涂层、涂层功能、涂层管、涂层装置生产及应用技术
作者：百创科技 金属矿产来源：本站原创 点击数： 更新时间：2024/2/8
0110-0001、 一种热处理方法及其装置
摘要、 一种热处理方法及其装置，先借助负压变压过程迅速排除炉罐内的空气或老化气氛，而后负压促使渗剂迅速进入炉罐内并借助风机自行、均匀扩散到各处。由于渗剂是定量进入空气或老化气氛已排除干净的炉罐内的，因此，本发明具有热处理后的工件质量好(无氧化生成的黑色组织)、能耗少、渗速快、无污染的绿色的优点。
0026-0002、 可控金属纳米导线的化学制备方法
摘要、 本发明属于直径和长度可控金属纳米导线的化学制备方法。在不同的基体上操作，包括云母、玻璃、陶瓷、塑料等。将扫描探针显微镜基底云母或玻璃片浸泡在乙氰的十八烷基硫醇饱和溶液中，取出风干后备用；将扫描探针针尖置于空气等离子体中放电进行亲水处理，备用；用扫描探针针尖直接蘸取氧化剂，在备用基底上进行线条刻划，先形成金属线条；风干后，将基底浸泡在还原剂溶液中，取出基底，用清水冲洗，得到铜、铁、镍、金金属纳米导线。
0006-0003、 制造复合材料的方法以及该方法制造的复合材料
本发明涉及一种制造包括两种或更多种金属或非金属以及它们的化合物的复合材料的方法，具体而言，本发明涉及将分散材料很均匀地分散在复合材料的基材中，而适用性不依赖于复合材料组成的制造方法。本发明的特点是将构成基材的金属或非金属或它们的化合物的基材原料和构成分散材料的金属或非金属或它们的化合物的至少一种分散材料的原料同时或交替蒸发，蒸发的颗粒沉积在一底材上形成块状物体。
0177-0004、 用于生产具有保护涂层的金属带的装置
摘要、 本发明涉及一种用于生产具有保护涂层的金属带的装置，该装置包括在连续生产线中一连串顺序的处理段。装置包括两个涂装段，分别是用于镀锌的段B和用于上涂料的段C，其中带材沿着一运行的路线(4、6)前进，该路线(4、6)至少具有一个安装有冷却装置或干燥装置的垂直部分(41、64)。整套装置组件可以安放在一个建筑物中，该建筑物包括一个带有两个接合部分的中央塔，在其中安装两个涂装段B、C还包括两个小高度的作业间，其中分别安排具有水平贮料库系统(3、7)的供料段A和出料段D。
0169-0005、 混入碳粉末工作液的金属表面陶瓷层放电沉积方法
摘要、 本发明涉及一种混入碳粉末工作液的金属表面陶瓷层放电沉积方法，属工件表面处理方法技术领域；为解决在电火花加工过程中，煤油中裂解的碳不充分，损耗的电极材料得不到充分的化合而使电极损耗过多和表面出现微裂纹等问题而研制设计；本发明利用普通的电火花加工机床和加入5～30克/升碳粉末、被充分搅拌混合的煤油基工作液，在Ti(钛)、Wu(钨)等粉末压粉体电极与工件之间施加脉冲电压，使其间发生放电，最终在工件表面形成由具有很高硬度的金属碳化合物表面涂覆层，本发明可在工、模具和各种机械零件表面改性领域得以广泛应用，具有弥补煤油中碳粒子裂解的不足、使电极材料与碳粒子得到充分的化合、降低电极的损耗、加工出的工、模具使用寿命长的有益效果和优点。
0191-0006、 阴极溅镀装置
摘要、 本发明的阴极溅镀装置，谋求节省空间并提高生产率。在同一阴极溅镀室(14)内设多个支承体(50、52)等。在支承体上设不同种类的对阴极(70a、70b、70c、72a、72b、72c)等。支承体相互间、按相同顺序搭载同一种类对阴极。使各支承体转动，选择成膜时所须的同种对阴极使之对着基板(12、12’)。同时使用多个同种对阴极、成膜一个膜。而后使各支承体转动、选择下一个对阴极，将下一膜层叠于前一膜上。在所述成膜之间以清洗装置清洗成膜时不使用的对阴极。
0127-0007、 镀覆用预处理剂和使用它的金属镀覆方法
摘要、 本发明提供了一种金属镀覆的方法，所述的方法使得甚至在难以进行化学镀覆的材料上以一种有利的方式进行化学镀覆成为可能，以及提供了一种用于这一方法的预处理剂。要镀覆的制品用一种预处理剂处理，所述的预处理剂通过以下步骤来制备：分子中含有金属捕获官能基团的硅烷偶联剂溶液与含有在镀覆金属例如铜、镍等从化学镀覆溶液中沉积到要镀覆的制品表面上时有催化活性的金属的溶液混合，以致上述金属被上述硅烷偶联剂捕获；然后加入还原剂。此后，进行化学镀覆，以致在经上述预处理的制品表面上形成金属薄膜。然后，可进行所希望的金属镀覆。
0155-0008、 双阴极—高频辉光离子渗镀设备及工艺
摘要、 本发明双阴极-高频辉光离子渗镀设备及工艺，是在双层辉光离子渗金属设备阴极和源极之间设置高频感应装置，此装置不是溅射供给源，是一个产生辉光放电电离体的无极放电装置，并具有辅助加热源极溅射材料和阴极工件的作用。利用高频感应装置所产生的强大磁场和电场使阴极和源极之间的辉光放电增强，离化率增加，从而提供了一种在导电材料的工件表面加速形成合金元素扩散层、沉积层及它们之间相互结合的复合渗镀层的设备和工艺方法。
0186-0009、 滑动部件
