断未见起层、掉渣、无起泡,Ｈｖ硬度为７－９.
0128-0003、 蜡的化学粗化处理溶液
本发明描述的化学粗化处理，使用一种特殊配方的溶液，该溶液由K,2,Cr,2,O,7,、CrO,3,、H,2,SO,4,组成，粗化处理时间为３０－３００秒，再经敏化、活化，即可进行化学电镀。该溶液还可用于含有蜡和某些金属、玻璃或陶瓷构成的复合蜡模，进行化学粗化处理。用本发明描述的化学粗化溶液处理蜡模，得到的导电金属膜有较强的附着力，贴模面不失真地保持原蜡模表面细节，其颜色为该金属的本色。经表面金属化的蜡模即可电铸各种金属制品。
0176-0004、 金属零件的室温式低温硫化
摘要、 一种对铸铁、钢及硬质合金零件或刀具摩擦表面进行硫化的工艺方法，其方法是硫化前先经活化处理，采用由Ｎａ,2,Ｓ,2,Ｏ,3，ＫＨＳＯ,4，Ｋ,4,Ｆｅ（ＣＮ）,6,和水组成的硫化剂溶液，同时硫化过程是在接近于沸腾温度下或在室温加超声振荡条件下进行。本发明工艺简单、操作方便，硫化时间短，硫化后的金属零件摩擦表面摩擦系数小，抗擦伤能力强，抗咬好性能良好，可广泛用于机械传动、刀模具及其它摩擦副零件。
0190-0005、 除油除锈磷化液
摘要、 一种除油除锈磷化液，可使钢铁构件的清洗，除油、除锈、磷化等工序同步进行，简化工艺，降低成本。钢铁构件经本发明除油除锈磷化液浸渍处理后，可除去表面油、锈迹及表面氧化皮，且表面层会形成轻量型磷化膜保护层提高金属抗腐能力。该层也增强了金属与油漆的粘着力，简化金属的涂漆工艺，节省人力物力。配制、使用本发明除油除锈磷化液不污染环境。
0036-0006、 一种钢的扩散渗铝工艺
摘要、 该工艺采用的渗铝剂配比为:2～5%废铝渣粉(100～200目)+2～4%ＮＨ,4,Ｆ（或ＮａＦ）+1～3%ＫＦＨＦ+物料(余量)、其中物料的配比为:30～40%［30～50%废铝渣粉(100～200目)+2～4%ＮＨ,4,Ｆ(或ＮａＦ)+1～3%ＫＦＨＦ+ＡＬ,2,Ｏ,3,（余量）］+70～60%铸铁屑,物料混匀后装入熔封的钢箱中于950℃透烧3小时,出炉随箱空冷至室温.该工艺处理温度为900℃～1000℃,时间视所需渗层厚度确定.适用于钢材的表面渗铝.
