镀膜、镀膜装置、镀膜室、镀膜中水生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0166-0001、 金属化木制品及专用高真空蒸发镀膜机
摘要、 本实用新型是一种大面积金属化木制品及加工设备。金属化木制品由木基材、修饰层、底漆层、金属化层和表面保护层构成。金属化木制品具有耐蚀、耐蛀、耐磨、阻燃等功能，使普通的木制品具有金属装饰品的美观感，满足了豪华装饰的要求。大面积金属化木制品加工设备可以加工１．２２×２．４４m木制品四张，由控制系统、抽真空系统和真空室构成，真空室内有蒸发源阵，蒸发源阵是由两组４５个并联的蒸发源组成保证了金属涂层的均匀性。
0059-0002、 熔剂法热浸镀铝组合装置
摘要、 本实用新型所涉及是一种熔剂法热浸镀铝组合装置，其特征是将已有炉体的固定整体式结构，改为由耐热砌体、炉体框架、移动轮、连接口及导轨等槌傻淖笥伊蕉猿撇糠值目梢贫姆痔褰峁埂?在装置出现故障时,可免提坩埚,大大缩短维修时间,提高了生产率。$本实用新型同样适合于工艺相似的其它热浸镀装置。
0106-0003、 用于稳流磁控靶与射频靶共溅射的电磁兼容装置
本实用新型涉及一种溅射设备中的部件特别是一种溅射设备中提供磁控直流的电磁装置。本实用新型的目的在于直流靶与射频靶共溅射时，直流靶能够在快速高精度的小溅射束流下工作提供一种由射频靶用绝缘带材绕一层绝缘区，外套金属屏蔽室，射频靶冷却水管外套屏蔽网，并用喉箍固定组成的电磁兼容装置。
0080-0004、 大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶
摘要、 本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜机所用的大回路闭合溅射轨迹的柱状磁控靶。该柱状靶的靶材为圆管，靶材两端置有Ｎ极板和Ｓ极板，靶管内部的空腔为水冷通道，中间置有Ｎ极靴、Ｎ极片、Ｓ极靴、Ｓ极片和永磁体。本实用新型设计的柱状磁控靶采用平行靶材的轴向的磁路系统，使溅射区与靶管轴向平行且形成大回路闭合溅射轨道。使溅射区沿靶管轴向均匀刻蚀提高靶材利用率和镀膜均匀性。
0156-0005、 射频磁控溅射对靶装置
摘要、 本装置属于一种镀膜装置，其结构是该镀膜装置为对称结构，上下两靶结构相同，每个靶的结构是外面为屏蔽层，中心为冷却水管水管外为磁屏蔽层，磁屏蔽层外为靶体，靶体下面相对装有磁块，屏蔽层相对处形成开口，对靶中间的金属材料进行镀膜。优点：结构简单，因对靶对结构形式，溅射速率快，镀膜均匀质量好，适合对各种金属材料或非金属材料上的镀膜使用。
0144-0006、 卷绕镀膜机同步机构
摘要、 本实用新型涉及一种机械特别是一种用于真空镀膜机上的机构。啮合轮两边沿呈凸棱状，凹圈等距匀布有透孔；啮合带一侧等距排列有凸牙，该凸牙啮合在透孔中，为啮合轮与啮合带相啮合状。旨在满足间断镀制塑料金属膜时间隔恒定不变。
0022-0007、 金属表面强化装置
摘要、 本实用新型是一种金属表面强化装置，属于金属材料表面处理范畴。其特征在于筒阴极底部开孔，通过孔固定基座和工件。渗镀料放置于筒阴极的四周。在筒阴极内产生了等离子区，使Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ等渗镀离子在工件表面沉积成膜，在热扩散的作用下使工件表面形成渗镀层。使金属工件表面具有在恶劣环境下耐腐蚀和摩擦，从而改善了金属表面的物理化学性能。
0012-0008、 复合型等离子体材料表面改性装置
摘要、 本实用新型涉及一种等离子体技术应用的装置特别是应用电晕、辉光放电复合型冷等离子体对金属材料、半导体材料高分子材料进行表面改性的装置制造技术领域，本实用新型提供一种集电晕放电和辉光放电于一台设备上，它由反应室系统，电极系统，真空密封和抽气及真空测量系统三大部分组成，该装置结构紧凑，一机两用，操作方便，尤其是在进行电晕放电时，可预先抽空反应室，再充入所需工作气体，从而可研究各种气体，对材料表面改性的作用机理。
0115-0009、 等离子体源材料内表面离子注入装置
摘要、 本实用新型涉及一种等离子体处理装置特别是涉及材料内表面等离子体改性处理装置。本实用新型的目的在于实现工件材料内表面的等离子体源离子注入，使工件内、外表面都能得到均匀的改性处理。为此提供一种由直流高压电源经脉冲调制器与真空室内注入工件相连；Ｎ根灯丝与灯丝电源相连，灯丝与真空室壁间加一放电偏压源，工作气体源经进气口与真空室相通；金属内电极沿样品内部轴线安置，并与真空室壁连接组成的等离子体处理装置。本实用新型可有效地对工业上各类具有轴对称内形零件内表面进行改性处理，操作简单，注入效率高。