摘要、 本发明提供一种由包含铝或铝合金的母材金属制成的滑动部件，其中，所述滑动部件的整个表面或其滑动表面镀覆一层滑动膜，该滑动膜包括：一层由铝、氟和氢氧基团的化合物组成的薄膜，一层由此化合物的水合物组成的薄膜，一层由NH,4,MgAlF,6,化合物组成的薄膜，或者一层由这些化合物的混合物组成的薄膜，而且该滑动膜具有立方晶体结构且不存在结晶取向。优选所述滑动膜是一层含有NH,4,MgAlF,6,化合物的薄膜。
0039-0010、 化学气相沉积设备
摘要、 本发明涉及化学气相沉积设备。在该化学气相沉积设备中，可与外部RF电源302相连的RF电源连接部分303安装在腔室300的上部；RF电极板306安装在所述腔室内，所述RF电极板以预定的间隔与所述腔室的内上表面隔开并且以预定的间隔与设置在所述RF电极板下方的喷头309隔开；利用由外部RF电源供给到RF电极板上的电能使等离子体产生在由RF电极板和喷头的上表面之间的间隙所限定的第一缓冲部分310中；喷头在垂直方向上被分成两个部分并且所述两个部分之间的间隔限定了第二缓冲部分316；反应气体被供给到产生有等离子体的第一缓冲部分；以及源气体被供给到第二缓冲部分。
0049-0011、 一种改进的化学气相沉积装置
0046-0012、 霍尔型离子辅助蒸发源
0112-0013、 离子束增强磁控溅射渗镀涂层装置及工艺
0071-0014、 利用对靶型溅射装置制造有机薄膜器件的方法
0083-0015、 一种管状工件内表面改性的方法
0048-0016、 一种冷阴极溅射制备薄膜的方法及装置
0151-0017、 一种等离子体聚合处理装置的电极
0057-0018、 ZnO薄膜生长用MOCVD设备及其工艺
0184-0019、 用于加热衬底的方法
0174-0020、 一种用作集成电路封装基板材料的制造方法
0099-0021、 一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法
0053-0022、 一种制备二氧化钛凝胶膜的气相沉积方法
0137-0023、 中空体涂层机
0097-0024、 锌磷化处理法和污染可能性减小的组合物
0060-0025、 溅射靶、透明导电氧化物和制备该溅射靶的方法
0118-0026、 在真空中涂覆基底的方法和设备
0160-0027、 一种不锈钢脱脂、化学钝化方法
0088-0028、 被覆的R－T－B系磁铁及其制造方法
0086-0029、 铟锡氧化物溅射靶
0031-0030、 一种快速防止预清洗室微粒污染的方法
0032-0031、 化学镀膜方法
0148-0032、 钕铁硼永磁材料的化学镀镍磷方法
0185-0033、 常温金刚石晶体膜及其生成方法
0017-0034、 陶瓷的制法及其制造装置以及半导体器件和压电元件
0136-0035、 金属带的热浸镀方法和设备
0001-0036、 多晶硅化学气相沉积方法和装置
0132-0037、 用于利用磁场形成金属薄膜的溅射装置
0014-0038、 电子回旋共振微波等离子体增强金属有机化学汽相沉积外延系统与技术
0092-0039、 包括多种组分的薄膜及其形成方法
0142-0040、 表面含铜抗菌不锈钢及其制造工艺
0093-0041、 无电解铜电镀液和高频电子元件
0079-0042、 镀锡钢板
0056-0043、 基于二氯甲硅烷的化学汽相淀积多晶硅化物膜中异常生长的控制
0133-0044、 薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示方法
0121-0045、 一种组合式微波等离子体激励装置
0213-0046、 一种MgO功能薄膜制备方法
0149-0047、 大扭矩摩擦片激光强化工艺
0194-0048、 提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置
0214-0049、 一种MgO薄膜制备工艺
0200-0050、 铝件表面处理方法
0028-0051、 氧化物透明导电薄膜材料
0102-0052、 智能溅散离子泵电源控制器
0106-0053、 镁合金表面多元复合氧化物膜和氧化处理方法
0196-0054、 透明导电层形成用涂液的制造方法
0202-0055、 高产率气相沉积制备大型单壁化碳纳米管的方法
0021-0056、 加工性优良的磷酸盐处理镀锌系钢板及其制造方法
0122-0057、 真空排气系统及其监视·控制方法
0041-0058、 一种快速生长氧化镁薄膜的方法
0166-0059、 溅射方法
0012-0060、 沉积用于元件的薄膜的方法、和有机电致发光元件
0152-0061、 利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置
0176-0062、 不锈钢表面防氢渗透层的制备方法
0038-0063、 金属硅化物溅镀靶
0189-0064、 汽轮机动叶片防水蚀涂层的喷涂工艺
0143-0065、 卤素化合物的成膜方法及成膜装置和氟化镁膜
0062-0066、 金属表面处理剂及用它涂覆的金属材料
