镀膜、镀膜装置、镀膜室、镀膜用生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0079-0001、 光化学气相沉积设备
摘要、 本实用新型公开了一种光化学气相沉积设备，适用于半导体薄膜材料的外延生长，它主要由超高真空系统、反应气体气路系统、加热系统、紫外光能量辅助系统组成，荓P/CVD、UHV/CVD和UV/CVD设备的有机结合体。其主要特点是采用了三级真空泵组和三级真空室逐级过渡技术，使得反应室的背景真空度达到10，-7,，a；反应室中的化学气相沉积生长过程处于小于200Pa的超低压状态，紫外光能量辅助系统使得化学气相沉积生长过程得以在低温下进行。因此本实用新型具有沉积速度快、材料生长杂质污染小、可获得无应力驰豫、高质量器件级外延层薄膜材料的优点。此外，本实用新型还具有灵活、多用途的特点，可以分别实现独立的LP/CVD、UHV/CVD和UV/CVD设备功能。
0105-0002、 一种用于热浸镀电磁封流装置
摘要、 一种用于热浸镀电磁封流装置，包括镀槽、导向辊、稳定辊；所述的镀槽底部开有供镀材穿过的入口槽，入口槽处的镀槽底部带有坡度，沿带坡度底部的镀槽外侧设置若干匝感应线圈；导向辊、稳定辊分别设置于镀槽入口槽处及镀槽上、下方；入口槽槽口为矩形或圆形；镀槽底部坡度中心角α为60°～150°；稳定辊可为轧辊。高频电流通过感应线圈产生磁场，与槽内金属液中的感应电流交叉，形成磁压力，当该磁压力与槽内金属液的静压力达到平衡时金属液流就被封住。
0160-0003、 一种适应不同样品的镀膜机工件架
本实用新型涉及镀膜技术，具体地说是一种适应不同样品的镀膜机工件架。包括：公转磁力转轴、工件架升降机构、自转磁力转轴、工件架升降平台，其中带有样品的样品工件架插装键连在工件架升降平台的中轴支架上，由电动机驱动的自转磁力转轴穿过工件架升降平台通过自转齿轮与平面样品工件架安装在一起，所述工件架升降机构由电动机驱动，通过支架杆依次经螺纹连接的轴套、波纹管、导向器接至工件架升降平台底部。本实用新型工件架采用双轴两侧引入，平面样品和柱面样品工件架可快速更换，适应范围广。
0157-0004、 一种塑料薄膜镀铝真空腔
摘要、 一种塑料薄膜镀铝真空腔涉及塑料制品金属镀膜技术领域，它由真空腔体、塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟组成，塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟固定安装在真空腔体内，薄膜拉张鼓与冷却镀鼓平行安装相邻有间隔，蒸发舟位于冷却镀鼓与薄膜拉张鼓间的正下方。本实用新型工作时，蒸发舟发出的铝蒸汽对被冷却镀鼓以及薄膜拉张鼓拉开的塑料薄膜镀铝，解决了镀铝过程塑料薄膜易皱折的技术问题，被镀铝的塑料薄膜镀铝层厚薄均匀、表面平整。
0003-0005、 热处理炉的底部装料装置
摘要、 本实用新型涉及一种热处理炉的底部装料装置，其包括：与主炉室连通的底部开有进料口的锁气室，在锁气室的前部装有一个推料机构；用于封闭上述进料口的柔性加压密封门；以及密封门的升降机构。本实用新型具有密封性好，炉内气氛外溢量少，对炉内碳势影响小，无需大量补碳，炉内不易形成碳黑，只需把外溢的少量炉气点燃即可，无需用火幕进行保护，减少了能源消耗及对操作环境的污染。
0020-0006、 多功能组合式纳米材料发生装置
摘要、 本实用新型公开了一种多功能组合式纳米材料发生装置。它包括支架，支架上设钟罩，监控装置，钟罩外设粒子束发生器，钟罩内设样品台、靶台，钟罩壁设粒子束入射窗口，样品台与靶台之间或样品台与钟罩壁之间设电场，样品台与靶台之间设约束磁场。本装置能很容易地将金属材料等离子体化，并能形成等离子体态的金属与气体等离子体单独、交替或混合撞击样件的情况，结果是在样件表面生成单一或复合纳米材料膜。
0032-0007、 具有粉末渗锌层的钢管
摘要、 本实用新型提供一种具有粉末渗锌层的钢管，包括基体，其特点是：所述的基体内、外圆表面均为渗锌层。渗锌层为三层结构，由外至内为纯锌层、锌铁合金层、铁锌合金层。所述的渗锌层厚度为10μm—160μm。其防腐层牢固、均匀，耐磨性好，硬度高防腐效果好，使用寿命长，加工方便，成本较低，便于推广应用。
0218-0008、 滑块往复式对靶溅射加热传动装置
摘要、 一种滑块往复式对靶溅射加热传动装置，它包括有一个箱体，在箱体的底部设有样品架往复移动口，在箱体的底部设有蜗杆，在该蜗杆上连接有滑块，该滑块的上端连接有进入箱体内的支撑杆，在该支撑杆的上端连接有样品架，在箱体前后面内设有加热陶瓷基体，在箱体前后对应面上设有方形溅射口。所述的样品架为长方形结构，在长方形的样品架上均匀开有至少两个基片固定槽孔。在加热陶瓷基体上设有蛇形加热丝。在加热陶瓷基体内侧设有均热石英板。本实用新型的优点是，结构简单、使用方便、可高效地满足直流溅射方法制备高性能、均匀性好的大面积高温超导薄膜，并满足批量化制备的要求。
0102-0009、 选择性镀膜装置