0123-0007、 表面处理的方法及其设备
摘要、 一种在被处理物质表面上形成—碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的表面涂层的方法，包括把由一种高熔点材料的粉末和一种用以形成一种碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的金属粉末或一种它们的合金粉末组成的一种处理剂装入一个流化床炉子，把流化气导入流化床炉子以流化处理剂并形成一流化层，把被处理材料装入流化层并且把预定量的卤化物导入流化层；以及用来在被处理材料上形成一表面涂层的一种设备，包括一个用来在处理剂的流化层中形成表面涂层的设备。
0131-0008、 溅射源用的充气器
摘要、 一种能向阴极靶[8、靶面和工件表面分别喷射工作气体和活性气体的磁控溅射源用的充气器，采用这种充气器能使靶面免受污染，工作气体利用率提高４０％，薄膜中杂质含量降低２０％，且不产生阴影。同通混合气体的方案相比，溅射速率提高８０％以上。
0169-0009、 机械零件中温锰基磷化
摘要、 本发明提出的机械零件中温锰基磷化是在高温锰基磷化液中加入一种或两种添加剂，使磷化液的磷化温度下降２０℃，并在较短的时间内在金属表面获得均匀的和致密的磷化膜，这种膜广泛应用于改善机械零件的减磨性特别适用于改善齿轮的跑合性能提高抗胶合能力。
0210-0010、 热镀锌合金空腹钢结构门窗
摘要、 本发明是采用热镀锌合金来有效地解决空腹钢结构门窗的防腐特别是内防腐问题，以及将铝合金门窗结构在不变的情况下，使用镀锌合金料来制作“仿铝门窗”的工艺方法。
0086-0011、 用椭圆仪监控多层介质膜的方法
0209-0012、 一种金属喷涂表面预处理方法
0058-0013、 金属磷化工艺
0136-0014、 用于锌或镉表面的含酸性铬的涂复液
0005-0015、 监控光学镀膜厚度的双光束光学系统
0083-0016、 无电浸镀金溶液
0061-0017、 铝的锡焊表面处理方法
0017-0018、 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
0149-0019、 耐高温冲击磨损等离子喷焊镍基合金加碳化物复合粉末涂层材料
0185-0020、 双层辉光离子渗金属炉
0187-0021、 稀土－铝合金热浸渗铝
0179-0022、 大分子物质为单体源的等离子体聚合
0201-0023、 熔锌表面覆盖物
0137-0024、 提高带涂层铜线钎焊性能的热涂法
0107-0025、 制造光电器件和其它半导体器件用的氢化非晶硅合金的沉积物原料和掺杂剂材料
0139-0026、 在不导电材料上刷镀金属的方法
0049-0027、 给核燃料芯块涂可燃吸收剂用的设备
0101-0028、 铁基粉末冶金制品烧结-渗硼一体化工艺
0098-0029、 机械零件
0165-0030、 汽相淀积金刚石的方法及装置
0182-0031、 用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法
0195-0032、 金属钢管束内外壁防腐技术
0156-0033、 钢制品镀膜前净洗工艺
0046-0034、 制备透明的无光雾的氧化锡涂层的方法
0108-0035、 钼或钼合金抗氧化涂层的渗制方法及其产品
0076-0036、 用于离子镀膜的冷U阴极装置
0014-0037、 石膏-金属铝的气体喷涂工艺
0152-0038、 不烘烤防爆热镀锌
0162-0039、 铝的粉末法可控渗镀
0033-0040、 复合硬质涂层材料
0148-0041、 一种直生式可控气氛渗碳工艺
0170-0042、 铋／锡氧化物喷镀膜
0013-0043、 金属喷涂层的普通加热炉重熔工艺
0055-0044、 冀形管热镀锌工艺和装置
0140-0045、 徽波增强式化学汽相淀积法及设备
0200-0046、 表面处理的方法和装置
0142-0047、 料浆法生产低碳钢渗铝锅工艺
0085-0048、 低碳钢剪刀及其热处理工艺
0204-0049、 金属件煮黑防锈剂及其使用
0074-0050、 清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
0070-0051、 磷酸盐处理溶液和工艺
0191-0052、 基片涂层设备
0110-0053、 溅射涂层设备用的靶中的阴极/接地屏蔽配置
0184-0054、 半导体活化材料化学镀铜镍技术
0120-0055、 耐火材料模具表面喷焊耐磨涂层的工艺
0138-0056、 活塞环表面强化等离子喷涂层材料
0034-0057、 金刚石镀钛工艺
0141-0058、 分离磁体式平面磁控溅射源
0193-0059、 低热膨胀系数薄磁性金属层的制造方法
0161-0060、 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