0082-0010、 卧式三维运动多弧镀膜装置
摘要、 一种包含炉体、炉门、设置于炉体内的弧靶、具有行星轮系和旋转轴的挂件架、和传动轴的卧式三维运动多弧镀膜装置，其特征在于：所述的弧靶在炉体内呈间隔设置；炉体内设置有带往复运动机构的台车，所述的挂件架固定在上述的台车上；设置有将旋转轴和传动轴相连的伸缩式联轴器。能加工长度超过３米的工件，具有弧靶总功率小、炉体长度短、设备投资少等优点。
0065-0011、 零散件机械镀锌机
0116-0012、 一种离子渗碳氮化炉
0186-0013、 平面显示器连续镀膜装置
0030-0014、 超声喷射浸锡机锡槽
0121-0015、 一种热镀锌清整装置
0068-0016、 六米光亮钛金管
0108-0017、 镀膜系统用的激光自动消颗粒装置
0206-0018、 化学气相沉积金刚石均质喷嘴
0184-0019、 金属低温渗入的装置
0090-0020、 大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶
0097-0021、 磁控弧光放电离子镀装置
0016-0022、 有机玻璃真空镀膜机
0101-0023、 一种等离子渗金属装置
0127-0024、 工频渗浸铝炉用异径启熔体
0159-0025、 一种多用途真空镀膜机
0114-0026、 大型工业化合成等离子渗硫炉
0028-0027、 能在工件指定部位获得膜层的夹具
0064-0028、 等离子体多弧离子镀膜装置
0067-0029、 平面磁控溅射源
0058-0030、 多蒸发离化源离子镀膜机
0084-0031、 旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
0181-0032、 镀钛铝锌钢板
0109-0033、 金属膜、氧化膜电阻高速高质镀膜机
0140-0034、 旋转靶柱型磁控溅射器
0043-0035、 采用激光法制备薄膜系统中的热反射镜装置
0100-0036、 一种制备金属管内防腐层的模具
0096-0037、 多弧—磁控溅射真空离子镀金设备
0168-0038、 一种多用途柱状真空等离子体镀膜源
0182-0039、 离心式热镀锌机
0194-0040、 金属表面强化用的常压非平衡离子渗扩炉
0157-0041、 柔性卷绕镀膜机
0040-0042、 一种可控电弧靶
0110-0043、 一种钼舟
0073-0044、 电弧蒸发和磁控溅射相结合的离子镀膜设备
0007-0045、 整体式蒸发源电极
0153-0046、 使用电磁力抹制的金属线材热镀钢丝设备
0164-0047、 新型离子镀膜设备
0027-0048、 双层辉光多功能离子轰击炉
0150-0049、 真空电镀底漆层处理机
0172-0050、 用于气相沉积的自动化镀膜装置
0006-0051、 双真空室镀膜设备
0211-0052、 金属线材直线送进穿过熔锅的热镀设备
0139-0053、 真空溅射镀膜机
0198-0054、 氧化膜外延设备
0081-0055、 喷铸铜工艺品
0083-0056、 多元共渗渗剂气体发生装置
0200-0057、 自动浸镀机
0017-0058、 金属表面改性装置
0066-0059、 玻壳蒸铝机
0189-0060、 消除短波通截止滤光片半波孔的装置
0048-0061、 波形梁热浸镀装置
0183-0062、 金属电沥彩着色机
0061-0063、 内置式磁控溅射源用冷却水接头
0141-0064、 制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机
0031-0065、 一种真空腔用玻壳蒸铝装置
0142-0066、 用于大面积辅助镀膜的无栅离子源
0191-0067、 低功率高效率等离子喷涂装置
0163-0068、 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机
0020-0069、 涂覆渗镀金属装置
0171-0070、 一种热处理器
0045-0071、 多功能全方位增强沉积型离子注入机
0199-0072、 脉冲激光沉积大面积薄膜的装置
0023-0073、 真空镀膜机移动靶装置
