镀膜、镀膜装置、镀膜方法、等离子镀膜生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0116-0001、 榨油机耐磨易损件及其制造方法
摘要、 榨油机耐磨易损件及其制造方法，采用钢质毛坯，其特点是在所述钢质毛坯的易损面上，具有耐磨涂层，所述耐磨涂层由镍基合金粉和碳化钨粉构成；所述耐磨涂层采用真空熔结法形成。采用本发明技术，易损件工作面的硬度可达58-65HRC，不开裂、不脱落、制造成本低、使用寿命长，是传统渗碳技术制造零件使用寿命的5-10倍。
0031-0002、 溅射装置
摘要、 本发明的目的在于提供一种可以减少异常放电和非腐蚀部，并能够形成膜厚分布均匀的膜的成膜装置。本发明的成膜装置(1)具有多个靶(31a～31f)，对不同的靶(31a～31f)施加极性不同的交流电压。当一方的靶(31a～31f)置于负电位时，另一方的靶(31a～31f)置于正电位，并作为阳极起作用，所以，相邻靶(31a～31f)之间不必配置阳极。因相邻的靶(31a～31f)之间什么都不配置，故可以缩短靶(31a～31f)间的距离s，由于在配置了靶(31a～31f)的区域内不放射溅射粒子的面积的比例减小，故溅射粒子均匀地到达衬底(5)，从而使膜厚分布变得均匀。
0069-0003、 放电表面处理用电极、放电表面处理方法及放电表面处理装置
为了利用通过液中脉冲放电处理而进行的涂覆来形成厚膜，使电极中作为电极材料含有40体积％以上的不形成或不易形成碳化物的金属材料。
0072-0004、 钢件快速热渗铝工艺
摘要、 一种钢件快速热渗铝工艺如下：①除油；②除锈；③清水刷洗；④表面活化；⑤助渗；⑥烘干或自然干燥；⑦熔剂处理；⑧渗铝。其优点是：渗铝温度低(680℃左右)，渗铝时间短(2-4分钟)，节约了能源提高了效率。同时由于：从实验的数据比较得出“低温快速”渗铝新工艺提高了扩散渗铝的抗热，冲击稳定性和疲劳强度各10％以上；提高了焊接性能；由于“低温快速”的特点完全保持了工件表面的纯铝层提高了抗腐蚀性，因铝受到温度和空气氧化后形成了一层坚硬又致密的AI,2,O,3,的保护层，更好的对铁铝合金层起到封闭作用；渗铝前后的金属组织，常规的机械性能保持强度均无明显变化。
0064-0005、 原子层沉积方法
摘要、 一种原子层沉积方法，包括将半导体基材放置在原子层沉积室内。第一前体气体流过原子层沉积室内的基材上以在基材上有效形成第一单层。在形成第一单层后，反应性中间体气体流向沉积室内的基材。反应性中间体气体在反应性中间体气体的流动的条件下能够与来自第一前体流的中间反应副产物反应。在反应性中间体流过后，第二前体气体流向沉积室内的基材，以在第一单层上有效形成第二单层。本发明还考虑了其它方面和实施方案。
0087-0006、 氮化钨的汽相沉积
摘要、 通过二(烷基亚氨基)二(二烷基氨基)钨的蒸汽和路易斯碱或氢等离子体反应在基材上沉积氮化钨薄膜。例如，二(*丁基亚氨基)二(二甲基氨基)钨的蒸汽和氨气以交替的剂量提供到加热至300℃的表面，产生的氮化钨涂层具有非常均匀的厚度和在长径比高达至少40∶1的孔穴中具有极好的阶梯覆盖。所述薄膜是金属的并且是好导电体。在微电子器件中合适的应用包括铜扩散的阻挡层和用于电容的电极。相似的方法沉积氮化钼，其适用于在X射线镜面中和硅交替的层。
0022-0007、 用于化合物半导体材料生长的喷头及原料输入方法
摘要、 本发明公开了一种用于化合物半导体材料生长的化学气相沉积设备的喷头及原料输入方法，它包括第一气体供应管1、第二气体供应管2、冷却水供应管3、喷头本体4、第一进气腔5、第二进气腔6、水冷腔7、第一气体注入管8、第二气体注入管9。所述第一气体注入管的横截面积大于第二气体注入管的横截面积，且所述第一气体注入管和第二气体注入管交替地排列。进入量大的元素周期表中的V或VI族原料通过第一气体注入管进入，进入量小的元素周期表中III族或II组原料通过第二气体注入管进入。
0054-0008、 三价铬钝化液及其制备方法
摘要、 本发明涉及一种金属钝化液特别指彩色、黑色、蓝色钝化液及其制备方法。本发明由以下原料组成：*铬150-300、*2-15、硫酸亚铁25-75、醋酸5-15、丙二酸2-20、水；所述的钝化液分为彩色钝化液、黑色钝化液、蓝色钝化液三种。为了提高金属镀锌层的耐蚀性，增加其装饰性，必须进行钝化处理，本发明是一种新型的不含六价铬的镀锌层后处理液，通过它的简单浸渍，能在镀锌层表面形成一种光亮的高抗蚀性膜，外观漂亮，耐腐蚀性非常强，属于一种环保型的钝化液。
0088-0009、 大气压二氧化钛CVD涂层