0025-0061、 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
0015-0062、 微薄层涂镀
0102-0063、 无外加热源真空离子渗碳
0202-0064、 热镀锌助镀剂
0080-0065、 形成沉积薄膜的方法
0050-0066、 线材涂料
0037-0067、 向制品上镀敷金属的方法及设备
0081-0068、 铝膜玻璃保温瓶瓶胆及其铝膜的制备
0153-0069、 多源型平面磁控溅射源
0001-0070、 真空镀膜采用致冷器的冷却方法
0089-0071、 镀有金属的塑料制品及其制造方法
0040-0072、 金属合金氧化物的溅射薄膜
0075-0073、 一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两用连续涂镀设备
0174-0074、 钢铁快速钝化处理工艺
0151-0075、 普通玻璃真空镀铜合金制茶镜工艺
0059-0076、 高速钢材料表面化学热处理工艺方法
0066-0077、 氮化处理的后处理方法
0207-0078、 材料涂敷设备
0068-0079、 真空化学反应设备
0093-0080、 利用磁场的微波增强型化学气相淀积系统和方法
0122-0081、 薄膜形成装置
0038-0082、 在无机非导体表面产生金属结构物的方法
0168-0083、 用碳膜涂复塑料制品的微波增强CVD法及其产品
0211-0084、 锯切工具离子渗金属技术
0213-0085、 一种钢铁表面离子镀固体润滑膜的方法
0203-0086、 软磁合金薄带绝缘涂层的形成方法
0008-0087、 锌钙系磷化液
0100-0088、 耐久的金属合金氧化物溅射薄膜
0125-0089、 多室淀积系统
0158-0090、 钢件活化催渗气体快速渗碳法
0067-0091、 钢的耐候性防锈膜快速形成法
0118-0092、 镀金属的聚合物
0115-0093、 用于气相淀积的方法和装置
0188-0094、 低温电解渗硫盐浴不老化的方法
0206-0095、 聚氯乙烯塑料硬片镀铝方法
0002-0096、 金刚石表面金属化的技术
0177-0097、 在长零件上获得涂层的方法
0063-0098、 用于将铜、镍、钴及其合金进行化学沉积的一种碱液浴及其工艺过程
0124-0099、 一种粉末法钢件表面硬化处理工艺
0095-0100、 一种用于快速化学热处理的自动通用设备
0031-0101、 多束金属和气体粒子束发生装置
0172-0102、 流延聚丙烯真空镀铝簿膜的方法
0181-0103、 无电镀银的改良还原剂及方法
0051-0104、 具有与细长纤维状部件接触的抗磨表面的机器部件
0166-0105、 锗基片单层硫化锌高强度增透膜
0192-0106、 多功能除锈防锈剂
0029-0107、 光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法
0020-0108、 生产掺氟氧化锡涂层的改进的化学蒸气沉积法
0155-0109、 高温过程的低辐射薄膜
0007-0110、 滤光片生产中用的掩膜
0104-0111、 非铁金属机械零件
0105-0112、 材料的沉积
0011-0113、 制造择优111，取向钨的方法
0044-0114、 多层包涂硬质合金
0091-0115、 制备沉积膜的方法
0215-0116、 光磁记录介质、溅射用靶及溅射用靶的制造方法
0073-0117、 处理金属表面用的液态组合物
0208-0118、 石英玻璃管喷涂复合涂料的方法
0088-0119、 金属料表面形成合金层的方法及设备
0159-0120、 阴极电弧源离子渗金属技术及设备
0054-0121、 超硬型高速钢刀具低温气体多元共渗
0157-0122、 蒸镀用的氧化钇组成物及反射防止膜的制造方法
0216-0123、 锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜
0180-0124、 带金属涂层的木制品及其制造工艺
0045-0125、 辉光放电阴极输电装置金属与非金属相接触的新结构
0189-0126、 长形金属浸锌工艺
0065-0127、 溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置
0009-0128、 高温合金盐浴渗硼剂及其制备方法
0047-0129、 硼—稀土-硅三元共渗盐浴成份
0072-0130、 电弧点火装置
0056-0131、 粒子尺寸减小之催化性金属
0106-0132、 气体渗碳渗液的控制方法和液体滴注器
0167-0133、 一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法
0023-0134、 稀土,碳,氮三元共渗,稀土,碳二元共渗化学渗剂及配方