0040-0067、 渗碳方法和渗碳设备
0043-0068、 处理金属表面的方法
0034-0069、 汽车发动机缸盖上激光直接成型铜基合金气门座工艺方法
0061-0070、 使用配体交换耐蚀金属有机前体溶液的化学气相沉积过程的流出物的消除
0210-0071、 镀覆化工厂用的装置和装置部件的方法
0180-0072、 一种热镀锌钢管及生产方法
0209-0073、 用于扩散粘接靶和背板的方法
0119-0074、 金属带热浸涂装置
0013-0075、 一种选域金刚石膜的制备方法
0170-0076、 一种喷焊用合金粉末
0020-0077、 脉冲等离子体处理方法及其设备
0037-0078、 涂敷磷酸盐覆层的方法和磷酸盐化金属部件的应用
0054-0079、 超硬纳米复合薄膜及其制作工艺
0011-0080、 金属表面的处理方法
0120-0081、 电子束物理气相沉积制备软磁与陶瓷纳米复合薄膜
0023-0082、 金属溅镀靶材的制造方法
0153-0083、 等离子体连续聚合处理装置的绝缘结构
0087-0084、 真空成膜装置
0073-0085、 无依托超薄金刚石X光窗口及其制备工艺
0019-0086、 耐腐蚀性优异的Zn－Al－Mg－Si合金镀覆钢材及其制造方法
0108-0087、 软质金属及其制造方法和装饰物品及其制造方法
0070-0088、 蒸镀用坩埚
0027-0089、 黑色金属材料及工件的双相复合防腐蚀处理方法
0090-0090、 多层膜成膜方法、真空成膜装置及其控制装置
0131-0091、 在玻璃衬底上淀积薄膜的设备和方法
0065-0092、 热处理方法及其所使用的热处理炉
0064-0093、 一种用于制造功能陶瓷层的方法
0216-0094、 一种利用等离子体技术的金属抗腐蚀处理方法
0163-0095、 轻金属合金表面的覆层方法
0067-0096、 一种对钛碳化硅材料铝－稀土共渗的方法
0156-0097、 利用等离子体的连续聚合系统的门开关装置
0203-0098、 用于低蒸气压母体的气体供给装置
0051-0099、 整体热浸镀铝换热器及其工艺
0187-0100、 廉价的金材和银材
0045-0101、 钢材表面渗金钢石处理新方法
0199-0102、 硬质合金涂层的激光直接合成与制造新方法
0215-0103、 薄膜的制造方法及化学气相成长用原料
0111-0104、 用于小尺寸工件真空镀膜的方法及其装置
0068-0105、 用于控制有机发光装置中的有机层厚度的设备
0052-0106、 高纯度的黄金箔的制法
0018-0107、 耐热性保护薄膜,其制造方法及电气电子元件
0104-0108、 同基合金表面离子沉积方法
0095-0109、 一种改进的防眩光学器件
0179-0110、 表面处理镀锡钢板及化成处理液
0066-0111、 双层辉光离子渗碳装置及工艺
0159-0112、 与等离子体聚合反应有关的表面处理方法
0181-0113、 低应力超厚氮硅化合物薄膜沉积方法
0165-0114、 金属陶瓷薄膜
0211-0115、 烙铁头及电烙铁
0007-0116、 一种碳化硼/铜涂层功能梯度材料及制备方法
0081-0117、 在有机发光装置的制造中可重复使用的物质量传感器
0161-0118、 光整锌花热镀锌板的磷化方法
0167-0119、 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置
0205-0120、 化学镀镍硼合金镀层的硬度提高方法
0030-0121、 预清室的微粒污染防止方法
0008-0122、 用于海军航空发动机压气机叶片的离子镀TiAlN涂层
0134-0123、 非电解的镀金液和方法
0195-0124、 无电解镀液的再生方法
0072-0125、 射频—直流多层辉光离子渗镀设备及工艺
0140-0126、 基体涂覆方法和装置
0004-0127、 用于印刷电路板的镀铬的铜的形成方法
0197-0128、 化学法在NiTi合金表面制备羟基磷灰石生物活性层的方法
0147-0129、 粉末冶金材料超声化学镀镍磷方法
0080-0130、 抗高温氧化的钛铝基合金梯度材料及制备
0113-0131、 用于铁电薄膜的金属有机化学气相沉积和退火处理
0115-0132、 无机粉体表面金属化的方法
0105-0133、 三栅极式离子渗镀设备及工艺
0126-0134、 金属表面熔覆涂层特别是梯度涂层的方法
0074-0135、 化合物半导体制造用的水平反应炉
0035-0136、 一种分形结构金属材料的制备方法
0076-0137、 金属镀液及其制造方法
0188-0138、 活塞环的涂层方法及装置
0025-0139、 放电表面处理用电极及其制造方法及放电表面处理方法
0024-0140、 复合材料
0100-0141、 多层膜在线连续镀制设备的工艺布置
0116-0142、 常温磷化液
0125-0143、 一种黑色磷化处理的预处理液