摘要、 描述了一种供通过CVD淀积二氧化钛及含二氧化钛薄膜的方法，使用大气压辉光放电等离子体作为主要反应源，它导致通常只有以显著较高衬底温度才能获得的膜特性和膜生长速率。
0210-0010、 一种热镀锌装置
摘要、 本实用新型装置由热镀锌锅（Ａ）、加热器（Ｂ）和电源（Ｃ）组成。热镀锌锅呈一长方体，其一长度边上至少有两个梯形凹槽（１），在梯形凹槽（１）内放置加热器（Ｂ）。热镀锌锅的宽度为６００～１２００ｍｍ。热镀锌锅（Ａ）的底面和四周墙壁是耐火砖砌体（３），在其外面用普通钢板（２）作外壳。加热器（Ｂ）由载热体（５）和加热元件（６）组成，并用导线接通电源。该装置结构简单，容易制造，方便拆卸和安装，具有很强的耐腐蚀能力，适于浸镀钢丝、钢管、钢板和大型异型钢构件。
0048-0011、 气体配制系统及其气体配制方法
0045-0012、 一种在磁制冷材料表面制作薄膜的方法及装置
0117-0013、 一种电解用涂层阳极的制造方法
0131-0014、 氧化锡纳米敏感薄膜制备方法
0143-0015、 无电解镀方法
0107-0016、 含铅的铜合金的降低铅溶出的处理方法及含铅的铜合金制的水管道用器具
0207-0017、 一种用于磁控溅射的阴极靶
0056-0018、 超声快速沉积法制备纳米氧化物透明导电膜的设备及方法
0023-0019、 拉丝用低温快速磷化液及磷化工艺
0176-0020、 镀镍-铁合金的聚酯膜
0102-0021、 防止真空计腐蚀的真空工作设备与方法
0112-0022、 薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示器
0194-0023、 电阻法控制气体渗碳仪表
0098-0024、 溅射靶材料及其生产方法
0121-0025、 铜溅射靶和形成铜溅射靶的方法
0174-0026、 一种气体渗碳炉渗剂滴注系统
0216-0027、 柱状靶等离子镀膜机
0086-0028、 衬底处理设备及相关的系统与方法
0147-0029、 制备纳米硅基发光复合薄膜的方法
0091-0030、 通过电磁射线发射进行原位衬底温度监控的方法和装置
0032-0031、 无栅极离子助镀器
0150-0032、 一种高耐蚀耐磨等离子喷涂铁基非晶纳米晶涂层及制备方法
0020-0033、 用以形成薄膜的可在基片和防镀片之间改变距离的喷镀设备
0015-0034、 光学薄膜镀制过程中的膜厚监控及测量方法
0139-0035、 复合材料
0059-0036、 在无织构的金属基带上制备YBCO高温超导薄膜的方法
0135-0037、 铝合金无铬化学转化液及其使用方法
0074-0038、 硬质保护膜及其形成方法、以及硬质保护膜包覆工具
0092-0039、 金属化
0197-0040、 钢管机械镀锌机
0093-0041、 用于再生无电金属电镀浴的装置及方法
0142-0042、 基板处理装置和基板处理方法
0114-0043、 镍钛合金复合化学镀载药镍钴钨薄膜的镀液和工艺方法
0188-0044、 镀有金属膜的金属制品
0177-0045、 聚乙烯薄膜真空镀铝设备
0050-0046、 保持金属化熔池的方法
0151-0047、 等离子喷涂
0028-0048、 具有优异的受压可成形性的预涂覆金属板及其生产方法
0213-0049、 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
0097-0050、 蒸镀工序用喷嘴蒸发源
0149-0051、 锰系含钙磷化液
0214-0052、 热基体渗涂金属的装置
0058-0053、 一种半导体激光器腔面钝化的方法
0155-0054、 制造稳定的掺氟氧化硅薄层的方法、制成的薄层及其在眼科光学中的应用
0100-0055、 单MEVVA离子源渗注镀复合处理工艺
0140-0056、 可延展的金属间溅射靶的制造方法
0016-0057、 电弧喷镀装置
0212-0058、 一种浸渍处理用压杠
0123-0059、 对基质进行真空处理的设备
0129-0060、 液体擦拭装置
0042-0061、 溅射装置及形成薄膜的方法
0133-0062、 对带有空腔的构件敷设内涂层的方法及具有内涂层的构件
0160-0063、 用于形成含锆和/或铪层的系统和方法
0187-0064、 渗碳炉气压稳压器
0146-0065、 颗粒增强铝基复合材料表面颗粒暴露及后处理方法
0053-0066、 中温化学镀镍溶液
0094-0067、 α型晶体结构为主体的氧化铝被膜制造方法、α型晶体结构为主体的氧化铝被膜和...
