1、 应用于约束等离子体反应室的半导体双镶嵌蚀刻制作过程
2、 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
3、 利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置
4、 提高聚变等离子体约束性能的电场漂移电子注入法及装置
5、 利用惯性静电约束放电等离子体的等离子体喷射源
6、 等离子体约束装置
7、 增强磁控制等离子体径向分布的约束挡板和流动均衡器
8、 等离子体的磁约束
9、 具有可调电极面积比的受约束等离子体
10、 场反向配置中的等离子体的磁和静电约束
11、 利用电磁场约束电感耦合等离子体溅射沉积法制备ZnO基稀磁半导体薄膜
12、 用于等离子体约束的系统和方法
13、 场反向配置中的等离子体的磁和静电约束
14、 电增强等离子体约束
15、 具有轴向静电约束的等离子体离子注入系统
16、 等离子体约束装置和等离子体加工设备
17、 等离子体约束装置及等离子体处理装置
18、 等离子体约束装置及应用该约束装置的半导体处理设备
19、 离子回旋氧等离子体清除磁约束装置中第一壁氢滞留的方法
20、 检测等离子体非约束的方法和装置
21、 用于管理等离子体约束的减少的电场装置
22、 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
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