摘要、 一种选择性镀膜装置，由一真空腔室，一旋转支撑组件，复数个承盘，复数个基材整合体与蒸镀源所共同组成；旋转支撑组件包含马达和支撑架；基材整合体则包含具有孔洞及磁性的金属薄膜，被镀物(半导体材料)，磁铁及夹具；本装置由于承盘深度略浅且盘面较大，可尽量放置于以蒸镀源为球心的球面上，以及在金属薄膜上选择性的开设不同孔洞以因应被镀物上不同电路的需求；因此，不但可大幅缩短制程的时间，且所度的薄膜厚度均匀且不易变形。
0008-0010、 磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机
摘要、 本实用新型公开了一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机，它包括一个形状为圆形或方形的单室型真空室；一个设在真空室内的驱动车；一对设在真空室内的放、收卷辊；数对设在真空室内的磁控靶；放卷辊与收卷辊上卷绕有被镀基材，放卷辊与收卷辊间的被镀基材之间设有传动链条或带及多个导辊；在真空室内，被镀基材由放卷辊匀速通过每对靶的中间位置，连续传送到收卷辊上，这些靶溅射的金属材料沉积在基材上，形成附着牢固，厚度均匀的镍或其他金属薄膜。
0198-0011、 带缓冲室膜玻璃生产磁控溅射设备
0131-0012、 等离子体源增强沉积设备
0054-0013、 吹管式内吹机
0064-0014、 氧化锌薄膜生长用金属有机化合物汽相淀积设备
0151-0015、 化学液相沉积装置
0051-0016、 镀锌炉
0072-0017、 一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置
0130-0018、 多功能卷绕镀膜机
0116-0019、 井式气体渗碳炉
0041-0020、 激光熔覆送粉装置的自动控制机构
0099-0021、 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置
0207-0022、 大尺寸柱状中空溅射阴极
0208-0023、 一种生产高阻隔真空镀铝薄膜的设备
0103-0024、 转换反应室的观测窗结构
0140-0025、 一种控制带钢镀层表面锌花形态的装置
0191-0026、 真空镀膜机加热装置
0089-0027、 蒸镀装置
0175-0028、 一种制备氧化锌晶须阵列材料的装置
0084-0029、 镀膜设备
0187-0030、 一种卷绕式铝-锌铝真空镀膜机
0042-0031、 激光熔覆同轴送粉喷嘴
0154-0032、 纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
0043-0033、 一种用于离子镀膜室的分度回转工作台装置
0092-0034、 高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备
0065-0035、 一种多功能的等离子体和激光束联合处理材料的装置
0145-0036、 真空用磁流体密封传动送片机构
0071-0037、 一种适用于真空微蒸发镀的装置
0171-0038、 平面离子源增强沉积镀膜机
0100-0039、 高精度自动翻转移动对准机构
0147-0040、 一种等离子热丝法化学气相沉积金刚石膜的装置
0173-0041、 一种磁控溅射靶
0155-0042、 一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源
0204-0043、 热浸镀锌的浸镀作业装置
0052-0044、 投影管蒸铝加热装置
0118-0045、 一种化学汽相沉积装置
0150-0046、 制造飞机炭刹车盘的外热梯度气相沉积炉
0159-0047、 真空离子镀膜机
0197-0048、 双面一次成膜真空离子溅镀机
0073-0049、 多功能热浸镀模拟装置
0049-0050、 多节立式开合真空溅射离子镀炉
0181-0051、 配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置
0188-0052、 双面溅射真空卷绕连续镀膜设备
0104-0053、 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石制品
0128-0054、 真空镀膜的线状掩膜具
0214-0055、 溅射式镀膜机用靶材结构
0022-0056、 焊丝化学镀铜设备
0203-0057、 热浸镀模拟试验装置用清渣装置
0113-0058、 锌铝真空蒸发镀膜机
0215-0059、 太阳选择性吸收涂层连续镀膜装置
0216-0060、 双室真空镀膜机
0206-0061、 含有楔形均流坝的气刀
0007-0062、 晶体振荡器探头支撑结构
0164-0063、 滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置
0192-0064、 二氧化锡透明导电膜的制造装置
0004-0065、 加有离子源的有机蒸发镀膜装置
0069-0066、 一种金刚石镀膜刀具装置
0184-0067、 一种高效除碳装置