0053-0135、 一种含结晶水硼砂固体渗硼方法
0062-0136、 铝稀土合金热浸镀层
0099-0137、 沉积膜形成方法
0196-0138、 含卤素的碳材料及其淀积方法
0164-0139、 淀积碳的微波增强化学汽相淀积（ＣＶＤ）方法
0082-0140、 改进的电弧汽相淀积方法及设备
0092-0141、 在金属制件上制备硅扩散涂层的方法
0012-0142、 电介质/合金/电介质型透明导电膜
0032-0143、 冷硬铸铁轧辊铸渗工艺
0116-0144、 在钢铁产品表面形成保护性覆层的工艺方法
0143-0145、 渗硼用胶膜
0111-0146、 可作磨蚀涂层喷涂的多喷口等离子体喷涂设备和方法
0022-0147、 新型太阳能反光材料及制备技术
0003-0148、 超塑性锌-铝合金工件化学镀镍工艺
0010-0149、 在工件上形成金属表面层的方法
0214-0150、 铝合金表面离子沉积(Ti, Al)N硬质膜的方法
0024-0151、 带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法
0160-0152、 微氮中温气体渗碳工艺
0197-0153、 钢铁表面强化处理方法
0021-0154、 液体法硼铝共渗工艺
0087-0155、 形成沉积膜的方法
0183-0156、 等离子体薄膜淀积过程的控制
0178-0157、 钢铁表面涂漆前处理液—一步磷化液
0043-0158、 金属表面处理方法
0006-0159、 绝缘瓷套低温自催化镀镍镀铜工艺
0026-0160、 固态气相渗硼
0186-0161、 低反射率赤褐色涂层
0090-0162、 深层可控离子渗氮法
0198-0163、 具有保护料浆涂敷和中频感应加热的渗铝方法和设备
0019-0164、 自动沉积浴后清洗工艺
0016-0165、 高速钢表面硫氧碳氮硼共渗工艺
0133-0166、 等离子体沉积保护膜的方法和装置
0109-0167、 金属表面镀覆的工艺方法及所有的组合物
0163-0168、 液体硼铝共渗法
0130-0169、 热轧簿钢板磷化除锈方法
0112-0170、 热浸镀铝的铬合金钢
0145-0171、 高硅铝合金无氢氟酸前处理的化学氧化法
0199-0172、 一种用压力容器对渗后工件的清洗方法
0126-0173、 熔盐电解渗稀土及稀士-硼共渗技术
0121-0174、 一种实现滴状冷凝的方法
0078-0175、 铝合金拉锁着色工艺
0077-0176、 强光离子渗金属装制及其方法
0173-0177、 一种稀土、碳、氮共渗化学热处理渗剂
0028-0178、 最优扩散条件动态可控渗氮技术
0069-0179、 光学塑料镜片镀硬质膜工艺及用途
0150-0180、 枪磁控溅射源
0052-0181、 电子元器件引线热涂易焊合金
0147-0182、 一种改善表面润湿性的工艺方法
0064-0183、 热压成型钢模具表面的离子束处理方法
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0171-0185、 制造具有限定粗糙度的喷涂表面的一种方法及其应用
0119-0186、 表面处理法及其处理材料
0114-0187、 铜和铜合金表面钝化处理方法
0096-0188、 热镀锌中间合金复合添加剂
0146-0189、 膏剂渗硼剂及其保护涂料
0135-0190、 金属平面高频加热膏剂渗硼法及装置
0041-0191、 增压吸附式低温渗硼法
0175-0192、 氮氧钛喷镀膜
0035-0193、 高能级磁控溅射离子镀技术
0048-0194、 非晶形的多金属合金涂料的制造方法
0039-0195、 处理导电型材的方法、实施该方法的设备及所得的处理过的型材
0084-0196、 用于真空沉积镀层的方法和装置
0132-0197、 等离子体加速器法离子镀膜装置
0134-0198、 化学汽相淀积装置
0027-0199、 长管内壁离子渗氮装置
0057-0200、 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
0094-0201、 热镀锌碳化硅槽及附属设备
0154-0202、 大气常压下涂层的等离子喷涂工艺
0097-0203、 金属零件表面形成硫化物层的方法及设备
0212-0204、 电子元件的镀锡方法和装置
0071-0205、 端型多层干涉滤光器及其制作方法
0194-0206、 钢制品的低温渗氮方法
0018-0207、 锡的蒸法镀敷
0103-0208、 敷镀金属工艺
0117-0209、 化学镀铜及其镀浴
0079-0210、 铁基材料的防腐蚀处理工艺
0205-0211、 多孔非金属材料表面真空镀膜的方法
0144-0212、 化合物薄膜形成装置
0129-0213、 一种在含有钒的钛合金制成的叶片上涂覆钴-铬-钨防护涂层的方法和一种有涂层...
