等离子、等离子处理、等离子电弧、等离子吹管及生产工艺技术
0140-0001、 功能金属材料等离子弧焊接及轧制方法
摘要、 一种等离子弧“穿孔法”焊接功能金属材料轧冷钢带坯的方法通过选用具有电流脉冲和预选电流缓升、缓降和预选及具有混气功能的普通等离子焊机配合特定的焊接及冷轧工艺，使其焊缝在冷轧过程中不断带，实现高精度轧制;成品焊缝与基体的化学成分、力学性能、物理性能、表面质量和几何尺寸精度均保持一致，焊缝能与基体一起满足使用要求，实现大卷重供货。
0164-0002、 等离子涂层连续焊条的制造方法
摘要、 本发明公开了一种制造等离子涂层连续焊条的方法。通过对焊条药皮与焊芯的熔点比较试验和重量比较试验以及焊条施焊后的药皮喷嘴长度测定，来调整配粉量比，保证药皮与焊芯的熔点比至０．９～１．０５，重量比至０．９～１．１，药皮喷嘴长度为焊芯直径的１．１～２．５倍，使生产出的焊条能够进行小电流普通电弧焊大电流等离子弧焊，从而根治了气体压缩电弧所带来的一切弊端，同时又解决等离子弧源和填充金属电源不能合二为一的严重缺陷。
0129-0003、 形成微细图形的方法
一种形成半导体器件微细图形的方法使用低加速电压的电子束（１—５ＫｅＶ）和甲硅烷基化工艺方法。在衬底上涂敷抗蚀剂以形成抗蚀剂膜，用电子束将抗蚀剂上表面部分作选择性曝光，然后使曝了光的抗蚀剂膜进行选择性甲硅烷基化，使抗蚀剂膜上部形成甲硅烷基化层。用甲硅烷基化层作掩模腐蚀该抗蚀剂膜，以形成抗蚀剂图形。在干法腐蚀第一阶段，甲硅烷基化层的硅和氧等离子起化学反应，形成含ＳｉＯ，Ｘ，的腐蚀掩模。这样，就使超微细图形（０．１μｍ）得以制造电子束光刻的生产率提高了。
0023-0004、 恒功率微束等离子弧焊机
摘要、 本发明属于一种电弧焊机用于微束等离子弧焊技术.现有的同类焊机从电源的概念分析都不是恒功率源.本发明采用了带有倒数器、放大倍数可调放大器的特殊串级调节系统，并且对系统的性能指标进行了校正，成为恒功率源.本发明还采用了电子开关电路，从而具有脉冲恒功率焊接功能.此外，它还有可以测量焊接功率的电子功率表.使用这种焊机可以获得外观质量更为优越的焊缝.
0138-0005、 硼镁矿及富硼渣直接冶炼铁基非晶态母合金的方法
摘要、 本发明涉及一种直流等离子炉直接冶炼铁基非晶态母合金的方法。以硼镁矿、富硼渣或直接还原硼铁矿为原料、焦炭或无烟煤及硅铁作为还原剂，按比例预混合、生铁、废钢在碳质炉衬的直流等离子炉内预熔造高温铁浴。混合料全部通过电极中心孔在氩气携带下加入电弧区，完成碳－硅复合热还原直接冶炼ＦｅＳｉＢ非晶态母合金。其特点是工艺简单，冶炼操作灵活；开停方便可以使用粉料；Ｂ收得率高；原料和还原剂价格低廉，生产成本低。
0054-0006、 利用等离子现象在基材表面上将超导材料金属化的方法
摘要、 一种利用等离子现象将超导材料在基材表面上金属化的方法包括连续地向一个金属化喷管通入操作气和复合氧合物超导材料粉末，利用电弧将操作气转化为高温等离子体；通过后者将超导材料粉末熔化，并将其喷在基材表面上；将形成的超导材料膜加热到至少７００℃，再缓慢冷却至室温。所述方法改进之处的特征在于，在所述操作气中至少混入３０％（体积）的氧气。
0198-0007、 形成光致抗蚀图形的方法
摘要、 一种形成光致抗蚀图形的方法它包括下列步骤：在底层上涂覆化学增强的光致抗蚀薄膜；在该化学增强的光致抗蚀薄膜上形成硅单体层；通过一个掩模使该单体层曝光，以选择性地聚合该硅单体；通过显影处理去除该单体层的未曝光区域；以及对剩余的聚合区域进行氧气等离子显影处理通过氧和包含在聚合区域的硅反应形成氧化物薄膜，并通过用所述氧化物薄膜作为掩模选择性蚀刻光致抗蚀薄膜形成的光致抗蚀图形。
0142-0008、 制造半导体集成电路的方法和设备