0180-0068、 具有多个环状弧斑的任意形平面靶的蒸发离化源
0028-0069、 液相沉积生产装置
0210-0070、 内壁镀膜介电管的真空镀膜设备
0001-0071、 油管抗蚀氮化防腐处理装置
0179-0072、 隧道式超真空镀膜机
0067-0073、 光学薄膜厚度在线实时监控仪
0193-0074、 免紧固悬挂式镀膜工装装卸机构
0097-0075、 采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置
0090-0076、 真空镀膜系统中真空室观察窗的转动档板
0018-0077、 一种用于制备大面积薄膜的自动旋转加热装置
0186-0078、 光学镀膜装置
0055-0079、 一种热处理装置
0016-0080、 溅镀装置
0195-0081、 高真空薄膜沉积室用的外热式高温电加热炉
0034-0082、 网带式连续渗碳炉进料口密封装置
0078-0083、 一种平面磁控溅射靶
0010-0084、 一种陶瓷薄膜沉积装置
0009-0085、 一种热浸镀锌锅
0166-0086、 双层介质阻挡放电等离子体反应器
0165-0087、 用于制备薄膜的热催化器
0063-0088、 真空电弧自动引弧装置
0106-0089、 防腐涂层
0148-0090、 射频电源导入装置
0053-0091、 化学汽相沉积前质体的汽化器
0134-0092、 镀膜设备及镀膜设备用的遮板单元
0047-0093、 中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备
0144-0094、 真空式被银机
0012-0095、 用于渗硫工艺的活性硫离子发生器
0060-0096、 陶瓷内衬弯头制造设备
0014-0097、 在硅基万能衬底上生长多层异质外延薄膜
0221-0098、 一种光学镀膜设备
0190-0099、 孔式同轴激光熔覆喷嘴
0048-0100、 低成本微等离子金属表面强化处理装置的电源功率放大器
0037-0101、 绝热式等离子体金属表面处理装置
0129-0102、 矩形平面多弧靶
0070-0103、 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理装置
0112-0104、 一种氧氮表面热处理装置
0133-0105、 超高真空化学气相沉积装置
0119-0106、 高频电火花涂覆装置
0167-0107、 扫描聚焦磁控溅射靶
0024-0108、 一种沉积高质量薄膜低温等离子体装置
0027-0109、 炉体回转式粉末渗锌设备
0115-0110、 双盘连接基片装置
0122-0111、 电磁封流连续热镀锌装置
0161-0112、 一种离心式余锌清除机
0040-0113、 化学喷镀镍专用装置
0178-0114、 铁路轴承套圈渗碳用套装支架
0086-0115、 自动引弧的电子枪
0146-0116、 多对靶薄膜溅射仪
0075-0117、 在筒状金属零件内表面加工硫化物层的设备
0095-0118、 卧式多层陶瓷薄膜气相沉积装置
0176-0119、 一种可调控蒸气浓度的液体蒸发器
0213-0120、 一种双悬臂式离心制管机
0163-0121、 加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
0082-0122、 一种硬质合金表面的超硬涂层
0059-0123、 中心架调节式离心制管机
0062-0124、 钢丝镀层抹制器
0056-0125、 分立双室离子镀膜机
0081-0126、 用超音速电弧喷涂设备喷涂复合涂层的省煤器管
0015-0127、 一种新型的阴极电弧离子镀膜装置
0209-0128、 气体多元共渗控制系统
0019-0129、 蒸发磁控真空镀膜机
0139-0130、 带导轨的镀膜架
0036-0131、 一种具有前后稳压排气装置的网带式连续渗碳炉
0199-0132、 低辐射膜玻璃生产的磁控溅射设备
0044-0133、 螺纹联接式硬脆合金靶
0066-0134、 真空镀膜用筒状铝材
0185-0135、 一种多点式气体注入装置
0143-0136、 旋转式磁控溅射靶
0035-0137、 一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置
0156-0138、 双磁辅助式管状工件内表面改性装置
0080-0139、 光化学气相沉积设备的光透过窗口装置
0005-0140、 多元合金多功能镀膜
0211-0141、 镀膜机的真空反应室
0152-0142、 旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备
0026-0143、 加有电场的有机蒸发镀膜装置
0202-0144、 化学气相共沉积与渗透先驱体自动供给装置
0158-0145、 热灯丝化学气相沉积装置中的加热器
0002-0146、 高真空卷绕镀膜磁粉离合器自动张力控制装置
0050-0147、 真空腔的密闭装置
0194-0148、 一种表面抗菌、耐磨的不锈钢制品