0113-0214、 陶瓷玻璃常温化学镀铜、镍、钴
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0217-0217、 铜或铜合金室温镀锡工艺
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摘要、 一种除锈磷化液，能实现酸洗磷化一步法工艺。它是由磷酸、酒石酸、油酸酰胺丙烯*、磷酸三钠、聚氧乙烯辛烷基酚醚、邻*硫脲和水配制而成。另外还配有添加剂—咪唑啉衍生物，从而达到消除“三废”污染、提高金属表面的涂装质量和降低成本的目的。
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0128-0003、 蜡的化学粗化处理溶液
本发明描述的化学粗化处理，使用一种特殊配方的溶液，该溶液由K,2,Cr,2,O,7,、CrO,3,、H,2,SO,4,组成，粗化处理时间为３０－３００秒，再经敏化、活化，即可进行化学电镀。该溶液还可用于含有蜡和某些金属、玻璃或陶瓷构成的复合蜡模，进行化学粗化处理。用本发明描述的化学粗化溶液处理蜡模，得到的导电金属膜有较强的附着力，贴模面不失真地保持原蜡模表面细节，其颜色为该金属的本色。经表面金属化的蜡模即可电铸各种金属制品。
0176-0004、 金属零件的室温式低温硫化
摘要、 一种对铸铁、钢及硬质合金零件或刀具摩擦表面进行硫化的工艺方法，其方法是硫化前先经活化处理，采用由Ｎａ,2,Ｓ,2,Ｏ,3，ＫＨＳＯ,4，Ｋ,4,Ｆｅ（ＣＮ）,6,和水组成的硫化剂溶液，同时硫化过程是在接近于沸腾温度下或在室温加超声振荡条件下进行。本发明工艺简单、操作方便，硫化时间短，硫化后的金属零件摩擦表面摩擦系数小，抗擦伤能力强，抗咬好性能良好，可广泛用于机械传动、刀模具及其它摩擦副零件。
0190-0005、 除油除锈磷化液
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0036-0006、 一种钢的扩散渗铝工艺
摘要、 该工艺采用的渗铝剂配比为:2～5%废铝渣粉(100～200目)+2～4%ＮＨ,4,Ｆ（或ＮａＦ）+1～3%ＫＦＨＦ+物料(余量)、其中物料的配比为:30～40%［30～50%废铝渣粉(100～200目)+2～4%ＮＨ,4,Ｆ(或ＮａＦ)+1～3%ＫＦＨＦ+ＡＬ,2,Ｏ,3,（余量）］+70～60%铸铁屑,物料混匀后装入熔封的钢箱中于950℃透烧3小时,出炉随箱空冷至室温.该工艺处理温度为900℃～1000℃,时间视所需渗层厚度确定.适用于钢材的表面渗铝.
