涂层、绝缘涂层、复合涂层、活性剂涂层生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0147-0001、 Ag基合金薄膜及Ag基合金薄膜形成用溅射靶
摘要、 本发明涉及Ag合金膜，尤其适合用于光信息记录介质领域中具有高导热系数、高反射率、高耐久性的光信息记录介质用反射膜和半透过反射膜、耐Ag凝集性优异的电磁波屏蔽用膜、反射型液晶显示元件等背面光反射膜。本发明Ag合金膜是由Bi和/或Sb合计含有0.005～10％(指原子％)的Ag合金膜构成。本发明进而涉及用于这种Ag合金膜的成膜的溅射靶。
0169-0002、 将试剂延期注入等离子体的注射器和方法
摘要、 提供了用于将流体注入等离子体流的方法和装置，其在长时间使用过程中能均匀分配并且减少堵塞的可能性。一种喷嘴(2)，包含用于限制流体流动的第一通道部分(6)，其外形使得第一通道部分(2)的内壁平行于第一轴(9)。该喷嘴(2)也包含与第一通道部分(69)流体连通的第二通道部分(8)。第二通道部分(8)包含凹壁部分，使第二通道部分(8)的内壁以预定角度偏离第一轴(9)。第二通道部分(8)减少了使用期间堵塞层在第二通道部分(8)的内壁上的形成。而且，喷嘴(2)还可以包含伸入等离子体的尖端部分(28)。喷嘴(2)可以并入注射器体系或者在注射器体系中可互换，所述注射器体系被设计用于在等离子体沉积装置中操作。
0203-0003、 反应器壁上的金刚石涂层及其制造方法
半导体工艺设备如等离子体腔的一种包括一个含金刚石的表面的抗腐蚀部件，及其制造方法。
0158-0004、 用于对金属带进行浸镀的方法和设备
摘要、 本发明涉及一种用于在一箱体(11)内对金属带(1)执行连续热浸镀的方法，其中的箱体(11)中容纳有一种液态金属镀液(12)，该方法包括：连续地将金属带(1)松卷送入到一导管(13)中，导管(13)的下部(13a)浸入到液态金属镀液(12)中，并利用所述镀液的液面形成了一液封(14)；使液封表面上的液态金属自然地流到所述导管(13)内的一溢流隔室(25)中；设置一内壁板，其在导管(13)的下部中延伸；将所述隔室(25)内液态金属的液面保持在低于液封(14)表面的液位上。本发明还涉及一种用于实施该方法的设备。
0073-0005、 沉积薄膜及其制造方法
摘要、 本发明公开了一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层对于基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米，其氧气渗透率不超过40毫升/米，2,，·天·兆帕以及水蒸汽渗透率不超过4.0克/米，2,，·天。氧化铝沉积薄膜(1)的荧光X射线强度(A)(铝Kα射线)与没有通入氧气得到的铝沉积薄膜(2)的荧光X射线强度(B)(铝Kα射线)之比(A/B)为(A/B)≤0.85。
0173-0006、 物理汽相淀积靶及制造金属材料的方法
摘要、 本发明涉及一种物理汽相淀积靶，该靶由面心立方单位晶格的金属或合金构成，其平均晶粒尺寸小于30微米，最好是小于1微米；并具晶体结构。本发明还公开了一种制造溅射靶的方法。该方法包括制备坯料；以预定的路径和次数进行等槽角挤压；并在等槽角挤压之后进行交叉轧制或锻造。
0175-0007、 涂布装置
摘要、 本发明的涂布装置具有使在浸渍容器(内容器)内上升的所述流体(粉状体等)从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、再将其从该溢流体流入容器(外容器)的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统浸渍容器的深度对内径之比为1/3～2/3。假如浸渍容器的深度太深，则在浸渍容器上方粉状体等绷紧有可能会发生不能将被处理物顺利地插入的现象，但本发明中因为将浸渍容器的大小规定如上，所以能保持粉状体等的柔软性。
0166-0008、 锻压成形和化学处理的金属材料表面处理剂及其处理方法