0189-0149、 环式同轴激光熔覆喷嘴
0127-0150、 中频感应渗碳炉
0091-0151、 视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源
0196-0152、 自动化潜入式内部回流装置
0083-0153、 真空镀膜机循环装片装置
0121-0154、 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构
0174-0155、 真空辐射式加热器
0108-0156、 热处理装置
0170-0157、 热镀铝锌合金钢板
0117-0158、 新型磁场旋转外圆柱靶
0126-0159、 一种制品覆层构造及具有该构造的挤胶枪推杆
0029-0160、 碳钢渗铝件
0201-0161、 一种化学气相共沉积与渗透尾气处理装置
0177-0162、 铁路轴承套圈渗碳用组合架
0141-0163、 带钢连续热浸镀线用的气刀装置
0021-0164、 一种金属线材热镀层的抹拭模具
0006-0165、 多靶磁控溅射卷绕镀膜机
0098-0166、 利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置
0183-0167、 辉光离子氮化炉真空炉体压力闭环自动控制装置
0085-0168、 热处理装置
0101-0169、 一种程控电脉冲型多功能离子轰击炉
0088-0170、 植化膜层金属板
0125-0171、 用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置
0137-0172、 一种金属线材的热镀设备
0219-0173、 真空镀膜机用多路阀
0077-0174、 涂布机回湿机构
0093-0175、 有机发光组件的沉积设备
0123-0176、 自动镀膜多弧离子镀膜机
0162-0177、 夹套式多弧真空离子镀装置
0136-0178、 闭合式电子漂移型气体离子源
0045-0179、 一种高温下不变形钨丝加热装置及专用的钨丝绕制支架
0110-0180、 一种可控气体渗氮设备
0205-0181、 热浸镀锌的镀件毛边分离装置
0057-0182、 多离子束共溅射淀积纳米膜装置
0135-0183、 镀膜设备用的基板承载座
0111-0184、 水浴加热化学镀设备
0061-0185、 异型陶瓷内衬钢管制造设备
0220-0186、 高温超导薄膜双面蒸镀装置
0025-0187、 一种列管式热镀锌锅
0030-0188、 制备泡沫导电膜的卷绕式真空镀膜机
0023-0189、 化学镀镍液的再生处理装置
0039-0190、 一种电感耦合射频等离子体辅助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置
0212-0191、 滑轨往复式对靶溅射加热传动装置
0153-0192、 以铜代银的保温瓶胆
0200-0193、 高效式真空镀膜旋转支架
0107-0194、 钢管热镀锌用压缩空气插入式内吹装置
0142-0195、 制备结晶氮化碳薄膜的装置
0138-0196、 双室真空镀膜装置
0013-0197、 快速制备大面积均匀纳米功能膜的装置
0031-0198、 一种用于器件内壁涂层的台座
0038-0199、 永磁式平面磁控溅射靶
0011-0200、 螺栓热浸镀锌余锌甩除自动离心机
0109-0201、 连续式蒸镀溅镀机
0169-0202、 表面催化剂精确施加装置
0124-0203、 新型的大型工业化合成等离子渗硫炉
0076-0204、 柱型封闭式钼舟
0222-0205、 溅镀机阴极靶源结构
0017-0206、 一种用于沉积制备薄膜的装置
0094-0207、 钛铝涂层用多弧离子镀膜机
0217-0208、 双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备
0033-0209、 具有粉末渗锌层的型钢
0087-0210、 真空井式无罐离子渗碳多用炉体
0120-0211、 具有自动识别功能的有机发光镀膜机基片小挡板
0182-0212、 立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机
0058-0213、 用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置
0172-0214、 偏电压赋能装置
0132-0215、 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
0068-0216、 真空镀膜轴向运动控制装置
0114-0217、 用于有机电致发光镀膜机的坩锅式蒸发源
0046-0218、 具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置
0149-0219、 一种制备无机化合物薄膜的装置
0074-0220、 高速离心式功能材料成膜装置
0168-0221、 沉积环及应用此沉积环的支撑装置