0091-0144、 具有优异耐腐蚀性能和机械性能的锆合金以及用锆合金制造核燃料涂层管的方法
0183-0145、 低介电常数材料以及通过CVD的加工方法
0150-0146、 硅钢片退火罩渗铝工艺
0124-0147、 一种活化非导电性基板进行无电电镀反应制程的方法
0058-0148、 一种制备P型氧化锌薄膜的方法
0193-0149、 薄膜成形设备和方法
0204-0150、 用于烹饪用具的不粘附陶瓷金属涂层
0078-0151、 用于镁合金的化学转化试剂、表面处理方法和镁合金基质
0182-0152、 可制备平整的薄膜材料的脉冲激光沉积方法及其装置
0207-0153、 一种不锈钢纤维的表面改性剂及其使用方法
0050-0154、 模糊控制电热膜敷膜工艺
0098-0155、 同时经受磨耗和腐蚀的机械零件的表面处理方法
0172-0156、 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
0015-0157、 铟锡氧化物溅射靶
0173-0158、 一种纳米特性薄膜器件的制备方法
0129-0159、 增强Ti合金的方法
0022-0160、 金属表面喷涂自反应复合粉合成金属/陶瓷复合涂层
0123-0161、 高密度等离子体化学汽相淀积设备
0114-0162、 大孔径金刚石涂层拉拔模的制备方法
0005-0163、 耐腐蚀性和可加工性优异的电镀钢材及其制备方法
0146-0164、 降低化学镀镍合金晶化温度的方法
0003-0165、 用陶瓷镀膜和难氧化金属镀膜的金属箔及金属薄材
0162-0166、 沉积制程的工作平台
0178-0167、 等离子聚合系统和等离子聚合方法
0082-0168、 喷溅靶及其制造方法
0175-0169、 用于氧化锆和氧化铪薄膜沉积的前驱体
0010-0170、 碳化钨－钢梯度耐磨材料制造技术
0206-0171、 水性金属阻锈剂
0075-0172、 MgB2超导薄膜的原位热丝化学气相沉积制备方法
0059-0173、 提高铝基扩散涂层的断裂韧性的方法
0144-0174、 化学汽相淀积法制膜技术及制膜设备
0033-0175、 涂布铝合金基底的方法
0130-0176、 溅镀靶及其制造方法
0096-0177、 制造具有至少一个滑动面的机器部件的方法和装置
0085-0178、 氮化碳超硬薄膜镀覆靶材及其制备方法
0135-0179、 防腐预应力筋及其制造方法
0198-0180、 化锈防锈液
0044-0181、 化学气相沉积系统的捕气装置
0138-0182、 金属表面的防腐蚀方法
0089-0183、 耐烧结性及耐磨耗性优良的中高温加工用被覆工具
0117-0184、 摩擦磨损表面生成覆盖耐磨层的方法
0212-0185、 大型辊表面涂层的重熔方法及其重熔装置
0190-0186、 高导磁镀硅硅钢片的制作方法
0101-0187、 制备难溶薄涂层的方法
0107-0188、 二氧化钛·钴磁性膜及其制造方法
0029-0189、 沉积装置和沉积方法
0109-0190、 锡-银涂层
0141-0191、 等离子聚合装置中的供气和排气系统
0164-0192、 用等离子体浸没离子注入方法在材料表面形成TiO2-x
0128-0193、 Ti合金的表面处理
0036-0194、 轴承用轮毂的喷镀膜制造方法
0069-0195、 热作模具钢表面等离子体稀土处理方法
0077-0196、 金属表面处理剂、金属表面处理方法及表面处理金属材料
0063-0197、 无铅喷金料及其制备方法
0094-0198、 有白色镀层的个人装饰及其制造方法
0192-0199、 喷溅装置及薄膜形成方法
0208-0200、 中碳钢、中碳合金钢表面激光熔覆方法
0016-0201、 陶瓷的制造方法及其制造设备以及半导体器件和压电元件
0157-0202、 真空汽相淀积复合材料丝的制造工艺和由此制成的金属丝
0201-0203、 镀敷金属丝、其制造方法及制造装置
0171-0204、 含锑纳米复合薄膜及其制备方法
0047-0205、 管形靶及生产该靶的方法
0055-0206、 一种制备金属衬底薄膜的加热方法
0084-0207、 一种聚酰亚胺基板的铜金属化方法
0042-0208、 用于铝底材的非铬氧化物涂层
0154-0209、 溅射靶
0002-0210、 陶瓷电子器件表面金属化的方法
0168-0211、 管筒状工件内表面束线离子注入装置
0139-0212、 清洗和调理等离子体反应腔体的方法
0009-0213、 汽车涂装用中温磷化液
0103-0214、 一种在微尖锥顶端定位镀膜的方法
0158-0215、 紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
0145-0216、 制备金刚石和类金刚石薄膜的方法
0217-0217、 利用等离子体的金属耐腐蚀处理方法