0047-0074、 金属材料渗碳设备
0033-0075、 浸锌摔活机
0085-0076、 一种真空镀膜机收卷装置
0151-0077、 一种玛钢件镀锌装置
0214-0078、 环型镀膜室
0026-0079、 双重加热多功能离子轰击炉
0036-0080、 电焊网热镀锌装置
0076-0081、 一种离子轰击炉用堆放阴极输电装置
0175-0082、 磁控溅射耙室装置
0149-0083、 离子化学热处理设备
0055-0084、 真空镀膜设备中的速抽式真空系统
0069-0085、 一种利用磁控等离子体技术制备低表面能换热管的加工炉
0203-0086、 改进的热浸镀锡工件夹制具
0008-0087、 化学热处理滴量仪
0094-0088、 一种高频感应加热化学反应腔装置
0126-0089、 一种金属蒸汽真空弧离子源
0086-0090、 一种改进的真空镀膜机收卷装置
0212-0091、 反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置
0193-0092、 金属器件防伪标识装置
0195-0093、 脉冲激光淀积装置
0187-0094、 离子束溅射镀膜机
0208-0095、 真空磁控溅射泡沫金属化机
0138-0096、 一种透明隔热薄膜
0170-0097、 真空镀膜室的薄壳结构
0204-0098、 热浸镀锡输送加工装置的摆动及振动装置
0052-0099、 受控形成和输送具有至少二种组分的气体气氛的装置
0161-0100、 一种用于化学镀的封头
0155-0101、 用普通离子渗氮设备进行钛板渗氮的装置
0011-0102、 熔盐覆盖法钢铁材热浸镀铝锅池
0185-0103、 超高真空多功能磁控溅射装置
0201-0104、 微脉冲等离子渗氮热壁炉
0154-0105、 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
0050-0106、 一种新型柱状磁控溅射源
0167-0107、 电弧喷锌、喷铝电缆桥架
0087-0108、 多功能真空镀膜装置
0074-0109、 柱形靶电弧汽相淀积装置
0001-0110、 热浸镀铝的钢铁锅
0162-0111、 复合靶
0038-0112、 一种化学热处理滴控仪
0216-0113、 塑料瓶内壁非晶碳镀膜机
0173-0114、 组装式燃油(气)热镀锌炉
0125-0115、 一种离子硫化设备
0169-0116、 炉内充氮驱氧及微压测氧装置
0102-0117、 敷铝型钢形材
0099-0118、 偏心进气化学气相沉积炉
0044-0119、 多功能离子镀膜机
0046-0120、 金色表面的制品
0147-0121、 一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机
0197-0122、 真空镀膜中电阻加热式蒸发舟活动电极
0032-0123、 在工件上获得预定膜层厚度分布用的夹具装置
0135-0124、 镀锡炉出口输送装置
0014-0125、 热镀锌清整机
0133-0126、 电焊网热镀锌暖风吹拭装置
0029-0127、 多极网格离子发射加速器
0104-0128、 一种用于真空制膜设备的活化气体装置
0143-0129、 难熔金属蒸发舟
0105-0130、 多工位气相合成金刚石膜装置
0092-0131、 真空集热管镀膜弹性夹具
0070-0132、 横管中心靶卧式真空涂膜机
0134-0133、 连续式可控气氛渗碳炉稀土催渗剂加入装置
0124-0134、 用热雾化附着法制备导电膜的设备
0010-0135、 镀膜宝石
0152-0136、 一种真空渗锌炉
0209-0137、 一种用于真空蒸镀的样品支架
0013-0138、 直流电弧喷射沉积金刚石装置
0215-0139、 泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机
0042-0140、 对靶式直流磁控离子溅射台
0113-0141、 旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机
0118-0142、 钢管热浸镀机
0210-0143、 粉末渗锌设备
0002-0144、 立式强流大束斑金属工业离子注入机
0039-0145、 激光气相合成薄膜和超细粉的装置
0129-0146、 金属表面高温超声场热浸镀装置