0096-0222、 一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置
0223-0223、 一种立体超硬复合片坯料
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摘要、 本实用新型公开了一种光化学气相沉积设备，适用于半导体薄膜材料的外延生长，它主要由超高真空系统、反应气体气路系统、加热系统、紫外光能量辅助系统组成，荓P/CVD、UHV/CVD和UV/CVD设备的有机结合体。其主要特点是采用了三级真空泵组和三级真空室逐级过渡技术，使得反应室的背景真空度达到10，-7,，a；反应室中的化学气相沉积生长过程处于小于200Pa的超低压状态，紫外光能量辅助系统使得化学气相沉积生长过程得以在低温下进行。因此本实用新型具有沉积速度快、材料生长杂质污染小、可获得无应力驰豫、高质量器件级外延层薄膜材料的优点。此外，本实用新型还具有灵活、多用途的特点，可以分别实现独立的LP/CVD、UHV/CVD和UV/CVD设备功能。
0105-0002、 一种用于热浸镀电磁封流装置
摘要、 一种用于热浸镀电磁封流装置，包括镀槽、导向辊、稳定辊；所述的镀槽底部开有供镀材穿过的入口槽，入口槽处的镀槽底部带有坡度，沿带坡度底部的镀槽外侧设置若干匝感应线圈；导向辊、稳定辊分别设置于镀槽入口槽处及镀槽上、下方；入口槽槽口为矩形或圆形；镀槽底部坡度中心角α为60°～150°；稳定辊可为轧辊。高频电流通过感应线圈产生磁场，与槽内金属液中的感应电流交叉，形成磁压力，当该磁压力与槽内金属液的静压力达到平衡时金属液流就被封住。
0160-0003、 一种适应不同样品的镀膜机工件架
本实用新型涉及镀膜技术，具体地说是一种适应不同样品的镀膜机工件架。包括：公转磁力转轴、工件架升降机构、自转磁力转轴、工件架升降平台，其中带有样品的样品工件架插装键连在工件架升降平台的中轴支架上，由电动机驱动的自转磁力转轴穿过工件架升降平台通过自转齿轮与平面样品工件架安装在一起，所述工件架升降机构由电动机驱动，通过支架杆依次经螺纹连接的轴套、波纹管、导向器接至工件架升降平台底部。本实用新型工件架采用双轴两侧引入，平面样品和柱面样品工件架可快速更换，适应范围广。
0157-0004、 一种塑料薄膜镀铝真空腔
摘要、 一种塑料薄膜镀铝真空腔涉及塑料制品金属镀膜技术领域，它由真空腔体、塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟组成，塑料薄膜收放卷筒、冷却镀鼓、薄膜拉张鼓以及蒸发舟固定安装在真空腔体内，薄膜拉张鼓与冷却镀鼓平行安装相邻有间隔，蒸发舟位于冷却镀鼓与薄膜拉张鼓间的正下方。本实用新型工作时，蒸发舟发出的铝蒸汽对被冷却镀鼓以及薄膜拉张鼓拉开的塑料薄膜镀铝，解决了镀铝过程塑料薄膜易皱折的技术问题，被镀铝的塑料薄膜镀铝层厚薄均匀、表面平整。
0003-0005、 热处理炉的底部装料装置
摘要、 本实用新型涉及一种热处理炉的底部装料装置，其包括：与主炉室连通的底部开有进料口的锁气室，在锁气室的前部装有一个推料机构；用于封闭上述进料口的柔性加压密封门；以及密封门的升降机构。本实用新型具有密封性好，炉内气氛外溢量少，对炉内碳势影响小，无需大量补碳，炉内不易形成碳黑，只需把外溢的少量炉气点燃即可，无需用火幕进行保护，减少了能源消耗及对操作环境的污染。
0020-0006、 多功能组合式纳米材料发生装置
摘要、 本实用新型公开了一种多功能组合式纳米材料发生装置。它包括支架，支架上设钟罩，监控装置，钟罩外设粒子束发生器，钟罩内设样品台、靶台，钟罩壁设粒子束入射窗口，样品台与靶台之间或样品台与钟罩壁之间设电场，样品台与靶台之间设约束磁场。本装置能很容易地将金属材料等离子体化，并能形成等离子体态的金属与气体等离子体单独、交替或混合撞击样件的情况，结果是在样件表面生成单一或复合纳米材料膜。
0032-0007、 具有粉末渗锌层的钢管
摘要、 本实用新型提供一种具有粉末渗锌层的钢管，包括基体，其特点是：所述的基体内、外圆表面均为渗锌层。渗锌层为三层结构，由外至内为纯锌层、锌铁合金层、铁锌合金层。所述的渗锌层厚度为10μm—160μm。其防腐层牢固、均匀，耐磨性好，硬度高防腐效果好，使用寿命长，加工方便，成本较低，便于推广应用。
0218-0008、 滑块往复式对靶溅射加热传动装置
摘要、 一种滑块往复式对靶溅射加热传动装置，它包括有一个箱体，在箱体的底部设有样品架往复移动口，在箱体的底部设有蜗杆，在该蜗杆上连接有滑块，该滑块的上端连接有进入箱体内的支撑杆，在该支撑杆的上端连接有样品架，在箱体前后面内设有加热陶瓷基体，在箱体前后对应面上设有方形溅射口。所述的样品架为长方形结构，在长方形的样品架上均匀开有至少两个基片固定槽孔。在加热陶瓷基体上设有蛇形加热丝。在加热陶瓷基体内侧设有均热石英板。本实用新型的优点是，结构简单、使用方便、可高效地满足直流溅射方法制备高性能、均匀性好的大面积高温超导薄膜，并满足批量化制备的要求。
0102-0009、 选择性镀膜装置