购买以上《涂层、涂层功能、涂层管、涂层装置生产及应用技术》生产工艺技术资全套200元,含邮费,本市五大区可办理货到付款,咨询手机号也是微信号:15542181913 13889286189【点这进入购买帮助】
摘要、 一种热处理方法及其装置，先借助负压变压过程迅速排除炉罐内的空气或老化气氛，而后负压促使渗剂迅速进入炉罐内并借助风机自行、均匀扩散到各处。由于渗剂是定量进入空气或老化气氛已排除干净的炉罐内的，因此，本发明具有热处理后的工件质量好(无氧化生成的黑色组织)、能耗少、渗速快、无污染的绿色的优点。
0026-0002、 可控金属纳米导线的化学制备方法
摘要、 本发明属于直径和长度可控金属纳米导线的化学制备方法。在不同的基体上操作，包括云母、玻璃、陶瓷、塑料等。将扫描探针显微镜基底云母或玻璃片浸泡在乙氰的十八烷基硫醇饱和溶液中，取出风干后备用；将扫描探针针尖置于空气等离子体中放电进行亲水处理，备用；用扫描探针针尖直接蘸取氧化剂，在备用基底上进行线条刻划，先形成金属线条；风干后，将基底浸泡在还原剂溶液中，取出基底，用清水冲洗，得到铜、铁、镍、金金属纳米导线。
0006-0003、 制造复合材料的方法以及该方法制造的复合材料
本发明涉及一种制造包括两种或更多种金属或非金属以及它们的化合物的复合材料的方法，具体而言，本发明涉及将分散材料很均匀地分散在复合材料的基材中，而适用性不依赖于复合材料组成的制造方法。本发明的特点是将构成基材的金属或非金属或它们的化合物的基材原料和构成分散材料的金属或非金属或它们的化合物的至少一种分散材料的原料同时或交替蒸发，蒸发的颗粒沉积在一底材上形成块状物体。
0177-0004、 用于生产具有保护涂层的金属带的装置
摘要、 本发明涉及一种用于生产具有保护涂层的金属带的装置，该装置包括在连续生产线中一连串顺序的处理段。装置包括两个涂装段，分别是用于镀锌的段B和用于上涂料的段C，其中带材沿着一运行的路线(4、6)前进，该路线(4、6)至少具有一个安装有冷却装置或干燥装置的垂直部分(41、64)。整套装置组件可以安放在一个建筑物中，该建筑物包括一个带有两个接合部分的中央塔，在其中安装两个涂装段B、C还包括两个小高度的作业间，其中分别安排具有水平贮料库系统(3、7)的供料段A和出料段D。
0169-0005、 混入碳粉末工作液的金属表面陶瓷层放电沉积方法
摘要、 本发明涉及一种混入碳粉末工作液的金属表面陶瓷层放电沉积方法，属工件表面处理方法技术领域；为解决在电火花加工过程中，煤油中裂解的碳不充分，损耗的电极材料得不到充分的化合而使电极损耗过多和表面出现微裂纹等问题而研制设计；本发明利用普通的电火花加工机床和加入5～30克/升碳粉末、被充分搅拌混合的煤油基工作液，在Ti(钛)、Wu(钨)等粉末压粉体电极与工件之间施加脉冲电压，使其间发生放电，最终在工件表面形成由具有很高硬度的金属碳化合物表面涂覆层，本发明可在工、模具和各种机械零件表面改性领域得以广泛应用，具有弥补煤油中碳粒子裂解的不足、使电极材料与碳粒子得到充分的化合、降低电极的损耗、加工出的工、模具使用寿命长的有益效果和优点。
0191-0006、 阴极溅镀装置
摘要、 本发明的阴极溅镀装置，谋求节省空间并提高生产率。在同一阴极溅镀室(14)内设多个支承体(50、52)等。在支承体上设不同种类的对阴极(70a、70b、70c、72a、72b、72c)等。支承体相互间、按相同顺序搭载同一种类对阴极。使各支承体转动，选择成膜时所须的同种对阴极使之对着基板(12、12’)。同时使用多个同种对阴极、成膜一个膜。而后使各支承体转动、选择下一个对阴极，将下一膜层叠于前一膜上。在所述成膜之间以清洗装置清洗成膜时不使用的对阴极。
0127-0007、 镀覆用预处理剂和使用它的金属镀覆方法
摘要、 本发明提供了一种金属镀覆的方法，所述的方法使得甚至在难以进行化学镀覆的材料上以一种有利的方式进行化学镀覆成为可能，以及提供了一种用于这一方法的预处理剂。要镀覆的制品用一种预处理剂处理，所述的预处理剂通过以下步骤来制备：分子中含有金属捕获官能基团的硅烷偶联剂溶液与含有在镀覆金属例如铜、镍等从化学镀覆溶液中沉积到要镀覆的制品表面上时有催化活性的金属的溶液混合，以致上述金属被上述硅烷偶联剂捕获；然后加入还原剂。此后，进行化学镀覆，以致在经上述预处理的制品表面上形成金属薄膜。然后，可进行所希望的金属镀覆。
0155-0008、 双阴极—高频辉光离子渗镀设备及工艺
摘要、 本发明双阴极-高频辉光离子渗镀设备及工艺，是在双层辉光离子渗金属设备阴极和源极之间设置高频感应装置，此装置不是溅射供给源，是一个产生辉光放电电离体的无极放电装置，并具有辅助加热源极溅射材料和阴极工件的作用。利用高频感应装置所产生的强大磁场和电场使阴极和源极之间的辉光放电增强，离化率增加，从而提供了一种在导电材料的工件表面加速形成合金元素扩散层、沉积层及它们之间相互结合的复合渗镀层的设备和工艺方法。
0186-0009、 滑动部件