摘要、 一种非常适合于锻压成形和化学处理的车用金属板；和生产该金属板的方法。表面处理剂主要由(A)：一种或多种选自锌、铁、锰、镍、钴、钙、镁、和铝的2价或3价金属的磷酸盐，该磷酸盐的平均粒子直径为3μm或更小(B)：组分(A)的分散剂和水组成。表面处理剂是应用在金属板的表面，然后进行干燥。分散剂(B)的实例包括正磷酸、聚磷酸，和有机磷酸的化合物。由化学式(1)表示的单体所形成的聚合物也可使用。此外，单糖、多糖，和醋酸乙烯酯的聚合物或衍生物也可使用。最好是将表面处理剂应用在金属板的表面，以便在干燥的基材上形成一层含量为0.05～3g/m，2,，的膜。
0189-0009、 等离子体分解法制备类金刚石薄膜的方法及其装置
摘要、 本发明为一种类金刚石薄膜的制备方法及其相应的制备装置。它以碳氢化合物气体*作为碳源，采用等离子体分解结合高能离子轰击技术，在经过清洗的待镀基体上沉积得到类金刚石薄膜。本发明制备设备简单，无需专门的安全防卫设施，成膜条件宽泛，制造成本降低，获得的碳膜具有类似金刚石的红外波段透明，电绝缘性能良好等特性，作为超硬材料，其显微硬度优于传统的TiN和TiC等硬质膜，在机械加工、医疗器械、电子工业和装饰行业等领域有广泛的实际应用。
0067-0010、 无机/有机介电薄膜的沉积系统及方法
摘要、 提供了一种在衬底表面上沉积介电膜的系统和方法，所述系统具有一个带有用于支撑衬底的衬底支架的处理室和一个或多个用于将气体送入处理室的气体入口提供了在所述处理室内确定第一个等离子体区的第一个等离子体源，而且还提供了在所述处理室内确定第二个等离子体区的第二个等离子体源。气体分别在所述第一个和第二个等离子体区发生不同程度的离子化，而且，这些分别离子化的气体发生反应，在衬底表面上形成介电膜。
0095-0011、 覆碳膜部件及其制法
0124-0012、 具有光催化涂层的底材
0036-0013、 对镀锌件具有自调功能的低铬强化钝化液
0089-0014、 钽和铌的坯料及其制造方法
0204-0015、 抗压制擦伤性和耐卷曲变形性优异的表面处理金属板及其制造方法
0051-0016、 封隔涂层
0066-0017、 复合材料及其制备方法
0080-0018、 用于制造低反射率薄膜的方法和设备
0044-0019、 化学置换镀金溶液及用于制备该电镀液的添加剂
0148-0020、 形成金属薄膜的方法
0214-0021、 形成金属氧化物膜的方法和在气体放电管中形成二次电子发射膜的方法
0182-0022、 一种玻璃镀膜用混合气体及其制备方法
0114-0023、 Ti-Ni-Si三元金属硅化物合金涂层材料
0038-0024、 利用多孔性金属过滤器回收催化金属的方法
0048-0025、 一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置
0134-0026、 金属表面处理组合物、金属表面处理方法以及由此得到的镀锌钢板
0034-0027、 蒸镀方法及显示装置的制造方法
0057-0028、 用于形成栅氧化物膜的硅化铪靶材及其制备方法
0115-0029、 SiC/TiN超硬纳米多层膜及其制作工艺
0101-0030、 环保型多方式、快速节能铁系磷化液
0026-0031、 一种刚玉－莫来石复相陶瓷涂层的制备方法
0085-0032、 大面积钨、钼及其氧化物纳米线与阵列以及其制备与应用
0192-0033、 溅射装置及溅射成膜方法
0193-0034、 高熔点金属制品的再生
0088-0035、 溅射靶及其制备方法
0123-0036、 电镀树脂模制品及其制造方法
0176-0037、 用于制造车辆用空调器中间散热片的工具及对工具表面进行处理的方法
0075-0038、 真空涂层设备
0156-0039、 亚*锌水溶液及其制造方法
0070-0040、 一种机械镀锌工艺
0171-0041、 复合构成物及其制作方法
0025-0042、 一种氧化铝－氧化硅复合氧化物薄膜制备工艺
0137-0043、 具有射频电源供应单元的双频式真空沉积设备