0057-0147、 大面积可控电弧蒸发源
0178-0148、 蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
0025-0149、 等离子渗镀金属装置
0158-0150、 化学热处理气体渗碳炉浓度自动控制装置
0188-0151、 脉冲辅助过滤电弧沉积薄膜装置
0054-0152、 单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机
0088-0153、 半圆柱磁控溅射阴极
0049-0154、 一种真空镀膜机
0176-0155、 真空镀膜/沉积用偏压热蒸发装置
0137-0156、 电路板电镀及电解脱脂的导电装置
0145-0157、 轴瓦减摩层真空镀膜机
0131-0158、 导电膜镀制过程原位监测装置
0165-0159、 热镀锌锅
0098-0160、 多弧型离子镀膜机
0075-0161、 一种离子轰击炉用吊挂阴极输电装置
0103-0162、 用于制备薄膜的单晶硅辐射式加热器
0018-0163、 双端磁控溅射离子镀膜机
0120-0164、 一种热丝化学气相沉积金刚石的设备
0063-0165、 滴注式稀土渗碳微机控制装置
0128-0166、 圆柱型平面式磁控溅射靶
0146-0167、 高速退火镀锡机
0160-0168、 氮化炉的悬吊式排列架
0117-0169、 透明导电膜平面磁控溅射靶板
0015-0170、 立式玻璃移动溅射镀膜装置
0123-0171、 立式喷雾化学沉积装置
0041-0172、 镀锌缸用覆盖保温球
0205-0173、 真空镀膜装置
0180-0174、 外层辅助加热可控冷却离子轰击热处理炉
0112-0175、 试样传动杆与感应加热平板线圈呈轴偏心的装置
0004-0176、 一种恒液面气体蒸发器
0179-0177、 溅射靶
0122-0178、 高温立式双端离子镀膜机
0202-0179、 一种钢件表面的渗硼渗硫复合层
0021-0180、 同轴磁控溅射靶
0148-0181、 多用途蚌形双室离子镀膜机
0136-0182、 一种可调温度场的加热装置
0089-0183、 直流磁控溅射电源
0053-0184、 离子镀膜装置
0174-0185、 组装式燃煤热镀锌炉
0037-0186、 环状镜面板涂覆氮化钛设备
0078-0187、 磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备
0130-0188、 旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
0071-0189、 电子束蒸发器
0119-0190、 一种化学气相沉积碳化硅纤维的反应器
0077-0191、 合金成分可调的平面磁控溅射靶
0091-0192、 电热膜喷镀炉
0003-0193、 多元素填充式组合靶
0190-0194、 沉积类金刚石薄膜的镀膜机
0132-0195、 真空系统中可轴对称360°旋转的大电流水冷电极
0095-0196、 热镀锌槽
0213-0197、 中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置
0034-0198、 复合真空离子镀膜设备
0093-0199、 镀锌钢丝焊接接头超声快速热浸镀锌装置
0009-0200、 自重式激光熔覆送粉装置
0072-0201、 电镀钮扣用钮扣自动穿撑装置
0111-0202、 高硬度耐强沸酸腐蚀渗硅钢管
0079-0203、 真空镀膜炉内的自动振动翻滚装置
0192-0204、 一种气相生长金刚石膜的反应室
0196-0205、 非铁基表面硅化钛涂层装置
0019-0206、 单元式梯形阴极表面处理装置
0060-0207、 电容器用高压金属化聚酯膜镀膜机
0062-0208、 带网状电极的真空镀膜装置
0177-0209、 内壁喷塑的小口径钢管
0207-0210、 硬碳膜沉积装置
0107-0211、 一种可控电弧蒸发加速器
0035-0212、 用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构
0051-0213、 一种新型柱状磁控阴极电弧蒸发源
0005-0214、 一种化学气相淀积反应管
0024-0215、 多弧型离子镀膜机