摘要、 一种选择性镀膜装置，由一真空腔室，一旋转支撑组件，复数个承盘，复数个基材整合体与蒸镀源所共同组成；旋转支撑组件包含马达和支撑架；基材整合体则包含具有孔洞及磁性的金属薄膜，被镀物(半导体材料)，磁铁及夹具；本装置由于承盘深度略浅且盘面较大，可尽量放置于以蒸镀源为球心的球面上，以及在金属薄膜上选择性的开设不同孔洞以因应被镀物上不同电路的需求；因此，不但可大幅缩短制程的时间，且所度的薄膜厚度均匀且不易变形。
0008-0010、 磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机
摘要、 本实用新型公开了一种磁控溅射泡沫镍卷绕镀膜机，它包括一个形状为圆形或方形的单室型真空室；一个设在真空室内的驱动车；一对设在真空室内的放、收卷辊；数对设在真空室内的磁控靶；放卷辊与收卷辊上卷绕有被镀基材，放卷辊与收卷辊间的被镀基材之间设有传动链条或带及多个导辊；在真空室内，被镀基材由放卷辊匀速通过每对靶的中间位置，连续传送到收卷辊上，这些靶溅射的金属材料沉积在基材上，形成附着牢固，厚度均匀的镍或其他金属薄膜。
0198-0011、 带缓冲室膜玻璃生产磁控溅射设备
0131-0012、 等离子体源增强沉积设备
0054-0013、 吹管式内吹机
0064-0014、 氧化锌薄膜生长用金属有机化合物汽相淀积设备
0151-0015、 化学液相沉积装置
0051-0016、 镀锌炉
0072-0017、 一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置
0130-0018、 多功能卷绕镀膜机
0116-0019、 井式气体渗碳炉
0041-0020、 激光熔覆送粉装置的自动控制机构
0099-0021、 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置
0207-0022、 大尺寸柱状中空溅射阴极
0208-0023、 一种生产高阻隔真空镀铝薄膜的设备
0103-0024、 转换反应室的观测窗结构
0140-0025、 一种控制带钢镀层表面锌花形态的装置
0191-0026、 真空镀膜机加热装置
0089-0027、 蒸镀装置
0175-0028、 一种制备氧化锌晶须阵列材料的装置
0084-0029、 镀膜设备
0187-0030、 一种卷绕式铝-锌铝真空镀膜机
0042-0031、 激光熔覆同轴送粉喷嘴
0154-0032、 纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机
0043-0033、 一种用于离子镀膜室的分度回转工作台装置
0092-0034、 高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备
0065-0035、 一种多功能的等离子体和激光束联合处理材料的装置
0145-0036、 真空用磁流体密封传动送片机构
0071-0037、 一种适用于真空微蒸发镀的装置
0171-0038、 平面离子源增强沉积镀膜机
0100-0039、 高精度自动翻转移动对准机构
0147-0040、 一种等离子热丝法化学气相沉积金刚石膜的装置
0173-0041、 一种磁控溅射靶
0155-0042、 一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源
0204-0043、 热浸镀锌的浸镀作业装置
0052-0044、 投影管蒸铝加热装置
0118-0045、 一种化学汽相沉积装置
0150-0046、 制造飞机炭刹车盘的外热梯度气相沉积炉
0159-0047、 真空离子镀膜机
0197-0048、 双面一次成膜真空离子溅镀机
0073-0049、 多功能热浸镀模拟装置
0049-0050、 多节立式开合真空溅射离子镀炉
0181-0051、 配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置
0188-0052、 双面溅射真空卷绕连续镀膜设备
0104-0053、 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石制品
0128-0054、 真空镀膜的线状掩膜具
0214-0055、 溅射式镀膜机用靶材结构
0022-0056、 焊丝化学镀铜设备
0203-0057、 热浸镀模拟试验装置用清渣装置
0113-0058、 锌铝真空蒸发镀膜机
0215-0059、 太阳选择性吸收涂层连续镀膜装置
0216-0060、 双室真空镀膜机
0206-0061、 含有楔形均流坝的气刀
0007-0062、 晶体振荡器探头支撑结构
0164-0063、 滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置
0192-0064、 二氧化锡透明导电膜的制造装置
0004-0065、 加有离子源的有机蒸发镀膜装置
0069-0066、 一种金刚石镀膜刀具装置
0184-0067、 一种高效除碳装置
0180-0068、 具有多个环状弧斑的任意形平面靶的蒸发离化源