0028-0044、 非导体表面金属化的方法
0078-0045、 复合构造物及其制作方法和制作装置
0050-0046、 等离子涂层方法
0129-0047、 一种钝化颗粒镁及其制备方法
0058-0048、 赋予张力性绝缘皮膜的粘合性优异的单取向硅钢板及其制造方法
0153-0049、 中央多弧源式离子镀方法
0087-0050、 叠层薄膜以及淀积方法
0131-0051、 加热坩埚和采用此加热坩埚的沉积装置
0155-0052、 承受高温的物件及其制造方法
0139-0053、 有机锆复合材料及其合成法、含有其的原料溶液及形成锆钛酸铅膜的方法
0190-0054、 镜面光亮光干涉彩色不锈钢花纹图案的制作方法
0037-0055、 一种回收催化金属的方法
0104-0056、 常温下微波等离子体和激光联合处理材料表面的方法
0135-0057、 导电薄膜用的合金靶材及制作方法
0142-0058、 氮化铝单晶薄膜及其制备方法
0184-0059、 连续融化金属电镀设备
0059-0060、 薄膜沉积法
0033-0061、 真空蒸鍍线状掩膜的掩膜板
0164-0062、 薄膜形成方法及薄膜形成装置
0174-0063、 半导体工艺设备的氮化硼/氧化钇复合材料部件及其制造方法
0091-0064、 高分子成形材料电镀形成方法、电路形成部件及该电路形成部件的制造方法
0113-0065、 锌合金压铸件非氰电镀工艺
0200-0066、 低污染的等离子反应室部件及其制造方法
0011-0067、 CVD用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
0188-0068、 一种钛合金表面共溅射沉积羟基磷灰石(HA)/钛(Ti)梯度生物活性层的方...
0099-0069、 纳米金属膜的亚微米非金属微球及其制备方法
0077-0070、 制备溅射靶材料的方法
0082-0071、 金属氧硅化物的单源混合物
0072-0072、 ITO溅射靶
0098-0073、 金属－电介质双层纳米膜的亚微米非金属微球及制备方法
0027-0074、 化学原料新型配送系统
0060-0075、 减少最大扭矩用的组合物、使用该组合物的具有滑动部分的部件以及使用该组合物...
0096-0076、 等离子体蒸镀设备防止凝缩装置
0163-0077、 作为在半导体器件中的层内和层间绝缘体的超低介电常数材料及其制造方法、以及...
0052-0078、 制备超薄保护涂层的方法
0047-0079、 通过浸入金属熔体浴液制备锌-铝合金镀层的改进方法
0122-0080、 无电金属电镀的方法
0079-0081、 在基材上形成杂氮纳米二氧化钛光催化活性剂涂层的方法
0094-0082、 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
0049-0083、 有机EL元件的制造方法及装置
0162-0084、 阻燃聚丙烯树脂组合物
0061-0085、 连续地热浸涂金属带中保持熔化金属的装置和方法
0199-0086、 半导体工艺设备的富勒烯涂层部件
0187-0087、 有机场致发光膜蒸镀用蒸镀源
0111-0088、 潜艇的表面防腐工艺方法
0054-0089、 表面处理剂、表面处理的制品和使用其的化学镀镍方法
0149-0090、 构件的涂黑方法和装置
0109-0091、 等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置
0063-0092、 用于形成相变化型光盘保护膜的溅射靶及使用该靶形成了相变化型光盘保护膜的光...
0016-0093、 一种锌基热喷涂管状丝材及其应用
0064-0094、 有绝缘涂层的电磁钢板及绝缘涂层
0213-0095、 镀敷方法
0212-0096、 镀敷方法
0159-0097、 用于对金属带-尤其是钢板带进行浸镀的工艺和设备
0160-0098、 等离子体处理容器的再生方法、等离子体处理容器内部部件、等离子体处理容器内...