0056-0216、 真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源
0217-0217、 新结构蒸发镀膜材料
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摘要、 本实用新型是一种大面积金属化木制品及加工设备。金属化木制品由木基材、修饰层、底漆层、金属化层和表面保护层构成。金属化木制品具有耐蚀、耐蛀、耐磨、阻燃等功能，使普通的木制品具有金属装饰品的美观感，满足了豪华装饰的要求。大面积金属化木制品加工设备可以加工１．２２×２．４４m木制品四张，由控制系统、抽真空系统和真空室构成，真空室内有蒸发源阵，蒸发源阵是由两组４５个并联的蒸发源组成保证了金属涂层的均匀性。
0059-0002、 熔剂法热浸镀铝组合装置
摘要、 本实用新型所涉及是一种熔剂法热浸镀铝组合装置，其特征是将已有炉体的固定整体式结构，改为由耐热砌体、炉体框架、移动轮、连接口及导轨等槌傻淖笥伊蕉猿撇糠值目梢贫姆痔褰峁埂?在装置出现故障时,可免提坩埚,大大缩短维修时间,提高了生产率。$本实用新型同样适合于工艺相似的其它热浸镀装置。
0106-0003、 用于稳流磁控靶与射频靶共溅射的电磁兼容装置
本实用新型涉及一种溅射设备中的部件特别是一种溅射设备中提供磁控直流的电磁装置。本实用新型的目的在于直流靶与射频靶共溅射时，直流靶能够在快速高精度的小溅射束流下工作提供一种由射频靶用绝缘带材绕一层绝缘区，外套金属屏蔽室，射频靶冷却水管外套屏蔽网，并用喉箍固定组成的电磁兼容装置。
0080-0004、 大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶
摘要、 本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜机所用的大回路闭合溅射轨迹的柱状磁控靶。该柱状靶的靶材为圆管，靶材两端置有Ｎ极板和Ｓ极板，靶管内部的空腔为水冷通道，中间置有Ｎ极靴、Ｎ极片、Ｓ极靴、Ｓ极片和永磁体。本实用新型设计的柱状磁控靶采用平行靶材的轴向的磁路系统，使溅射区与靶管轴向平行且形成大回路闭合溅射轨道。使溅射区沿靶管轴向均匀刻蚀提高靶材利用率和镀膜均匀性。
0156-0005、 射频磁控溅射对靶装置
摘要、 本装置属于一种镀膜装置，其结构是该镀膜装置为对称结构，上下两靶结构相同，每个靶的结构是外面为屏蔽层，中心为冷却水管水管外为磁屏蔽层，磁屏蔽层外为靶体，靶体下面相对装有磁块，屏蔽层相对处形成开口，对靶中间的金属材料进行镀膜。优点：结构简单，因对靶对结构形式，溅射速率快，镀膜均匀质量好，适合对各种金属材料或非金属材料上的镀膜使用。
0144-0006、 卷绕镀膜机同步机构
摘要、 本实用新型涉及一种机械特别是一种用于真空镀膜机上的机构。啮合轮两边沿呈凸棱状，凹圈等距匀布有透孔；啮合带一侧等距排列有凸牙，该凸牙啮合在透孔中，为啮合轮与啮合带相啮合状。旨在满足间断镀制塑料金属膜时间隔恒定不变。
0022-0007、 金属表面强化装置
摘要、 本实用新型是一种金属表面强化装置，属于金属材料表面处理范畴。其特征在于筒阴极底部开孔，通过孔固定基座和工件。渗镀料放置于筒阴极的四周。在筒阴极内产生了等离子区，使Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ等渗镀离子在工件表面沉积成膜，在热扩散的作用下使工件表面形成渗镀层。使金属工件表面具有在恶劣环境下耐腐蚀和摩擦，从而改善了金属表面的物理化学性能。
0012-0008、 复合型等离子体材料表面改性装置
摘要、 本实用新型涉及一种等离子体技术应用的装置特别是应用电晕、辉光放电复合型冷等离子体对金属材料、半导体材料高分子材料进行表面改性的装置制造技术领域，本实用新型提供一种集电晕放电和辉光放电于一台设备上，它由反应室系统，电极系统，真空密封和抽气及真空测量系统三大部分组成，该装置结构紧凑，一机两用，操作方便，尤其是在进行电晕放电时，可预先抽空反应室，再充入所需工作气体，从而可研究各种气体，对材料表面改性的作用机理。
0115-0009、 等离子体源材料内表面离子注入装置
摘要、 本实用新型涉及一种等离子体处理装置特别是涉及材料内表面等离子体改性处理装置。本实用新型的目的在于实现工件材料内表面的等离子体源离子注入，使工件内、外表面都能得到均匀的改性处理。为此提供一种由直流高压电源经脉冲调制器与真空室内注入工件相连；Ｎ根灯丝与灯丝电源相连，灯丝与真空室壁间加一放电偏压源，工作气体源经进气口与真空室相通；金属内电极沿样品内部轴线安置，并与真空室壁连接组成的等离子体处理装置。本实用新型可有效地对工业上各类具有轴对称内形零件内表面进行改性处理，操作简单，注入效率高。