0028-0069、 液相沉积生产装置
0210-0070、 内壁镀膜介电管的真空镀膜设备
0001-0071、 油管抗蚀氮化防腐处理装置
0179-0072、 隧道式超真空镀膜机
0067-0073、 光学薄膜厚度在线实时监控仪
0193-0074、 免紧固悬挂式镀膜工装装卸机构
0097-0075、 采用涡流加热靶材的共蒸发制备薄膜的装置
0090-0076、 真空镀膜系统中真空室观察窗的转动档板
0018-0077、 一种用于制备大面积薄膜的自动旋转加热装置
0186-0078、 光学镀膜装置
0055-0079、 一种热处理装置
0016-0080、 溅镀装置
0195-0081、 高真空薄膜沉积室用的外热式高温电加热炉
0034-0082、 网带式连续渗碳炉进料口密封装置
0078-0083、 一种平面磁控溅射靶
0010-0084、 一种陶瓷薄膜沉积装置
0009-0085、 一种热浸镀锌锅
0166-0086、 双层介质阻挡放电等离子体反应器
0165-0087、 用于制备薄膜的热催化器
0063-0088、 真空电弧自动引弧装置
0106-0089、 防腐涂层
0148-0090、 射频电源导入装置
0053-0091、 化学汽相沉积前质体的汽化器
0134-0092、 镀膜设备及镀膜设备用的遮板单元
0047-0093、 中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备
0144-0094、 真空式被银机
0012-0095、 用于渗硫工艺的活性硫离子发生器
0060-0096、 陶瓷内衬弯头制造设备
0014-0097、 在硅基万能衬底上生长多层异质外延薄膜
0221-0098、 一种光学镀膜设备
0190-0099、 孔式同轴激光熔覆喷嘴
0048-0100、 低成本微等离子金属表面强化处理装置的电源功率放大器
0037-0101、 绝热式等离子体金属表面处理装置
0129-0102、 矩形平面多弧靶
0070-0103、 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理装置
0112-0104、 一种氧氮表面热处理装置
0133-0105、 超高真空化学气相沉积装置
0119-0106、 高频电火花涂覆装置
0167-0107、 扫描聚焦磁控溅射靶
0024-0108、 一种沉积高质量薄膜低温等离子体装置
0027-0109、 炉体回转式粉末渗锌设备
0115-0110、 双盘连接基片装置
0122-0111、 电磁封流连续热镀锌装置
0161-0112、 一种离心式余锌清除机
0040-0113、 化学喷镀镍专用装置
0178-0114、 铁路轴承套圈渗碳用套装支架
0086-0115、 自动引弧的电子枪
0146-0116、 多对靶薄膜溅射仪
0075-0117、 在筒状金属零件内表面加工硫化物层的设备
0095-0118、 卧式多层陶瓷薄膜气相沉积装置
0176-0119、 一种可调控蒸气浓度的液体蒸发器
0213-0120、 一种双悬臂式离心制管机
0163-0121、 加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
0082-0122、 一种硬质合金表面的超硬涂层
0059-0123、 中心架调节式离心制管机
0062-0124、 钢丝镀层抹制器
0056-0125、 分立双室离子镀膜机
0081-0126、 用超音速电弧喷涂设备喷涂复合涂层的省煤器管
0015-0127、 一种新型的阴极电弧离子镀膜装置
0209-0128、 气体多元共渗控制系统
0019-0129、 蒸发磁控真空镀膜机
0139-0130、 带导轨的镀膜架
0036-0131、 一种具有前后稳压排气装置的网带式连续渗碳炉
0199-0132、 低辐射膜玻璃生产的磁控溅射设备
0044-0133、 螺纹联接式硬脆合金靶
0066-0134、 真空镀膜用筒状铝材
0185-0135、 一种多点式气体注入装置
0143-0136、 旋转式磁控溅射靶
0035-0137、 一种用于工业生产中制备超硬薄膜的离子源装置
0156-0138、 双磁辅助式管状工件内表面改性装置
0080-0139、 光化学气相沉积设备的光透过窗口装置
0005-0140、 多元合金多功能镀膜
0211-0141、 镀膜机的真空反应室
0152-0142、 旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备
0026-0143、 加有电场的有机蒸发镀膜装置
0202-0144、 化学气相共沉积与渗透先驱体自动供给装置
0158-0145、 热灯丝化学气相沉积装置中的加热器
0002-0146、 高真空卷绕镀膜磁粉离合器自动张力控制装置
0050-0147、 真空腔的密闭装置
0194-0148、 一种表面抗菌、耐磨的不锈钢制品
0189-0149、 环式同轴激光熔覆喷嘴
0127-0150、 中频感应渗碳炉