摘要、 本发明提供一种由包含铝或铝合金的母材金属制成的滑动部件，其中，所述滑动部件的整个表面或其滑动表面镀覆一层滑动膜，该滑动膜包括：一层由铝、氟和氢氧基团的化合物组成的薄膜，一层由此化合物的水合物组成的薄膜，一层由NH,4,MgAlF,6,化合物组成的薄膜，或者一层由这些化合物的混合物组成的薄膜，而且该滑动膜具有立方晶体结构且不存在结晶取向。优选所述滑动膜是一层含有NH,4,MgAlF,6,化合物的薄膜。
0039-0010、 化学气相沉积设备
摘要、 本发明涉及化学气相沉积设备。在该化学气相沉积设备中，可与外部RF电源302相连的RF电源连接部分303安装在腔室300的上部；RF电极板306安装在所述腔室内，所述RF电极板以预定的间隔与所述腔室的内上表面隔开并且以预定的间隔与设置在所述RF电极板下方的喷头309隔开；利用由外部RF电源供给到RF电极板上的电能使等离子体产生在由RF电极板和喷头的上表面之间的间隙所限定的第一缓冲部分310中；喷头在垂直方向上被分成两个部分并且所述两个部分之间的间隔限定了第二缓冲部分316；反应气体被供给到产生有等离子体的第一缓冲部分；以及源气体被供给到第二缓冲部分。
0049-0011、 一种改进的化学气相沉积装置
0046-0012、 霍尔型离子辅助蒸发源
0112-0013、 离子束增强磁控溅射渗镀涂层装置及工艺
0071-0014、 利用对靶型溅射装置制造有机薄膜器件的方法
0083-0015、 一种管状工件内表面改性的方法
0048-0016、 一种冷阴极溅射制备薄膜的方法及装置
0151-0017、 一种等离子体聚合处理装置的电极
0057-0018、 ZnO薄膜生长用MOCVD设备及其工艺
0184-0019、 用于加热衬底的方法
0174-0020、 一种用作集成电路封装基板材料的制造方法
0099-0021、 一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法
0053-0022、 一种制备二氧化钛凝胶膜的气相沉积方法
0137-0023、 中空体涂层机
0097-0024、 锌磷化处理法和污染可能性减小的组合物
0060-0025、 溅射靶、透明导电氧化物和制备该溅射靶的方法
0118-0026、 在真空中涂覆基底的方法和设备
0160-0027、 一种不锈钢脱脂、化学钝化方法
0088-0028、 被覆的R－T－B系磁铁及其制造方法
0086-0029、 铟锡氧化物溅射靶
0031-0030、 一种快速防止预清洗室微粒污染的方法
0032-0031、 化学镀膜方法
0148-0032、 钕铁硼永磁材料的化学镀镍磷方法
0185-0033、 常温金刚石晶体膜及其生成方法
0017-0034、 陶瓷的制法及其制造装置以及半导体器件和压电元件
0136-0035、 金属带的热浸镀方法和设备
0001-0036、 多晶硅化学气相沉积方法和装置
0132-0037、 用于利用磁场形成金属薄膜的溅射装置
0014-0038、 电子回旋共振微波等离子体增强金属有机化学汽相沉积外延系统与技术
0092-0039、 包括多种组分的薄膜及其形成方法
0142-0040、 表面含铜抗菌不锈钢及其制造工艺
0093-0041、 无电解铜电镀液和高频电子元件
0079-0042、 镀锡钢板
0056-0043、 基于二氯甲硅烷的化学汽相淀积多晶硅化物膜中异常生长的控制
0133-0044、 薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示方法
0121-0045、 一种组合式微波等离子体激励装置
0213-0046、 一种MgO功能薄膜制备方法
0149-0047、 大扭矩摩擦片激光强化工艺
0194-0048、 提高电子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置
0214-0049、 一种MgO薄膜制备工艺
0200-0050、 铝件表面处理方法
0028-0051、 氧化物透明导电薄膜材料
0102-0052、 智能溅散离子泵电源控制器
0106-0053、 镁合金表面多元复合氧化物膜和氧化处理方法
0196-0054、 透明导电层形成用涂液的制造方法
0202-0055、 高产率气相沉积制备大型单壁化碳纳米管的方法
0021-0056、 加工性优良的磷酸盐处理镀锌系钢板及其制造方法
0122-0057、 真空排气系统及其监视·控制方法
0041-0058、 一种快速生长氧化镁薄膜的方法
0166-0059、 溅射方法
0012-0060、 沉积用于元件的薄膜的方法、和有机电致发光元件
0152-0061、 利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置
0176-0062、 不锈钢表面防氢渗透层的制备方法
0038-0063、 金属硅化物溅镀靶
0189-0064、 汽轮机动叶片防水蚀涂层的喷涂工艺
0143-0065、 卤素化合物的成膜方法及成膜装置和氟化镁膜
0062-0066、 金属表面处理剂及用它涂覆的金属材料
0040-0067、 渗碳方法和渗碳设备