摘要、 将掺氢室１０３和用较低温度排除掺入晶片的氢室１０４安装到等离子腐蚀装置或者离子注入装置的后级，用于有效地消除由于等离子腐蚀和离子注入对半导体衬底产生的损伤。利用碳氢化合物气体和加速碳氢化合物分解的氧的混合物在等离子体中形成氢原子团，用顺流系统以较低的温度把氢原子团供给到半导体晶片上以便不使晶片受到严重损伤。在真空或惰性气氛中于２００—５００℃温度范围内加热晶片以排除掺入到半导体中的氢。
0095-0009、 等离子氯化法制备金红石型钛白粉
摘要、 本发明涉及制备金红石型钛白粉的工艺和技术。采用高钛渣和石油焦和氯气进行沸腾氯化，然后使用精制的四氯化钛与高温等离子氧反应进行氧化，经分级，包膜干燥等工艺和技术制备出金红石型ＴｉＯ，２，。工艺流程自动化，产品性能稳定，应用广泛。
0178-0010、 电源装置
摘要、 一种用于等离子弧切割器的电源装置包含将ＤＣ电源变换为高频电源的逆变器。输出变换电路对该高频电源进行整流和平波，用于在枪电极和工件之间提供电流。电流检测单元检测流经等离子负载的电流。基准信号发生单元产生一包括预定的ＤＣ信号和叠加在该ＤＣ信号上的预定的ＡＣ信号的信号。控制装置根据电流检测单元的输出和基准信号之间的差值控制逆变器，以便使在电极和工件之间提供的输出电流具有预定的恒定ＤＣ电流和叠加的预定的ＡＣ电流。
0137-0011、 一种提高热障碍陶瓷涂层性能的方法
0101-0012、 超小逆变节能型空气等离子切割机
0158-0013、 等离子切割方法及NC等离子切割装置
0200-0014、 等离子切割方法及其装置
0126-0015、 半导体器件及其制造方法
0124-0016、 分解反应器
0075-0017、 直流供电弧焊电源
0024-0018、 组合隔膜
0130-0019、 一种等离子炬
0014-0020、 光学纤维预制件的制造
0063-0021、 用于喷镀狭槽的等离子喷枪延伸部
0133-0022、 机械部件以及在其上形成涂层的方法
0058-0023、 复合式分子泵
0127-0024、 无极等离体喷射装置和离解有害废料的方法
0072-0025、 连续形成大面积膜的微波等离子体化学汽相淀积方法及设备
0087-0026、 波纹管加工方法及设备
0193-0027、 用于改善等离子灰度显示的驱动法及等离子显示器
0148-0028、 低压自启辉、自引弧方法及装置
0134-0029、 产生X射线或远紫外线激光的方法及其装置
0107-0030、 用于烃类分解的方法
0184-0031、 用于在等离子电弧中制备粉末的方法及实施该方法的设备
0172-0032、 复合渗镀方法
0051-0033、 传声材料
0144-0034、 半导体器件及其制造方法
0032-0035、 电液效应灭菌方法及装置
0053-0036、 氮等离子弧表面淬火工艺
0039-0037、 一种含硼镍基导体及其制备方法
0085-0038、 加热方法和装置
0098-0039、 用于纤维、纺织品改性的等离子体处理方法及其装置
0162-0040、 一种直流电弧炉底电极
0035-0041、 用于等离子体枪的气体分配环
0042-0042、 大气常压下涂层的等离子喷涂工艺
0079-0043、 用于等离子弧焊枪的电极
0117-0044、 等离子割炬
0060-0045、 形成功能沉积膜的方法
0181-0046、 平面往复式连续焊枪
0030-0047、 可调节阴极的等离子枪
0106-0048、 果木花卉多效复合肥
0190-0049、 等离子电弧电源装置
0056-0050、 超高分子量高定向聚烯烃产品及其制造方法和应用
0033-0051、 一种高速钢复合样板刀具的制作方法
0202-0052、 等离子处理方法及设备
0116-0053、 等离子法制取氧化锌工艺及设备
0157-0054、 N#-[2、O等离子化学转化为NOx和/或其衍生物的方法
0160-0055、 螺旋波等离子处理方法及装置