0042-0099、 溅射靶
0093-0100、 具有优良的焊料浸润性、耐锈性、耐晶须性的环境适应型电子元件用表面处理钢板
0143-0101、 一种金刚石／碳或氮化物纳米混相梯度复合薄膜的制备方法
0030-0102、 陶瓷表面的高能超声金属涂覆法
0127-0103、 一种纳米金属颗粒分散氧化物光学薄膜制备方法
0023-0104、 蒸镀方法及显示装置的制造方法
0141-0105、 刀口碳化钨热处理的方法
0215-0106、 韧性增强的耐磨涂层
0035-0107、 金属有机化合物汽相沉积装置
0216-0108、 具有带优良外观的电沉积涂漆的涂层钢板
0205-0109、 低速柴油机凸轮的渗碳淬火方法
0180-0110、 电弧喷镀方法
0021-0111、 Ag合金膜以及Ag合金膜形成用喷溅靶材
0014-0112、 钛合金紧固件表面强化及润滑处理
0120-0113、 用于对金属带进行浸镀的设备
0043-0114、 双扫描薄膜处理系统
0103-0115、 离子注入复合镀膜设备
0125-0116、 常压等离子处理方法及其装置
0108-0117、 带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置
0154-0118、 浸锌层阳极氧化法彩化工艺及其处理溶液配方
0005-0119、 水基金属表面处理剂
0007-0120、 低压渗碳方法
0106-0121、 利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
0112-0122、 铁氧体音频磁头光亮镀镍工艺
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0018-0124、 康明斯大马力发动机正时齿轮制造方法
0177-0125、 冷沉积抗反射层的方法
0069-0126、 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法
0140-0127、 水乳型除锈防锈液及其制造方法
0046-0128、 涂层的制备方法
0084-0129、 薄膜材料及其制造方法
0170-0130、 复合构成物及其制作方法和制作装置
0201-0131、 钢铁部件在改进耐腐蚀性的盐浴中的氮化
0157-0132、 用于对金属带执行热处理和连续浸镀的方法和设备
0062-0133、 Ni基合金制部件的修补方法
0032-0134、 钢制件防渗碳涂料
0040-0135、 圆筒状靶及其制造方法
0029-0136、 金属表面镀覆光亮和高耐蚀性合金层的镀液和方法
0068-0137、 非电解镀金液及非电解镀金方法
0002-0138、 ZnS-SiO2溅射靶及使用该靶而形成了ZnS-S...
0196-0139、 非电解镀层处理方法和非电解镀层处理装置
0003-0140、 溅射设备
0133-0141、 光学薄膜厚度控制方法及装置，绝缘多层薄膜及制造装置
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0186-0143、 用PLD法制备具有室温正巨磁阻效应的镍碳薄膜材料
0020-0144、 透明导电性薄膜及其制造方法和制造用烧结体靶及透明导电性基体材料或有机电发...
0045-0145、 差别注入式材料处理系统
0071-0146、 具有反应副产物沉积防止装置的排气管和沉积防止方法
0013-0147、 一种含碳化硅和聚四氟乙烯的镍磷基复合涂层
0136-0148、 提高溅镀靶使用率的预溅镀方法
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0107-0151、 利用等离子体技术沉积复合型耐腐蚀层和亲水层的方法
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0161-0207、 铝合金薄膜和具有该薄膜的配线电路以及形成此薄膜的靶材
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0217-0217、 薄膜成膜装置和薄膜成膜方法
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摘要、 本发明涉及Ag合金膜，尤其适合用于光信息记录介质领域中具有高导热系数、高反射率、高耐久性的光信息记录介质用反射膜和半透过反射膜、耐Ag凝集性优异的电磁波屏蔽用膜、反射型液晶显示元件等背面光反射膜。本发明Ag合金膜是由Bi和/或Sb合计含有0.005～10％(指原子％)的Ag合金膜构成。本发明进而涉及用于这种Ag合金膜的成膜的溅射靶。
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摘要、 提供了用于将流体注入等离子体流的方法和装置，其在长时间使用过程中能均匀分配并且减少堵塞的可能性。一种喷嘴(2)，包含用于限制流体流动的第一通道部分(6)，其外形使得第一通道部分(2)的内壁平行于第一轴(9)。该喷嘴(2)也包含与第一通道部分(69)流体连通的第二通道部分(8)。第二通道部分(8)包含凹壁部分，使第二通道部分(8)的内壁以预定角度偏离第一轴(9)。第二通道部分(8)减少了使用期间堵塞层在第二通道部分(8)的内壁上的形成。而且，喷嘴(2)还可以包含伸入等离子体的尖端部分(28)。喷嘴(2)可以并入注射器体系或者在注射器体系中可互换，所述注射器体系被设计用于在等离子体沉积装置中操作。