0096-0068、 直列式有机电致发光制造装置
0084-0069、 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
0113-0070、 经激光构图的塑料表面处理方法
0205-0071、 等离子镀膜装置
0014-0072、 用于阴极射线管的内部磁屏蔽材料及其制造方法
0044-0073、 物理气相沉积方法及其设备
0179-0074、 多源型平面磁控溅射源
0010-0075、 压差式真空抽吸的材料蒸发室
0008-0076、 涂覆设备
0076-0077、 适应热膨胀的喷头装备
0095-0078、 耐腐蚀性铝系结构部件及其制造方法
0109-0079、 具有表面抗菌膜的卫浴产品的制作方法及其制品
0067-0080、 耐白锈性优异的表面处理钢板及其制造方法
0178-0081、 分离磁体式平面磁控溅射源
0019-0082、 通过离子注入和热处理制备有色金刚石的方法
0204-0083、 一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
0148-0084、 一种在水溶液中制备无机磷酸盐薄膜的方法
0062-0085、 马氏体时效型钢的等离子渗氮、电动剃须刀的剃刀盖、用该钢制造的切削器具以及...
0073-0086、 一种制备氮化钛复合陶瓷的工艺
0166-0087、 用于表面材料合成的真空反应室
0060-0088、 含陶瓷粒子自熔性合金喷镀材料
0080-0089、 一种适用于镁合金基体表面机械镀锌锡复合镀层的工艺
0152-0090、 粉末金属连杆
0130-0091、 铜-铝复合材料的制造方法
0047-0092、 溅射方法及其装置
0118-0093、 外观极佳的锡基金属镀层钢带及其生产工艺
0215-0094、 温度可控型双对靶新型薄膜溅射仪
0211-0095、 真空多区磁控阴极溅射头
0119-0096、 溅射靶及光记录介质
0158-0097、 采用醇形成金属氧化物的系统和方法
0198-0098、 小型节能式搪锡器
0103-0099、 在沉积过程中维持副产物挥发性的方法和设备
0184-0100、 金属化表面人造板材
0089-0101、 氧化铝薄膜的制备方法
0193-0102、 一种热镀锌钢丝抹制夹具
0043-0103、 一种金银纳米颗粒分散氧化物光学薄膜制备方法
0167-0104、 物理气相沉积用的涂层装置
0046-0105、 金属薄膜中阈值能*引入方法
0104-0106、 压电膜的制造方法、基板和压电膜的层叠结构、压电激励器及其制造方法
0070-0107、 大型构件热浸镀螺纹保护浆
0161-0108、 实施等离子体-支持工艺的装置
0077-0109、 冷却装置、使用了该装置的图像显示面板的制造装置以及方法
0181-0110、 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
0111-0111、 用于高功率溅镀的电源联接器
0162-0112、 无电解镀方法
0182-0113、 一种平面磁控溅射靶
0168-0114、 高均匀膜层镀膜装置
0208-0115、 钕铁硼制品除锈及镀覆有机膜的装置
0052-0116、 单晶硅片表面制备磺酸基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法
0127-0117、 金属材料表面的涂布方法,用于实施该方法的设备以及如此获得的产品
0163-0118、 真空氮化热处理炉
0169-0119、 多用对向靶溅射仪
0201-0120、 多弧离子镀技术中的等离子体蒸发装置
0071-0121、 一种常温发黑处理工艺
0049-0122、 具有超硬镀膜的模具
0186-0123、 立式真空溅射镀膜机多靶镀膜室
0192-0124、 一种镀铝聚脂薄膜反光材料
0108-0125、 对Sn合金的表面处理剂及表面处理方法
0136-0126、 厨房用碳钢-铝被覆材料以及其制造方法
0003-0127、 辉光放电分解装置
0027-0128、 金属表面的涂层方法
0206-0129、 多阴极脉冲电弧蒸发离化源
0124-0130、 连续化学气相沉积工艺和加工炉
0090-0131、 在用塑料制成的玻璃板上形成涂层的方法
0099-0132、 用于平面溅镀的二维磁电管扫描
0001-0133、 用于银沉积的酸性溶液及在金属表面上沉积银层的方法
0013-0134、 用电子束硬化低介电常数膜的方法
0172-0135、 一种耐浸蚀的热镀锌槽
0199-0136、 等离子镀膜机点弧自控装置
0011-0137、 使用低蒸气压气体前体向基材上沉积膜的系统
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0004-0142、 镀膜装置及其夹具
0012-0143、 旋转型的批量生产用CVD成膜装置和在塑料容器的内表面形成CVD膜的成膜方...