0082-0010、 卧式三维运动多弧镀膜装置
摘要、 一种包含炉体、炉门、设置于炉体内的弧靶、具有行星轮系和旋转轴的挂件架、和传动轴的卧式三维运动多弧镀膜装置，其特征在于：所述的弧靶在炉体内呈间隔设置；炉体内设置有带往复运动机构的台车，所述的挂件架固定在上述的台车上；设置有将旋转轴和传动轴相连的伸缩式联轴器。能加工长度超过３米的工件，具有弧靶总功率小、炉体长度短、设备投资少等优点。
0065-0011、 零散件机械镀锌机
0116-0012、 一种离子渗碳氮化炉
0186-0013、 平面显示器连续镀膜装置
0030-0014、 超声喷射浸锡机锡槽
0121-0015、 一种热镀锌清整装置
0068-0016、 六米光亮钛金管
0108-0017、 镀膜系统用的激光自动消颗粒装置
0206-0018、 化学气相沉积金刚石均质喷嘴
0184-0019、 金属低温渗入的装置
0090-0020、 大回路闭合溅射轨迹柱状磁控靶
0097-0021、 磁控弧光放电离子镀装置
0016-0022、 有机玻璃真空镀膜机
0101-0023、 一种等离子渗金属装置
0127-0024、 工频渗浸铝炉用异径启熔体
0159-0025、 一种多用途真空镀膜机
0114-0026、 大型工业化合成等离子渗硫炉
0028-0027、 能在工件指定部位获得膜层的夹具
0064-0028、 等离子体多弧离子镀膜装置
0067-0029、 平面磁控溅射源
0058-0030、 多蒸发离化源离子镀膜机
0084-0031、 旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机
0181-0032、 镀钛铝锌钢板
0109-0033、 金属膜、氧化膜电阻高速高质镀膜机
0140-0034、 旋转靶柱型磁控溅射器
0043-0035、 采用激光法制备薄膜系统中的热反射镜装置
0100-0036、 一种制备金属管内防腐层的模具
0096-0037、 多弧—磁控溅射真空离子镀金设备
0168-0038、 一种多用途柱状真空等离子体镀膜源
0182-0039、 离心式热镀锌机
0194-0040、 金属表面强化用的常压非平衡离子渗扩炉
0157-0041、 柔性卷绕镀膜机
0040-0042、 一种可控电弧靶
0110-0043、 一种钼舟
0073-0044、 电弧蒸发和磁控溅射相结合的离子镀膜设备
0007-0045、 整体式蒸发源电极
0153-0046、 使用电磁力抹制的金属线材热镀钢丝设备
0164-0047、 新型离子镀膜设备
0027-0048、 双层辉光多功能离子轰击炉
0150-0049、 真空电镀底漆层处理机
0172-0050、 用于气相沉积的自动化镀膜装置
0006-0051、 双真空室镀膜设备
0211-0052、 金属线材直线送进穿过熔锅的热镀设备
0139-0053、 真空溅射镀膜机
0198-0054、 氧化膜外延设备
0081-0055、 喷铸铜工艺品
0083-0056、 多元共渗渗剂气体发生装置
0200-0057、 自动浸镀机
0017-0058、 金属表面改性装置
0066-0059、 玻壳蒸铝机
0189-0060、 消除短波通截止滤光片半波孔的装置
0048-0061、 波形梁热浸镀装置
0183-0062、 金属电沥彩着色机
0061-0063、 内置式磁控溅射源用冷却水接头
0141-0064、 制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机
0031-0065、 一种真空腔用玻壳蒸铝装置
0142-0066、 用于大面积辅助镀膜的无栅离子源
0191-0067、 低功率高效率等离子喷涂装置
0163-0068、 平面磁控溅射氧化铟锡膜卷绕镀膜机
0020-0069、 涂覆渗镀金属装置
0171-0070、 一种热处理器
0045-0071、 多功能全方位增强沉积型离子注入机
0199-0072、 脉冲激光沉积大面积薄膜的装置
0023-0073、 真空镀膜机移动靶装置
0047-0074、 金属材料渗碳设备
0033-0075、 浸锌摔活机
0085-0076、 一种真空镀膜机收卷装置