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半导体工艺设备如等离子体腔的一种包括一个含金刚石的表面的抗腐蚀部件，及其制造方法。
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摘要、 本发明涉及一种用于在一箱体(11)内对金属带(1)执行连续热浸镀的方法，其中的箱体(11)中容纳有一种液态金属镀液(12)，该方法包括：连续地将金属带(1)松卷送入到一导管(13)中，导管(13)的下部(13a)浸入到液态金属镀液(12)中，并利用所述镀液的液面形成了一液封(14)；使液封表面上的液态金属自然地流到所述导管(13)内的一溢流隔室(25)中；设置一内壁板，其在导管(13)的下部中延伸；将所述隔室(25)内液态金属的液面保持在低于液封(14)表面的液位上。本发明还涉及一种用于实施该方法的设备。
0073-0005、 沉积薄膜及其制造方法
摘要、 本发明公开了一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层对于基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米，其氧气渗透率不超过40毫升/米，2,，·天·兆帕以及水蒸汽渗透率不超过4.0克/米，2,，·天。氧化铝沉积薄膜(1)的荧光X射线强度(A)(铝Kα射线)与没有通入氧气得到的铝沉积薄膜(2)的荧光X射线强度(B)(铝Kα射线)之比(A/B)为(A/B)≤0.85。
0173-0006、 物理汽相淀积靶及制造金属材料的方法
摘要、 本发明涉及一种物理汽相淀积靶，该靶由面心立方单位晶格的金属或合金构成，其平均晶粒尺寸小于30微米，最好是小于1微米；并具晶体结构。本发明还公开了一种制造溅射靶的方法。该方法包括制备坯料；以预定的路径和次数进行等槽角挤压；并在等槽角挤压之后进行交叉轧制或锻造。
0175-0007、 涂布装置
摘要、 本发明的涂布装置具有使在浸渍容器(内容器)内上升的所述流体(粉状体等)从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、再将其从该溢流体流入容器(外容器)的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统浸渍容器的深度对内径之比为1/3～2/3。假如浸渍容器的深度太深，则在浸渍容器上方粉状体等绷紧有可能会发生不能将被处理物顺利地插入的现象，但本发明中因为将浸渍容器的大小规定如上，所以能保持粉状体等的柔软性。
0166-0008、 锻压成形和化学处理的金属材料表面处理剂及其处理方法
摘要、 一种非常适合于锻压成形和化学处理的车用金属板；和生产该金属板的方法。表面处理剂主要由(A)：一种或多种选自锌、铁、锰、镍、钴、钙、镁、和铝的2价或3价金属的磷酸盐，该磷酸盐的平均粒子直径为3μm或更小(B)：组分(A)的分散剂和水组成。表面处理剂是应用在金属板的表面，然后进行干燥。分散剂(B)的实例包括正磷酸、聚磷酸，和有机磷酸的化合物。由化学式(1)表示的单体所形成的聚合物也可使用。此外，单糖、多糖，和醋酸乙烯酯的聚合物或衍生物也可使用。最好是将表面处理剂应用在金属板的表面，以便在干燥的基材上形成一层含量为0.05～3g/m，2,，的膜。
0189-0009、 等离子体分解法制备类金刚石薄膜的方法及其装置
摘要、 本发明为一种类金刚石薄膜的制备方法及其相应的制备装置。它以碳氢化合物气体*作为碳源，采用等离子体分解结合高能离子轰击技术，在经过清洗的待镀基体上沉积得到类金刚石薄膜。本发明制备设备简单，无需专门的安全防卫设施，成膜条件宽泛，制造成本降低，获得的碳膜具有类似金刚石的红外波段透明，电绝缘性能良好等特性，作为超硬材料，其显微硬度优于传统的TiN和TiC等硬质膜，在机械加工、医疗器械、电子工业和装饰行业等领域有广泛的实际应用。
0067-0010、 无机/有机介电薄膜的沉积系统及方法
摘要、 提供了一种在衬底表面上沉积介电膜的系统和方法，所述系统具有一个带有用于支撑衬底的衬底支架的处理室和一个或多个用于将气体送入处理室的气体入口提供了在所述处理室内确定第一个等离子体区的第一个等离子体源，而且还提供了在所述处理室内确定第二个等离子体区的第二个等离子体源。气体分别在所述第一个和第二个等离子体区发生不同程度的离子化，而且，这些分别离子化的气体发生反应，在衬底表面上形成介电膜。
0095-0011、 覆碳膜部件及其制法
0124-0012、 具有光催化涂层的底材
0036-0013、 对镀锌件具有自调功能的低铬强化钝化液
0089-0014、 钽和铌的坯料及其制造方法
0204-0015、 抗压制擦伤性和耐卷曲变形性优异的表面处理金属板及其制造方法