0190-0144、 推进、步进式双层辉光离子渗金属炉
0075-0145、 用于反应溅射的设备
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0202-0153、 气体渗碳自控系统滴注执行机构
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0141-0164、 薄膜成膜方法、薄膜成膜装置和薄膜成膜过程的监视方法
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0154-0166、 无定形碳膜及其制备方法以及无定形碳膜涂敷的材料
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0126-0182、 无电解镀装置及无电解镀方法
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摘要、 榨油机耐磨易损件及其制造方法，采用钢质毛坯，其特点是在所述钢质毛坯的易损面上，具有耐磨涂层，所述耐磨涂层由镍基合金粉和碳化钨粉构成；所述耐磨涂层采用真空熔结法形成。采用本发明技术，易损件工作面的硬度可达58-65HRC，不开裂、不脱落、制造成本低、使用寿命长，是传统渗碳技术制造零件使用寿命的5-10倍。
0031-0002、 溅射装置
摘要、 本发明的目的在于提供一种可以减少异常放电和非腐蚀部，并能够形成膜厚分布均匀的膜的成膜装置。本发明的成膜装置(1)具有多个靶(31a～31f)，对不同的靶(31a～31f)施加极性不同的交流电压。当一方的靶(31a～31f)置于负电位时，另一方的靶(31a～31f)置于正电位，并作为阳极起作用，所以，相邻靶(31a～31f)之间不必配置阳极。因相邻的靶(31a～31f)之间什么都不配置，故可以缩短靶(31a～31f)间的距离s，由于在配置了靶(31a～31f)的区域内不放射溅射粒子的面积的比例减小，故溅射粒子均匀地到达衬底(5)，从而使膜厚分布变得均匀。
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摘要、 一种钢件快速热渗铝工艺如下：①除油；②除锈；③清水刷洗；④表面活化；⑤助渗；⑥烘干或自然干燥；⑦熔剂处理；⑧渗铝。其优点是：渗铝温度低(680℃左右)，渗铝时间短(2-4分钟)，节约了能源提高了效率。同时由于：从实验的数据比较得出“低温快速”渗铝新工艺提高了扩散渗铝的抗热，冲击稳定性和疲劳强度各10％以上；提高了焊接性能；由于“低温快速”的特点完全保持了工件表面的纯铝层提高了抗腐蚀性，因铝受到温度和空气氧化后形成了一层坚硬又致密的AI,2,O,3,的保护层，更好的对铁铝合金层起到封闭作用；渗铝前后的金属组织，常规的机械性能保持强度均无明显变化。
0064-0005、 原子层沉积方法
摘要、 一种原子层沉积方法，包括将半导体基材放置在原子层沉积室内。第一前体气体流过原子层沉积室内的基材上以在基材上有效形成第一单层。在形成第一单层后，反应性中间体气体流向沉积室内的基材。反应性中间体气体在反应性中间体气体的流动的条件下能够与来自第一前体流的中间反应副产物反应。在反应性中间体流过后，第二前体气体流向沉积室内的基材，以在第一单层上有效形成第二单层。本发明还考虑了其它方面和实施方案。
0087-0006、 氮化钨的汽相沉积
摘要、 通过二(烷基亚氨基)二(二烷基氨基)钨的蒸汽和路易斯碱或氢等离子体反应在基材上沉积氮化钨薄膜。例如，二(*丁基亚氨基)二(二甲基氨基)钨的蒸汽和氨气以交替的剂量提供到加热至300℃的表面，产生的氮化钨涂层具有非常均匀的厚度和在长径比高达至少40∶1的孔穴中具有极好的阶梯覆盖。所述薄膜是金属的并且是好导电体。在微电子器件中合适的应用包括铜扩散的阻挡层和用于电容的电极。相似的方法沉积氮化钼，其适用于在X射线镜面中和硅交替的层。
0022-0007、 用于化合物半导体材料生长的喷头及原料输入方法
摘要、 本发明公开了一种用于化合物半导体材料生长的化学气相沉积设备的喷头及原料输入方法，它包括第一气体供应管1、第二气体供应管2、冷却水供应管3、喷头本体4、第一进气腔5、第二进气腔6、水冷腔7、第一气体注入管8、第二气体注入管9。所述第一气体注入管的横截面积大于第二气体注入管的横截面积，且所述第一气体注入管和第二气体注入管交替地排列。进入量大的元素周期表中的V或VI族原料通过第一气体注入管进入，进入量小的元素周期表中III族或II组原料通过第二气体注入管进入。