0152-0056、 制造光电池的方法和设备
0173-0057、 绝缘组合物，未烧结的绝缘带和形成等离子显示仪隔离棱的方法
0105-0058、 一种纳米硅薄膜的制备方法
0080-0059、 双尖角磁场再压缩等离子弧切割
0109-0060、 一种用于化学过程的炬装置
0020-0061、 避雷装置
0073-0062、 微束等离子弧特种焊机
0070-0063、 双尖角磁场再压缩等离子弧焊接技术
0141-0064、 新型火花塞及其涂层加工方法
0155-0065、 沸石分子筛净水滤水材料及其制备
0168-0066、 微波等离子吹管及产生等离子体的方法
0125-0067、 增强型截控直流变换器
0018-0068、 等离子喷枪的喷嘴装置
0092-0069、 对耐火材料钻孔的等离子吹管和使用方法
0064-0070、 等离子割炬
0004-0071、 带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法
0143-0072、 人造金刚石手术刀的制作工艺
0151-0073、 制造光电换能器的方法
0019-0074、 具有堆焊耐磨层金属筛板制作方法
0135-0075、 一种罗伦兹效应海水淡化装置
0161-0076、 玻璃织物的表面处理方法
0003-0077、 牲畜屠宰-劈胴生产线上的去毛机
0043-0078、 汽相淀积金刚石的方法及装置
0121-0079、 压力可控制的等离子切焊枪具
0186-0080、 接触起动等离子切割过程的方法和设备
0122-0081、 电弧焊机与等离子切割机
0071-0082、 水等离子弧切割
0188-0083、 等离子寻址的显示器
0061-0084、 大区域微波等离子装置
0055-0085、 金的回收方法
0177-0086、 空气等离子切割引弧模块装置
0094-0087、 新型非真空电子束焊接方法及焊炬
0174-0088、 等离子弧割炬
0104-0089、 烃类的分解方法
0120-0090、 气体放电管排气保险装置
0021-0091、 球形化钽粉及其制取工艺
0086-0092、 具有外部粉末加料器的等离子喷射装置
0136-0093、 双阴极辉光放电合成金刚石薄膜
0103-0094、 快速等离子处理的设备和方法
0191-0095、 酸化沉淀法处理含氰废水工艺
0179-0096、 等离子焰炬焊枪
0047-0097、 一种用等离子弧精炼硅的工艺方法
0147-0098、 在塑料基体表面上沉积薄层的方法
0028-0099、 Fe-05耐磨堆焊合金粉块
0002-0100、 轻合金车轮的制造方法
0197-0101、 制造半导体器件的方法
0029-0102、 铸铁表面等离子弧喷焊铜合金工艺方法
0093-0103、 一种复合种植牙及其制造方法
0166-0104、 束致变蚀技术
0036-0105、 耐高温冲击磨损等离子喷焊镍基合金加碳化物复合粉末涂层材料
0201-0106、 碳质材料的热处理
0022-0107、 用等离子体增强的化学气相沉积法沉积垂直方向电阻的方法
0113-0108、 金属陶瓷石墨自润滑喷涂材料
0091-0109、 制备氧化铁酒敏薄膜的方法
0009-0110、 层状织物及其生产工艺
0013-0111、 向炉内例如熔炼用高炉内喷射散状固体物料的装置及其应用
0153-0112、 半导体器件制作工艺
0016-0113、 电绝缘层
0044-0114、 高锰钢泥斗修复工艺
0083-0115、 一种仿玉美工品的制作方法
0046-0116、 接触式等离子割炬
0180-0117、 腐蚀设备
0001-0118、 等离子表面冶金方法及设备
0006-0119、 钨铈电极材料及其制备工艺和用途
0205-0120、 等离子显示器件以及驱动该器件的方法