0151-0077、 一种玛钢件镀锌装置
0214-0078、 环型镀膜室
0026-0079、 双重加热多功能离子轰击炉
0036-0080、 电焊网热镀锌装置
0076-0081、 一种离子轰击炉用堆放阴极输电装置
0175-0082、 磁控溅射耙室装置
0149-0083、 离子化学热处理设备
0055-0084、 真空镀膜设备中的速抽式真空系统
0069-0085、 一种利用磁控等离子体技术制备低表面能换热管的加工炉
0203-0086、 改进的热浸镀锡工件夹制具
0008-0087、 化学热处理滴量仪
0094-0088、 一种高频感应加热化学反应腔装置
0126-0089、 一种金属蒸汽真空弧离子源
0086-0090、 一种改进的真空镀膜机收卷装置
0212-0091、 反应溅射二氧化硅与导电膜连镀的气体隔离装置
0193-0092、 金属器件防伪标识装置
0195-0093、 脉冲激光淀积装置
0187-0094、 离子束溅射镀膜机
0208-0095、 真空磁控溅射泡沫金属化机
0138-0096、 一种透明隔热薄膜
0170-0097、 真空镀膜室的薄壳结构
0204-0098、 热浸镀锡输送加工装置的摆动及振动装置
0052-0099、 受控形成和输送具有至少二种组分的气体气氛的装置
0161-0100、 一种用于化学镀的封头
0155-0101、 用普通离子渗氮设备进行钛板渗氮的装置
0011-0102、 熔盐覆盖法钢铁材热浸镀铝锅池
0185-0103、 超高真空多功能磁控溅射装置
0201-0104、 微脉冲等离子渗氮热壁炉
0154-0105、 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机
0050-0106、 一种新型柱状磁控溅射源
0167-0107、 电弧喷锌、喷铝电缆桥架
0087-0108、 多功能真空镀膜装置
0074-0109、 柱形靶电弧汽相淀积装置
0001-0110、 热浸镀铝的钢铁锅
0162-0111、 复合靶
0038-0112、 一种化学热处理滴控仪
0216-0113、 塑料瓶内壁非晶碳镀膜机
0173-0114、 组装式燃油(气)热镀锌炉
0125-0115、 一种离子硫化设备
0169-0116、 炉内充氮驱氧及微压测氧装置
0102-0117、 敷铝型钢形材
0099-0118、 偏心进气化学气相沉积炉
0044-0119、 多功能离子镀膜机
0046-0120、 金色表面的制品
0147-0121、 一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机
0197-0122、 真空镀膜中电阻加热式蒸发舟活动电极
0032-0123、 在工件上获得预定膜层厚度分布用的夹具装置
0135-0124、 镀锡炉出口输送装置
0014-0125、 热镀锌清整机
0133-0126、 电焊网热镀锌暖风吹拭装置
0029-0127、 多极网格离子发射加速器
0104-0128、 一种用于真空制膜设备的活化气体装置
0143-0129、 难熔金属蒸发舟
0105-0130、 多工位气相合成金刚石膜装置
0092-0131、 真空集热管镀膜弹性夹具
0070-0132、 横管中心靶卧式真空涂膜机
0134-0133、 连续式可控气氛渗碳炉稀土催渗剂加入装置
0124-0134、 用热雾化附着法制备导电膜的设备
0010-0135、 镀膜宝石
0152-0136、 一种真空渗锌炉
0209-0137、 一种用于真空蒸镀的样品支架
0013-0138、 直流电弧喷射沉积金刚石装置
0215-0139、 泡沫镍磁控溅射卷绕镀膜机
0042-0140、 对靶式直流磁控离子溅射台
0113-0141、 旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机
0118-0142、 钢管热浸镀机
0210-0143、 粉末渗锌设备
0002-0144、 立式强流大束斑金属工业离子注入机
0039-0145、 激光气相合成薄膜和超细粉的装置
0129-0146、 金属表面高温超声场热浸镀装置
0057-0147、 大面积可控电弧蒸发源
0178-0148、 蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机
0025-0149、 等离子渗镀金属装置