0043-0068、 处理金属表面的方法
0034-0069、 汽车发动机缸盖上激光直接成型铜基合金气门座工艺方法
0061-0070、 使用配体交换耐蚀金属有机前体溶液的化学气相沉积过程的流出物的消除
0210-0071、 镀覆化工厂用的装置和装置部件的方法
0180-0072、 一种热镀锌钢管及生产方法
0209-0073、 用于扩散粘接靶和背板的方法
0119-0074、 金属带热浸涂装置
0013-0075、 一种选域金刚石膜的制备方法
0170-0076、 一种喷焊用合金粉末
0020-0077、 脉冲等离子体处理方法及其设备
0037-0078、 涂敷磷酸盐覆层的方法和磷酸盐化金属部件的应用
0054-0079、 超硬纳米复合薄膜及其制作工艺
0011-0080、 金属表面的处理方法
0120-0081、 电子束物理气相沉积制备软磁与陶瓷纳米复合薄膜
0023-0082、 金属溅镀靶材的制造方法
0153-0083、 等离子体连续聚合处理装置的绝缘结构
0087-0084、 真空成膜装置
0073-0085、 无依托超薄金刚石X光窗口及其制备工艺
0019-0086、 耐腐蚀性优异的Zn－Al－Mg－Si合金镀覆钢材及其制造方法
0108-0087、 软质金属及其制造方法和装饰物品及其制造方法
0070-0088、 蒸镀用坩埚
0027-0089、 黑色金属材料及工件的双相复合防腐蚀处理方法
0090-0090、 多层膜成膜方法、真空成膜装置及其控制装置
0131-0091、 在玻璃衬底上淀积薄膜的设备和方法
0065-0092、 热处理方法及其所使用的热处理炉
0064-0093、 一种用于制造功能陶瓷层的方法
0216-0094、 一种利用等离子体技术的金属抗腐蚀处理方法
0163-0095、 轻金属合金表面的覆层方法
0067-0096、 一种对钛碳化硅材料铝－稀土共渗的方法
0156-0097、 利用等离子体的连续聚合系统的门开关装置
0203-0098、 用于低蒸气压母体的气体供给装置
0051-0099、 整体热浸镀铝换热器及其工艺
0187-0100、 廉价的金材和银材
0045-0101、 钢材表面渗金钢石处理新方法
0199-0102、 硬质合金涂层的激光直接合成与制造新方法
0215-0103、 薄膜的制造方法及化学气相成长用原料
0111-0104、 用于小尺寸工件真空镀膜的方法及其装置
0068-0105、 用于控制有机发光装置中的有机层厚度的设备
0052-0106、 高纯度的黄金箔的制法
0018-0107、 耐热性保护薄膜,其制造方法及电气电子元件
0104-0108、 同基合金表面离子沉积方法
0095-0109、 一种改进的防眩光学器件
0179-0110、 表面处理镀锡钢板及化成处理液
0066-0111、 双层辉光离子渗碳装置及工艺
0159-0112、 与等离子体聚合反应有关的表面处理方法
0181-0113、 低应力超厚氮硅化合物薄膜沉积方法
0165-0114、 金属陶瓷薄膜
0211-0115、 烙铁头及电烙铁
0007-0116、 一种碳化硼/铜涂层功能梯度材料及制备方法
0081-0117、 在有机发光装置的制造中可重复使用的物质量传感器
0161-0118、 光整锌花热镀锌板的磷化方法
0167-0119、 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置
0205-0120、 化学镀镍硼合金镀层的硬度提高方法
0030-0121、 预清室的微粒污染防止方法
0008-0122、 用于海军航空发动机压气机叶片的离子镀TiAlN涂层
0134-0123、 非电解的镀金液和方法
0195-0124、 无电解镀液的再生方法
0072-0125、 射频—直流多层辉光离子渗镀设备及工艺
0140-0126、 基体涂覆方法和装置
0004-0127、 用于印刷电路板的镀铬的铜的形成方法
0197-0128、 化学法在NiTi合金表面制备羟基磷灰石生物活性层的方法
0147-0129、 粉末冶金材料超声化学镀镍磷方法
0080-0130、 抗高温氧化的钛铝基合金梯度材料及制备
0113-0131、 用于铁电薄膜的金属有机化学气相沉积和退火处理
0115-0132、 无机粉体表面金属化的方法
0105-0133、 三栅极式离子渗镀设备及工艺
0126-0134、 金属表面熔覆涂层特别是梯度涂层的方法
0074-0135、 化合物半导体制造用的水平反应炉
0035-0136、 一种分形结构金属材料的制备方法
0076-0137、 金属镀液及其制造方法
0188-0138、 活塞环的涂层方法及装置
0025-0139、 放电表面处理用电极及其制造方法及放电表面处理方法
0024-0140、 复合材料
0100-0141、 多层膜在线连续镀制设备的工艺布置
0116-0142、 常温磷化液
0125-0143、 一种黑色磷化处理的预处理液
0091-0144、 具有优异耐腐蚀性能和机械性能的锆合金以及用锆合金制造核燃料涂层管的方法