0017-0121、 可控制接通的硅可控整流器
0108-0122、 离子交换树脂变浓度再生方法
0139-0123、 低氢过电位活性阴极及其制备方法
0170-0124、 等离子驱动电路
0077-0125、 具有伸长的下喷嘴件的等离子弧切割焊枪
0128-0126、 用于烃类高温分解的方法和装置
0119-0127、 等离子体制备纳米钙的方法
0195-0128、 稳定非晶硅及含稳定非晶硅的器件
0206-0129、 气体处理方法和设备
0010-0130、 在液态稳定等离子发生器中半转移电弧及其应用方法
0185-0131、 带有钢瓶旋转机构和破割机构的钢瓶破割容器
0069-0132、 一种金属氧化物超导薄膜的制备方法
0132-0133、 一种生产硅太阳电池的方法及相关的设备
0099-0134、 具有改进型喷嘴组件的等离子电弧切割器
0045-0135、 一种等离子阳极化方法
0182-0136、 具有保护涂层的固化硅酮橡胶制品
0189-0137、 形成半导体器件的旋涂玻璃膜的方法
0031-0138、 热喷涂法制备陶瓷固体器件的电极
0145-0139、 真空等离子处理装置
0159-0140、 金刚石圆锯片基体再生处理方法
0008-0141、 气化和转化载碳体
0199-0142、 刀片的非晶态金刚石涂层
0114-0143、 保护铱坩埚生长掺四价铬高温氧化物晶体的方法
0183-0144、 等离子处理方法及其处理装置
0068-0145、 起动固体燃料电站锅炉并确保其燃料燃烧过程的方法和装置
0074-0146、 锯、切刀和冲压模具的棱刃淬火法
0187-0147、 对背面照明的改进以及与之有关的改进
0015-0148、 含碳物质进行部分燃烧和气化的方法及其装置
0062-0149、 制造矿物棉的方法和装置
0169-0150、 清除溴化物气蚀刻用真空处理室的方法
0049-0151、 从气体中提取气化物的方法和装置
0167-0152、 氧化锆等离子喷涂粉末及共沉聚凝／烧结法
0059-0153、 单电源等离子一熔化极气保护焊接方法
0115-0154、 电流控制型直流变换器
0034-0155、 活塞环表面强化等离子喷涂层材料
0118-0156、 低压引弧等离子割炬
0175-0157、 等离子增强真空干燥
0149-0158、 高性能微晶稀土永磁体的制造方法
0037-0159、 聚丁二烯系正型抗蚀剂及合成方法
0165-0160、 快速等离子处理的设备和方法
0052-0161、 一种耐蚀电接点及其制造方法
0203-0162、 机床导向结构滑动面堆焊方法及该导向结构
0038-0163、 金属合金化学分析试样快速溶解设备的改进
0065-0164、 电子器件的制造方法
0041-0165、 搪瓷化工设备搪瓷衬里的修补方法
0084-0166、 传递电弧的等离子燃烧器
0150-0167、 组合分列式等离子切割机电源装置
0007-0168、 用于熔敷耐磨表层材料的焊接设备及其方法和其上具有焊道的基底
0048-0169、 用四氮化三硅涂层制造太阳电池的方法
0057-0170、 微波等离子化学汽相淀积装置
0088-0171、 汽相淀积金刚石的方法及装置
0171-0172、 制造薄膜晶体管和液晶显示装置的方法
0146-0173、 形成淀积膜的方法和设备
0076-0174、 采用微波等离子法连续制成大面积功能淀积薄膜的方法以及适用该方法的设备
0081-0175、 改进的等离子弧起弧方法
0204-0176、 关于分析半导体器件失效的剥层处理方法
0025-0177、 高频感应耦合等离子分析方法
0096-0178、 一次性使用注射针基座处理方法
0111-0179、 化学加工用炬装置
0089-0180、 金属表面介质薄膜的隔离技术
0176-0181、 智能语音空气等离子切割机