0091-0151、 视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源
0196-0152、 自动化潜入式内部回流装置
0083-0153、 真空镀膜机循环装片装置
0121-0154、 一种生产泡沫镍金属化的溅射阴极靶材结构
0174-0155、 真空辐射式加热器
0108-0156、 热处理装置
0170-0157、 热镀铝锌合金钢板
0117-0158、 新型磁场旋转外圆柱靶
0126-0159、 一种制品覆层构造及具有该构造的挤胶枪推杆
0029-0160、 碳钢渗铝件
0201-0161、 一种化学气相共沉积与渗透尾气处理装置
0177-0162、 铁路轴承套圈渗碳用组合架
0141-0163、 带钢连续热浸镀线用的气刀装置
0021-0164、 一种金属线材热镀层的抹拭模具
0006-0165、 多靶磁控溅射卷绕镀膜机
0098-0166、 利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置
0183-0167、 辉光离子氮化炉真空炉体压力闭环自动控制装置
0085-0168、 热处理装置
0101-0169、 一种程控电脉冲型多功能离子轰击炉
0088-0170、 植化膜层金属板
0125-0171、 用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置
0137-0172、 一种金属线材的热镀设备
0219-0173、 真空镀膜机用多路阀
0077-0174、 涂布机回湿机构
0093-0175、 有机发光组件的沉积设备
0123-0176、 自动镀膜多弧离子镀膜机
0162-0177、 夹套式多弧真空离子镀装置
0136-0178、 闭合式电子漂移型气体离子源
0045-0179、 一种高温下不变形钨丝加热装置及专用的钨丝绕制支架
0110-0180、 一种可控气体渗氮设备
0205-0181、 热浸镀锌的镀件毛边分离装置
0057-0182、 多离子束共溅射淀积纳米膜装置
0135-0183、 镀膜设备用的基板承载座
0111-0184、 水浴加热化学镀设备
0061-0185、 异型陶瓷内衬钢管制造设备
0220-0186、 高温超导薄膜双面蒸镀装置
0025-0187、 一种列管式热镀锌锅
0030-0188、 制备泡沫导电膜的卷绕式真空镀膜机
0023-0189、 化学镀镍液的再生处理装置
0039-0190、 一种电感耦合射频等离子体辅助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置
0212-0191、 滑轨往复式对靶溅射加热传动装置
0153-0192、 以铜代银的保温瓶胆
0200-0193、 高效式真空镀膜旋转支架
0107-0194、 钢管热镀锌用压缩空气插入式内吹装置
0142-0195、 制备结晶氮化碳薄膜的装置
0138-0196、 双室真空镀膜装置
0013-0197、 快速制备大面积均匀纳米功能膜的装置
0031-0198、 一种用于器件内壁涂层的台座
0038-0199、 永磁式平面磁控溅射靶
0011-0200、 螺栓热浸镀锌余锌甩除自动离心机
0109-0201、 连续式蒸镀溅镀机
0169-0202、 表面催化剂精确施加装置
0124-0203、 新型的大型工业化合成等离子渗硫炉
0076-0204、 柱型封闭式钼舟
0222-0205、 溅镀机阴极靶源结构
0017-0206、 一种用于沉积制备薄膜的装置
0094-0207、 钛铝涂层用多弧离子镀膜机
0217-0208、 双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备
0033-0209、 具有粉末渗锌层的型钢
0087-0210、 真空井式无罐离子渗碳多用炉体
0120-0211、 具有自动识别功能的有机发光镀膜机基片小挡板
0182-0212、 立式双室双面镀磁控溅射卷绕镀膜机
0058-0213、 用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置
0172-0214、 偏电压赋能装置
0132-0215、 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
0068-0216、 真空镀膜轴向运动控制装置
0114-0217、 用于有机电致发光镀膜机的坩锅式蒸发源
0046-0218、 具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置
0149-0219、 一种制备无机化合物薄膜的装置
0074-0220、 高速离心式功能材料成膜装置
0168-0221、 沉积环及应用此沉积环的支撑装置
0096-0222、 一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置
0223-0223、 一种立体超硬复合片坯料
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