0183-0145、 低介电常数材料以及通过CVD的加工方法
0150-0146、 硅钢片退火罩渗铝工艺
0124-0147、 一种活化非导电性基板进行无电电镀反应制程的方法
0058-0148、 一种制备P型氧化锌薄膜的方法
0193-0149、 薄膜成形设备和方法
0204-0150、 用于烹饪用具的不粘附陶瓷金属涂层
0078-0151、 用于镁合金的化学转化试剂、表面处理方法和镁合金基质
0182-0152、 可制备平整的薄膜材料的脉冲激光沉积方法及其装置
0207-0153、 一种不锈钢纤维的表面改性剂及其使用方法
0050-0154、 模糊控制电热膜敷膜工艺
0098-0155、 同时经受磨耗和腐蚀的机械零件的表面处理方法
0172-0156、 溅射法生产高稳定性金属膜电阻器用的高阻靶材制造方法
0015-0157、 铟锡氧化物溅射靶
0173-0158、 一种纳米特性薄膜器件的制备方法
0129-0159、 增强Ti合金的方法
0022-0160、 金属表面喷涂自反应复合粉合成金属/陶瓷复合涂层
0123-0161、 高密度等离子体化学汽相淀积设备
0114-0162、 大孔径金刚石涂层拉拔模的制备方法
0005-0163、 耐腐蚀性和可加工性优异的电镀钢材及其制备方法
0146-0164、 降低化学镀镍合金晶化温度的方法
0003-0165、 用陶瓷镀膜和难氧化金属镀膜的金属箔及金属薄材
0162-0166、 沉积制程的工作平台
0178-0167、 等离子聚合系统和等离子聚合方法
0082-0168、 喷溅靶及其制造方法
0175-0169、 用于氧化锆和氧化铪薄膜沉积的前驱体
0010-0170、 碳化钨－钢梯度耐磨材料制造技术
0206-0171、 水性金属阻锈剂
0075-0172、 MgB2超导薄膜的原位热丝化学气相沉积制备方法
0059-0173、 提高铝基扩散涂层的断裂韧性的方法
0144-0174、 化学汽相淀积法制膜技术及制膜设备
0033-0175、 涂布铝合金基底的方法
0130-0176、 溅镀靶及其制造方法
0096-0177、 制造具有至少一个滑动面的机器部件的方法和装置
0085-0178、 氮化碳超硬薄膜镀覆靶材及其制备方法
0135-0179、 防腐预应力筋及其制造方法
0198-0180、 化锈防锈液
0044-0181、 化学气相沉积系统的捕气装置
0138-0182、 金属表面的防腐蚀方法
0089-0183、 耐烧结性及耐磨耗性优良的中高温加工用被覆工具
0117-0184、 摩擦磨损表面生成覆盖耐磨层的方法
0212-0185、 大型辊表面涂层的重熔方法及其重熔装置
0190-0186、 高导磁镀硅硅钢片的制作方法
0101-0187、 制备难溶薄涂层的方法
0107-0188、 二氧化钛·钴磁性膜及其制造方法
0029-0189、 沉积装置和沉积方法
0109-0190、 锡-银涂层
0141-0191、 等离子聚合装置中的供气和排气系统
0164-0192、 用等离子体浸没离子注入方法在材料表面形成TiO2-x
0128-0193、 Ti合金的表面处理
0036-0194、 轴承用轮毂的喷镀膜制造方法
0069-0195、 热作模具钢表面等离子体稀土处理方法
0077-0196、 金属表面处理剂、金属表面处理方法及表面处理金属材料
0063-0197、 无铅喷金料及其制备方法
0094-0198、 有白色镀层的个人装饰及其制造方法
0192-0199、 喷溅装置及薄膜形成方法
0208-0200、 中碳钢、中碳合金钢表面激光熔覆方法
0016-0201、 陶瓷的制造方法及其制造设备以及半导体器件和压电元件
0157-0202、 真空汽相淀积复合材料丝的制造工艺和由此制成的金属丝
0201-0203、 镀敷金属丝、其制造方法及制造装置
0171-0204、 含锑纳米复合薄膜及其制备方法
0047-0205、 管形靶及生产该靶的方法
0055-0206、 一种制备金属衬底薄膜的加热方法
0084-0207、 一种聚酰亚胺基板的铜金属化方法
0042-0208、 用于铝底材的非铬氧化物涂层
0154-0209、 溅射靶
0002-0210、 陶瓷电子器件表面金属化的方法
0168-0211、 管筒状工件内表面束线离子注入装置
0139-0212、 清洗和调理等离子体反应腔体的方法
0009-0213、 汽车涂装用中温磷化液
0103-0214、 一种在微尖锥顶端定位镀膜的方法
0158-0215、 紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
0145-0216、 制备金刚石和类金刚石薄膜的方法
0217-0217、 利用等离子体的金属耐腐蚀处理方法
购买以上《涂层、涂层功能、涂层管、涂层装置生产及应用技术》生产工艺技术资全套200元,含邮费,本市五大区可办理货到付款,咨询手机号也是微信号:15542181913 13889286189【点这进入购买帮助】