0123-0007、 表面处理的方法及其设备
摘要、 一种在被处理物质表面上形成—碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的表面涂层的方法，包括把由一种高熔点材料的粉末和一种用以形成一种碳化物、氮化物、碳氮化物或固体溶液的金属粉末或一种它们的合金粉末组成的一种处理剂装入一个流化床炉子，把流化气导入流化床炉子以流化处理剂并形成一流化层，把被处理材料装入流化层并且把预定量的卤化物导入流化层；以及用来在被处理材料上形成一表面涂层的一种设备，包括一个用来在处理剂的流化层中形成表面涂层的设备。
0131-0008、 溅射源用的充气器
摘要、 一种能向阴极靶[8、靶面和工件表面分别喷射工作气体和活性气体的磁控溅射源用的充气器，采用这种充气器能使靶面免受污染，工作气体利用率提高４０％，薄膜中杂质含量降低２０％，且不产生阴影。同通混合气体的方案相比，溅射速率提高８０％以上。
0169-0009、 机械零件中温锰基磷化
摘要、 本发明提出的机械零件中温锰基磷化是在高温锰基磷化液中加入一种或两种添加剂，使磷化液的磷化温度下降２０℃，并在较短的时间内在金属表面获得均匀的和致密的磷化膜，这种膜广泛应用于改善机械零件的减磨性特别适用于改善齿轮的跑合性能提高抗胶合能力。
0210-0010、 热镀锌合金空腹钢结构门窗
摘要、 本发明是采用热镀锌合金来有效地解决空腹钢结构门窗的防腐特别是内防腐问题，以及将铝合金门窗结构在不变的情况下，使用镀锌合金料来制作“仿铝门窗”的工艺方法。
0086-0011、 用椭圆仪监控多层介质膜的方法
0209-0012、 一种金属喷涂表面预处理方法
0058-0013、 金属磷化工艺
0136-0014、 用于锌或镉表面的含酸性铬的涂复液
0005-0015、 监控光学镀膜厚度的双光束光学系统
0083-0016、 无电浸镀金溶液
0061-0017、 铝的锡焊表面处理方法
0017-0018、 平面磁控溅射靶及其镀膜方法
0149-0019、 耐高温冲击磨损等离子喷焊镍基合金加碳化物复合粉末涂层材料
0185-0020、 双层辉光离子渗金属炉
0187-0021、 稀土－铝合金热浸渗铝
0179-0022、 大分子物质为单体源的等离子体聚合
0201-0023、 熔锌表面覆盖物
0137-0024、 提高带涂层铜线钎焊性能的热涂法
0107-0025、 制造光电器件和其它半导体器件用的氢化非晶硅合金的沉积物原料和掺杂剂材料
0139-0026、 在不导电材料上刷镀金属的方法
0049-0027、 给核燃料芯块涂可燃吸收剂用的设备
0101-0028、 铁基粉末冶金制品烧结-渗硼一体化工艺
0098-0029、 机械零件
0165-0030、 汽相淀积金刚石的方法及装置
0182-0031、 用等离子体加强氧化硅淀积作用的方法
0195-0032、 金属钢管束内外壁防腐技术
0156-0033、 钢制品镀膜前净洗工艺
0046-0034、 制备透明的无光雾的氧化锡涂层的方法
0108-0035、 钼或钼合金抗氧化涂层的渗制方法及其产品
0076-0036、 用于离子镀膜的冷U阴极装置
0014-0037、 石膏-金属铝的气体喷涂工艺
0152-0038、 不烘烤防爆热镀锌
0162-0039、 铝的粉末法可控渗镀
0033-0040、 复合硬质涂层材料
0148-0041、 一种直生式可控气氛渗碳工艺
0170-0042、 铋／锡氧化物喷镀膜
0013-0043、 金属喷涂层的普通加热炉重熔工艺
0055-0044、 冀形管热镀锌工艺和装置
0140-0045、 徽波增强式化学汽相淀积法及设备
0200-0046、 表面处理的方法和装置
0142-0047、 料浆法生产低碳钢渗铝锅工艺
0085-0048、 低碳钢剪刀及其热处理工艺
0204-0049、 金属件煮黑防锈剂及其使用
0074-0050、 清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
0070-0051、 磷酸盐处理溶液和工艺
0191-0052、 基片涂层设备
0110-0053、 溅射涂层设备用的靶中的阴极/接地屏蔽配置
0184-0054、 半导体活化材料化学镀铜镍技术
0120-0055、 耐火材料模具表面喷焊耐磨涂层的工艺
0138-0056、 活塞环表面强化等离子喷涂层材料
0034-0057、 金刚石镀钛工艺
0141-0058、 分离磁体式平面磁控溅射源
0193-0059、 低热膨胀系数薄磁性金属层的制造方法