0054-0008、 三价铬钝化液及其制备方法
摘要、 本发明涉及一种金属钝化液特别指彩色、黑色、蓝色钝化液及其制备方法。本发明由以下原料组成：*铬150-300、*2-15、硫酸亚铁25-75、醋酸5-15、丙二酸2-20、水；所述的钝化液分为彩色钝化液、黑色钝化液、蓝色钝化液三种。为了提高金属镀锌层的耐蚀性，增加其装饰性，必须进行钝化处理，本发明是一种新型的不含六价铬的镀锌层后处理液，通过它的简单浸渍，能在镀锌层表面形成一种光亮的高抗蚀性膜，外观漂亮，耐腐蚀性非常强，属于一种环保型的钝化液。
0088-0009、 大气压二氧化钛CVD涂层
摘要、 描述了一种供通过CVD淀积二氧化钛及含二氧化钛薄膜的方法，使用大气压辉光放电等离子体作为主要反应源，它导致通常只有以显著较高衬底温度才能获得的膜特性和膜生长速率。
0210-0010、 一种热镀锌装置
摘要、 本实用新型装置由热镀锌锅（Ａ）、加热器（Ｂ）和电源（Ｃ）组成。热镀锌锅呈一长方体，其一长度边上至少有两个梯形凹槽（１），在梯形凹槽（１）内放置加热器（Ｂ）。热镀锌锅的宽度为６００～１２００ｍｍ。热镀锌锅（Ａ）的底面和四周墙壁是耐火砖砌体（３），在其外面用普通钢板（２）作外壳。加热器（Ｂ）由载热体（５）和加热元件（６）组成，并用导线接通电源。该装置结构简单，容易制造，方便拆卸和安装，具有很强的耐腐蚀能力，适于浸镀钢丝、钢管、钢板和大型异型钢构件。
0048-0011、 气体配制系统及其气体配制方法
0045-0012、 一种在磁制冷材料表面制作薄膜的方法及装置
0117-0013、 一种电解用涂层阳极的制造方法
0131-0014、 氧化锡纳米敏感薄膜制备方法
0143-0015、 无电解镀方法
0107-0016、 含铅的铜合金的降低铅溶出的处理方法及含铅的铜合金制的水管道用器具
0207-0017、 一种用于磁控溅射的阴极靶
0056-0018、 超声快速沉积法制备纳米氧化物透明导电膜的设备及方法
0023-0019、 拉丝用低温快速磷化液及磷化工艺
0176-0020、 镀镍-铁合金的聚酯膜
0102-0021、 防止真空计腐蚀的真空工作设备与方法
0112-0022、 薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示器
0194-0023、 电阻法控制气体渗碳仪表
0098-0024、 溅射靶材料及其生产方法
0121-0025、 铜溅射靶和形成铜溅射靶的方法
0174-0026、 一种气体渗碳炉渗剂滴注系统
0216-0027、 柱状靶等离子镀膜机
0086-0028、 衬底处理设备及相关的系统与方法
0147-0029、 制备纳米硅基发光复合薄膜的方法
0091-0030、 通过电磁射线发射进行原位衬底温度监控的方法和装置
0032-0031、 无栅极离子助镀器
0150-0032、 一种高耐蚀耐磨等离子喷涂铁基非晶纳米晶涂层及制备方法
0020-0033、 用以形成薄膜的可在基片和防镀片之间改变距离的喷镀设备
0015-0034、 光学薄膜镀制过程中的膜厚监控及测量方法
0139-0035、 复合材料
0059-0036、 在无织构的金属基带上制备YBCO高温超导薄膜的方法
0135-0037、 铝合金无铬化学转化液及其使用方法
0074-0038、 硬质保护膜及其形成方法、以及硬质保护膜包覆工具
0092-0039、 金属化
0197-0040、 钢管机械镀锌机
0093-0041、 用于再生无电金属电镀浴的装置及方法
0142-0042、 基板处理装置和基板处理方法
0114-0043、 镍钛合金复合化学镀载药镍钴钨薄膜的镀液和工艺方法
0188-0044、 镀有金属膜的金属制品
0177-0045、 聚乙烯薄膜真空镀铝设备
0050-0046、 保持金属化熔池的方法
0151-0047、 等离子喷涂
0028-0048、 具有优异的受压可成形性的预涂覆金属板及其生产方法
0213-0049、 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