0158-0150、 化学热处理气体渗碳炉浓度自动控制装置
0188-0151、 脉冲辅助过滤电弧沉积薄膜装置
0054-0152、 单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机
0088-0153、 半圆柱磁控溅射阴极
0049-0154、 一种真空镀膜机
0176-0155、 真空镀膜/沉积用偏压热蒸发装置
0137-0156、 电路板电镀及电解脱脂的导电装置
0145-0157、 轴瓦减摩层真空镀膜机
0131-0158、 导电膜镀制过程原位监测装置
0165-0159、 热镀锌锅
0098-0160、 多弧型离子镀膜机
0075-0161、 一种离子轰击炉用吊挂阴极输电装置
0103-0162、 用于制备薄膜的单晶硅辐射式加热器
0018-0163、 双端磁控溅射离子镀膜机
0120-0164、 一种热丝化学气相沉积金刚石的设备
0063-0165、 滴注式稀土渗碳微机控制装置
0128-0166、 圆柱型平面式磁控溅射靶
0146-0167、 高速退火镀锡机
0160-0168、 氮化炉的悬吊式排列架
0117-0169、 透明导电膜平面磁控溅射靶板
0015-0170、 立式玻璃移动溅射镀膜装置
0123-0171、 立式喷雾化学沉积装置
0041-0172、 镀锌缸用覆盖保温球
0205-0173、 真空镀膜装置
0180-0174、 外层辅助加热可控冷却离子轰击热处理炉
0112-0175、 试样传动杆与感应加热平板线圈呈轴偏心的装置
0004-0176、 一种恒液面气体蒸发器
0179-0177、 溅射靶
0122-0178、 高温立式双端离子镀膜机
0202-0179、 一种钢件表面的渗硼渗硫复合层
0021-0180、 同轴磁控溅射靶
0148-0181、 多用途蚌形双室离子镀膜机
0136-0182、 一种可调温度场的加热装置
0089-0183、 直流磁控溅射电源
0053-0184、 离子镀膜装置
0174-0185、 组装式燃煤热镀锌炉
0037-0186、 环状镜面板涂覆氮化钛设备
0078-0187、 磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备
0130-0188、 旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机
0071-0189、 电子束蒸发器
0119-0190、 一种化学气相沉积碳化硅纤维的反应器
0077-0191、 合金成分可调的平面磁控溅射靶
0091-0192、 电热膜喷镀炉
0003-0193、 多元素填充式组合靶
0190-0194、 沉积类金刚石薄膜的镀膜机
0132-0195、 真空系统中可轴对称360°旋转的大电流水冷电极
0095-0196、 热镀锌槽
0213-0197、 中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置
0034-0198、 复合真空离子镀膜设备
0093-0199、 镀锌钢丝焊接接头超声快速热浸镀锌装置
0009-0200、 自重式激光熔覆送粉装置
0072-0201、 电镀钮扣用钮扣自动穿撑装置
0111-0202、 高硬度耐强沸酸腐蚀渗硅钢管
0079-0203、 真空镀膜炉内的自动振动翻滚装置
0192-0204、 一种气相生长金刚石膜的反应室
0196-0205、 非铁基表面硅化钛涂层装置
0019-0206、 单元式梯形阴极表面处理装置
0060-0207、 电容器用高压金属化聚酯膜镀膜机
0062-0208、 带网状电极的真空镀膜装置
0177-0209、 内壁喷塑的小口径钢管
0207-0210、 硬碳膜沉积装置
0107-0211、 一种可控电弧蒸发加速器
0035-0212、 用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构
0051-0213、 一种新型柱状磁控阴极电弧蒸发源
0005-0214、 一种化学气相淀积反应管
0024-0215、 多弧型离子镀膜机
0056-0216、 真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源
0217-0217、 新结构蒸发镀膜材料
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