0131-0182、 溅射电极
0154-0183、 气相合成金刚石的方法
0112-0184、 水处理用无机复合絮凝剂及其制备方法
0163-0185、 钢中单-稀土固溶量直接测定法
0090-0186、 发生和点燃等离子体的方法和装置
0102-0187、 半导体装置的层间绝缘膜的形成方法
0156-0188、 用于控制等离子显示屏的交变电流发生器
0012-0189、 低空载电压的弧悍电源
0100-0190、 材料等离子处理的方法和装置
0097-0191、 具有水冷却陶瓷密封管的高效感应等离子炬
0196-0192、 具有涂碳的高能表面的保护膜
0110-0193、 一种用于化学过程的炬装置
0123-0194、 数控空气等离子切割机
0067-0195、 晶体管弧焊逆变器
0011-0196、 采用氮族元素聚合物半导体的薄膜场效应晶体管
0078-0197、 氩等离子弧对2铬13表面淬火工艺
0027-0198、 等离子碳热法生产钼铁
0026-0199、 具有可调径向和切向等离子气体流比的改进的等离子焰喷射枪的方法及装置
0194-0200、 内燃机气门
0066-0201、 高效双弧等离子喷枪
0005-0202、 用工业纯原料气进行等离子化学气相沉积的涂层方法与设备
0192-0203、 等离子涂层连续焊条
0082-0204、 具有加长喷嘴的等离子弧焊枪
0040-0205、 氧气浓度检测器
0050-0206、 微波脱硫等离子体冶炼高冰镍
0207-0207、 等离子腐蚀设备和方法
购买以上《等离子、等离子处理、等离子电弧、等离子吹管及生产工艺技术》生产工艺技术资全套200元,含邮费,本市五大区可办理货到付款,咨询手机号也是微信号:15542181913 13889286189【点这进入购买帮助】
摘要、 一种等离子弧“穿孔法”焊接功能金属材料轧冷钢带坯的方法通过选用具有电流脉冲和预选电流缓升、缓降和预选及具有混气功能的普通等离子焊机配合特定的焊接及冷轧工艺，使其焊缝在冷轧过程中不断带，实现高精度轧制;成品焊缝与基体的化学成分、力学性能、物理性能、表面质量和几何尺寸精度均保持一致，焊缝能与基体一起满足使用要求，实现大卷重供货。
0164-0002、 等离子涂层连续焊条的制造方法
摘要、 本发明公开了一种制造等离子涂层连续焊条的方法。通过对焊条药皮与焊芯的熔点比较试验和重量比较试验以及焊条施焊后的药皮喷嘴长度测定，来调整配粉量比，保证药皮与焊芯的熔点比至０．９～１．０５，重量比至０．９～１．１，药皮喷嘴长度为焊芯直径的１．１～２．５倍，使生产出的焊条能够进行小电流普通电弧焊大电流等离子弧焊，从而根治了气体压缩电弧所带来的一切弊端，同时又解决等离子弧源和填充金属电源不能合二为一的严重缺陷。
0129-0003、 形成微细图形的方法
一种形成半导体器件微细图形的方法使用低加速电压的电子束（１—５ＫｅＶ）和甲硅烷基化工艺方法。在衬底上涂敷抗蚀剂以形成抗蚀剂膜，用电子束将抗蚀剂上表面部分作选择性曝光，然后使曝了光的抗蚀剂膜进行选择性甲硅烷基化，使抗蚀剂膜上部形成甲硅烷基化层。用甲硅烷基化层作掩模腐蚀该抗蚀剂膜，以形成抗蚀剂图形。在干法腐蚀第一阶段，甲硅烷基化层的硅和氧等离子起化学反应，形成含ＳｉＯ，Ｘ，的腐蚀掩模。这样，就使超微细图形（０．１μｍ）得以制造电子束光刻的生产率提高了。
0023-0004、 恒功率微束等离子弧焊机
摘要、 本发明属于一种电弧焊机用于微束等离子弧焊技术.现有的同类焊机从电源的概念分析都不是恒功率源.本发明采用了带有倒数器、放大倍数可调放大器的特殊串级调节系统，并且对系统的性能指标进行了校正，成为恒功率源.本发明还采用了电子开关电路，从而具有脉冲恒功率焊接功能.此外，它还有可以测量焊接功率的电子功率表.使用这种焊机可以获得外观质量更为优越的焊缝.