0097-0050、 蒸镀工序用喷嘴蒸发源
0149-0051、 锰系含钙磷化液
0214-0052、 热基体渗涂金属的装置
0058-0053、 一种半导体激光器腔面钝化的方法
0155-0054、 制造稳定的掺氟氧化硅薄层的方法、制成的薄层及其在眼科光学中的应用
0100-0055、 单MEVVA离子源渗注镀复合处理工艺
0140-0056、 可延展的金属间溅射靶的制造方法
0016-0057、 电弧喷镀装置
0212-0058、 一种浸渍处理用压杠
0123-0059、 对基质进行真空处理的设备
0129-0060、 液体擦拭装置
0042-0061、 溅射装置及形成薄膜的方法
0133-0062、 对带有空腔的构件敷设内涂层的方法及具有内涂层的构件
0160-0063、 用于形成含锆和/或铪层的系统和方法
0187-0064、 渗碳炉气压稳压器
0146-0065、 颗粒增强铝基复合材料表面颗粒暴露及后处理方法
0053-0066、 中温化学镀镍溶液
0094-0067、 α型晶体结构为主体的氧化铝被膜制造方法、α型晶体结构为主体的氧化铝被膜和...
0096-0068、 直列式有机电致发光制造装置
0084-0069、 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
0113-0070、 经激光构图的塑料表面处理方法
0205-0071、 等离子镀膜装置
0014-0072、 用于阴极射线管的内部磁屏蔽材料及其制造方法
0044-0073、 物理气相沉积方法及其设备
0179-0074、 多源型平面磁控溅射源
0010-0075、 压差式真空抽吸的材料蒸发室
0008-0076、 涂覆设备
0076-0077、 适应热膨胀的喷头装备
0095-0078、 耐腐蚀性铝系结构部件及其制造方法
0109-0079、 具有表面抗菌膜的卫浴产品的制作方法及其制品
0067-0080、 耐白锈性优异的表面处理钢板及其制造方法
0178-0081、 分离磁体式平面磁控溅射源
0019-0082、 通过离子注入和热处理制备有色金刚石的方法
0204-0083、 一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
0148-0084、 一种在水溶液中制备无机磷酸盐薄膜的方法
0062-0085、 马氏体时效型钢的等离子渗氮、电动剃须刀的剃刀盖、用该钢制造的切削器具以及...
0073-0086、 一种制备氮化钛复合陶瓷的工艺
0166-0087、 用于表面材料合成的真空反应室
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0080-0089、 一种适用于镁合金基体表面机械镀锌锡复合镀层的工艺
0152-0090、 粉末金属连杆
0130-0091、 铜-铝复合材料的制造方法
0047-0092、 溅射方法及其装置
0118-0093、 外观极佳的锡基金属镀层钢带及其生产工艺
0215-0094、 温度可控型双对靶新型薄膜溅射仪
0211-0095、 真空多区磁控阴极溅射头
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0158-0097、 采用醇形成金属氧化物的系统和方法
0198-0098、 小型节能式搪锡器
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0184-0100、 金属化表面人造板材
0089-0101、 氧化铝薄膜的制备方法
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0070-0107、 大型构件热浸镀螺纹保护浆
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0027-0128、 金属表面的涂层方法
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0012-0143、 旋转型的批量生产用CVD成膜装置和在塑料容器的内表面形成CVD膜的成膜方...
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