0161-0060、 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
0025-0061、 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
0015-0062、 微薄层涂镀
0102-0063、 无外加热源真空离子渗碳
0202-0064、 热镀锌助镀剂
0080-0065、 形成沉积薄膜的方法
0050-0066、 线材涂料
0037-0067、 向制品上镀敷金属的方法及设备
0081-0068、 铝膜玻璃保温瓶瓶胆及其铝膜的制备
0153-0069、 多源型平面磁控溅射源
0001-0070、 真空镀膜采用致冷器的冷却方法
0089-0071、 镀有金属的塑料制品及其制造方法
0040-0072、 金属合金氧化物的溅射薄膜
0075-0073、 一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两用连续涂镀设备
0174-0074、 钢铁快速钝化处理工艺
0151-0075、 普通玻璃真空镀铜合金制茶镜工艺
0059-0076、 高速钢材料表面化学热处理工艺方法
0066-0077、 氮化处理的后处理方法
0207-0078、 材料涂敷设备
0068-0079、 真空化学反应设备
0093-0080、 利用磁场的微波增强型化学气相淀积系统和方法
0122-0081、 薄膜形成装置
0038-0082、 在无机非导体表面产生金属结构物的方法
0168-0083、 用碳膜涂复塑料制品的微波增强CVD法及其产品
0211-0084、 锯切工具离子渗金属技术
0213-0085、 一种钢铁表面离子镀固体润滑膜的方法
0203-0086、 软磁合金薄带绝缘涂层的形成方法
0008-0087、 锌钙系磷化液
0100-0088、 耐久的金属合金氧化物溅射薄膜
0125-0089、 多室淀积系统
0158-0090、 钢件活化催渗气体快速渗碳法
0067-0091、 钢的耐候性防锈膜快速形成法
0118-0092、 镀金属的聚合物
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0188-0094、 低温电解渗硫盐浴不老化的方法
0206-0095、 聚氯乙烯塑料硬片镀铝方法
0002-0096、 金刚石表面金属化的技术
0177-0097、 在长零件上获得涂层的方法
0063-0098、 用于将铜、镍、钴及其合金进行化学沉积的一种碱液浴及其工艺过程
0124-0099、 一种粉末法钢件表面硬化处理工艺
0095-0100、 一种用于快速化学热处理的自动通用设备
0031-0101、 多束金属和气体粒子束发生装置
0172-0102、 流延聚丙烯真空镀铝簿膜的方法
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0065-0127、 溅射镀膜设备的靶中阴极和接地屏蔽极的配置
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0056-0131、 粒子尺寸减小之催化性金属
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0099-0137、 沉积膜形成方法
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0164-0139、 淀积碳的微波增强化学汽相淀积（ＣＶＤ）方法
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0012-0142、 电介质/合金/电介质型透明导电膜
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0143-0145、 渗硼用胶膜
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0022-0147、 新型太阳能反光材料及制备技术
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0087-0155、 形成沉积膜的方法
0183-0156、 等离子体薄膜淀积过程的控制
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0043-0158、 金属表面处理方法
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