0051-0016、 封隔涂层
0066-0017、 复合材料及其制备方法
0080-0018、 用于制造低反射率薄膜的方法和设备
0044-0019、 化学置换镀金溶液及用于制备该电镀液的添加剂
0148-0020、 形成金属薄膜的方法
0214-0021、 形成金属氧化物膜的方法和在气体放电管中形成二次电子发射膜的方法
0182-0022、 一种玻璃镀膜用混合气体及其制备方法
0114-0023、 Ti-Ni-Si三元金属硅化物合金涂层材料
0038-0024、 利用多孔性金属过滤器回收催化金属的方法
0048-0025、 一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置
0134-0026、 金属表面处理组合物、金属表面处理方法以及由此得到的镀锌钢板
0034-0027、 蒸镀方法及显示装置的制造方法
0057-0028、 用于形成栅氧化物膜的硅化铪靶材及其制备方法
0115-0029、 SiC/TiN超硬纳米多层膜及其制作工艺
0101-0030、 环保型多方式、快速节能铁系磷化液
0026-0031、 一种刚玉－莫来石复相陶瓷涂层的制备方法
0085-0032、 大面积钨、钼及其氧化物纳米线与阵列以及其制备与应用
0192-0033、 溅射装置及溅射成膜方法
0193-0034、 高熔点金属制品的再生
0088-0035、 溅射靶及其制备方法
0123-0036、 电镀树脂模制品及其制造方法
0176-0037、 用于制造车辆用空调器中间散热片的工具及对工具表面进行处理的方法
0075-0038、 真空涂层设备
0156-0039、 亚*锌水溶液及其制造方法
0070-0040、 一种机械镀锌工艺
0171-0041、 复合构成物及其制作方法
0025-0042、 一种氧化铝－氧化硅复合氧化物薄膜制备工艺
0137-0043、 具有射频电源供应单元的双频式真空沉积设备
0028-0044、 非导体表面金属化的方法
0078-0045、 复合构造物及其制作方法和制作装置
0050-0046、 等离子涂层方法
0129-0047、 一种钝化颗粒镁及其制备方法
0058-0048、 赋予张力性绝缘皮膜的粘合性优异的单取向硅钢板及其制造方法
0153-0049、 中央多弧源式离子镀方法
0087-0050、 叠层薄膜以及淀积方法
0131-0051、 加热坩埚和采用此加热坩埚的沉积装置
0155-0052、 承受高温的物件及其制造方法
0139-0053、 有机锆复合材料及其合成法、含有其的原料溶液及形成锆钛酸铅膜的方法
0190-0054、 镜面光亮光干涉彩色不锈钢花纹图案的制作方法
0037-0055、 一种回收催化金属的方法
0104-0056、 常温下微波等离子体和激光联合处理材料表面的方法
0135-0057、 导电薄膜用的合金靶材及制作方法
0142-0058、 氮化铝单晶薄膜及其制备方法
0184-0059、 连续融化金属电镀设备
0059-0060、 薄膜沉积法
0033-0061、 真空蒸鍍线状掩膜的掩膜板
0164-0062、 薄膜形成方法及薄膜形成装置
0174-0063、 半导体工艺设备的氮化硼/氧化钇复合材料部件及其制造方法
0091-0064、 高分子成形材料电镀形成方法、电路形成部件及该电路形成部件的制造方法
0113-0065、 锌合金压铸件非氰电镀工艺
0200-0066、 低污染的等离子反应室部件及其制造方法
0011-0067、 CVD用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
0188-0068、 一种钛合金表面共溅射沉积羟基磷灰石(HA)/钛(Ti)梯度生物活性层的方...
0099-0069、 纳米金属膜的亚微米非金属微球及其制备方法
0077-0070、 制备溅射靶材料的方法
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0072-0072、 ITO溅射靶
0098-0073、 金属－电介质双层纳米膜的亚微米非金属微球及制备方法
0027-0074、 化学原料新型配送系统
0060-0075、 减少最大扭矩用的组合物、使用该组合物的具有滑动部分的部件以及使用该组合物...
0096-0076、 等离子体蒸镀设备防止凝缩装置
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0052-0078、 制备超薄保护涂层的方法
0047-0079、 通过浸入金属熔体浴液制备锌-铝合金镀层的改进方法
0122-0080、 无电金属电镀的方法
0079-0081、 在基材上形成杂氮纳米二氧化钛光催化活性剂涂层的方法
0094-0082、 用于反射型平面显示器的反射膜及溅镀靶材的合金材料
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0162-0084、 阻燃聚丙烯树脂组合物
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