0138-0005、 硼镁矿及富硼渣直接冶炼铁基非晶态母合金的方法
摘要、 本发明涉及一种直流等离子炉直接冶炼铁基非晶态母合金的方法。以硼镁矿、富硼渣或直接还原硼铁矿为原料、焦炭或无烟煤及硅铁作为还原剂，按比例预混合、生铁、废钢在碳质炉衬的直流等离子炉内预熔造高温铁浴。混合料全部通过电极中心孔在氩气携带下加入电弧区，完成碳－硅复合热还原直接冶炼ＦｅＳｉＢ非晶态母合金。其特点是工艺简单，冶炼操作灵活；开停方便可以使用粉料；Ｂ收得率高；原料和还原剂价格低廉，生产成本低。
0054-0006、 利用等离子现象在基材表面上将超导材料金属化的方法
摘要、 一种利用等离子现象将超导材料在基材表面上金属化的方法包括连续地向一个金属化喷管通入操作气和复合氧合物超导材料粉末，利用电弧将操作气转化为高温等离子体；通过后者将超导材料粉末熔化，并将其喷在基材表面上；将形成的超导材料膜加热到至少７００℃，再缓慢冷却至室温。所述方法改进之处的特征在于，在所述操作气中至少混入３０％（体积）的氧气。
0198-0007、 形成光致抗蚀图形的方法
摘要、 一种形成光致抗蚀图形的方法它包括下列步骤：在底层上涂覆化学增强的光致抗蚀薄膜；在该化学增强的光致抗蚀薄膜上形成硅单体层；通过一个掩模使该单体层曝光，以选择性地聚合该硅单体；通过显影处理去除该单体层的未曝光区域；以及对剩余的聚合区域进行氧气等离子显影处理通过氧和包含在聚合区域的硅反应形成氧化物薄膜，并通过用所述氧化物薄膜作为掩模选择性蚀刻光致抗蚀薄膜形成的光致抗蚀图形。
0142-0008、 制造半导体集成电路的方法和设备
摘要、 将掺氢室１０３和用较低温度排除掺入晶片的氢室１０４安装到等离子腐蚀装置或者离子注入装置的后级，用于有效地消除由于等离子腐蚀和离子注入对半导体衬底产生的损伤。利用碳氢化合物气体和加速碳氢化合物分解的氧的混合物在等离子体中形成氢原子团，用顺流系统以较低的温度把氢原子团供给到半导体晶片上以便不使晶片受到严重损伤。在真空或惰性气氛中于２００—５００℃温度范围内加热晶片以排除掺入到半导体中的氢。
0095-0009、 等离子氯化法制备金红石型钛白粉
摘要、 本发明涉及制备金红石型钛白粉的工艺和技术。采用高钛渣和石油焦和氯气进行沸腾氯化，然后使用精制的四氯化钛与高温等离子氧反应进行氧化，经分级，包膜干燥等工艺和技术制备出金红石型ＴｉＯ，２，。工艺流程自动化，产品性能稳定，应用广泛。
0178-0010、 电源装置
摘要、 一种用于等离子弧切割器的电源装置包含将ＤＣ电源变换为高频电源的逆变器。输出变换电路对该高频电源进行整流和平波，用于在枪电极和工件之间提供电流。电流检测单元检测流经等离子负载的电流。基准信号发生单元产生一包括预定的ＤＣ信号和叠加在该ＤＣ信号上的预定的ＡＣ信号的信号。控制装置根据电流检测单元的输出和基准信号之间的差值控制逆变器，以便使在电极和工件之间提供的输出电流具有预定的恒定ＤＣ电流和叠加的预定的ＡＣ电流。
0137-0011、 一种提高热障碍陶瓷涂层性能的方法
0101-0012、 超小逆变节能型空气等离子切割机
0158-0013、 等离子切割方法及NC等离子切割装置
0200-0014、 等离子切割方法及其装置
0126-0015、 半导体器件及其制造方法
0124-0016、 分解反应器
0075-0017、 直流供电弧焊电源
0024-0018、 组合隔膜
0130-0019、 一种等离子炬
0014-0020、 光学纤维预制件的制造
0063-0021、 用于喷镀狭槽的等离子喷枪延伸部
0133-0022、 机械部件以及在其上形成涂层的方法
0058-0023、 复合式分子泵
0127-0024、 无极等离体喷射装置和离解有害废料的方法
0072-0025、 连续形成大面积膜的微波等离子体化学汽相淀积方法及设备
0087-0026、 波纹管加工方法及设备
0193-0027、 用于改善等离子灰度显示的驱动法及等离子显示器
0148-0028、 低压自启辉、自引弧方法及装置
0134-0029、 产生X射线或远紫外线激光的方法及其装置
0107-0030、 用于烃类分解的方法
0184-0031、 用于在等离子电弧中制备粉末的方法及实施该方法的设备
0172-0032、 复合渗镀方法
0051-0033、 传声材料
0144-0034、 半导体器件及其制造方法
0032-0035、 电液效应灭菌方法及装置
0053-0036、 氮等离子弧表面淬火工艺
0039-0037、 一种含硼镍基导体及其制备方法
0085-0038、 加热方法和装置
0098-0039、 用于纤维、纺织品改性的等离子体处理方法及其装置
0162-0040、 一种直流电弧炉底电极
0035-0041、 用于等离子体枪的气体分配环
0042-0042、 大气常压下涂层的等离子喷涂工艺
0079-0043、 用于等离子弧焊枪的电极
0117-0044、 等离子割炬
0060-0045、 形成功能沉积膜的方法
0181-0046、 平面往复式连续焊枪
0030-0047、 可调节阴极的等离子枪
0106-0048、 果木花卉多效复合肥
0190-0049、 等离子电弧电源装置
0056-0050、 超高分子量高定向聚烯烃产品及其制造方法和应用
0033-0051、 一种高速钢复合样板刀具的制作方法
0202-0052、 等离子处理方法及设备
0116-0053、 等离子法制取氧化锌工艺及设备
0157-0054、 N#-[2、O等离子化学转化为NOx和/或其衍生物的方法
0160-0055、 螺旋波等离子处理方法及装置
0152-0056、 制造光电池的方法和设备
0173-0057、 绝缘组合物，未烧结的绝缘带和形成等离子显示仪隔离棱的方法
0105-0058、 一种纳米硅薄膜的制备方法
0080-0059、 双尖角磁场再压缩等离子弧切割
0109-0060、 一种用于化学过程的炬装置
0020-0061、 避雷装置
0073-0062、 微束等离子弧特种焊机
0070-0063、 双尖角磁场再压缩等离子弧焊接技术
0141-0064、 新型火花塞及其涂层加工方法
0155-0065、 沸石分子筛净水滤水材料及其制备
0168-0066、 微波等离子吹管及产生等离子体的方法
0125-0067、 增强型截控直流变换器
0018-0068、 等离子喷枪的喷嘴装置
0092-0069、 对耐火材料钻孔的等离子吹管和使用方法
0064-0070、 等离子割炬
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0143-0072、 人造金刚石手术刀的制作工艺
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0135-0075、 一种罗伦兹效应海水淡化装置
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0071-0082、 水等离子弧切割
0188-0083、 等离子寻址的显示器
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0174-0088、 等离子弧割炬
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