涂层,涂层处理,涂层材料,涂层钢板类技术资料
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涂层,涂层处理,涂层材料,涂层钢板类技术资料
作者:技术顾问    电子机械来源:百创科技    点击数:    更新时间:2024/2/27
SY5757-0034-0001、 于工具上镀膜同时形成标记的方法
摘要、 一种于工具上镀膜同时形成标记的方法其是利用一具有镂空标记图案部位的附属套筒套接于欲镀膜的工具上,而使此工具欲进行镀膜的部位外露于此附属套筒外,再将此工具以套接有该附属套筒的一端套接至镀膜机台基座的主套筒上,并使该附属套筒镂空图案部位外露于该主套筒外,进行镀膜制程,此工具外露于附属套筒外的表面上,形成一薄膜,同时通过镂空的标记图案留下一标记于该工具上。通过本发明的方法可于进行镀膜时,同时产生标记于工具上,解决传统技术必须进行二次加工的麻烦,且可避免使用激光加工或腐蚀加工来产生标记而造成本体结构的损害。
SY5757-0101-0002、 钛合金表面耐磨涂层的火焰喷焊工艺方法
摘要、 一种钛合金表面耐磨涂层的火焰喷焊工艺方法该工艺通过在表面预处理工艺中增加表面浸锌活化工序,并将表面净化工序与之合二为一;同时合理确定了工艺过程中的关键参数,具体为:待喷表面粗糙度为Ra25~12.5,预热温度为230~270℃,重熔时液态停留时间为20~60s;并在喷焊后对其进行“回火”热处理,热处理温度范围为200~600℃,保温时间为0.5~2h等一系列工艺措施,成功地在钛合金表面制备了结合性能优良的火焰喷焊耐磨涂层,较好地解决了工程实践实施的灵活性问题。
SY5757-0210-0003、 一种在Ti3SiC2材料表面...
本发明属于表面工程技术具体是一种在Ti3SiC2材料表面制备硼化物涂层的方法渗料由碳化硼粉、碳化硅粉、硅粉、氟硼酸钾、氟化钠固体粉末混合物组成,Ti3SiC2材料用渗料包埋后在1000~1200℃保温2~10小进行热扩散处理。所获得的涂层主要由二硼化钛(TiB2、组成,厚度为10~40微米。涂层硬度(维氏硬度、大约23GPa,相比Ti3SiC2材料提高了5倍左右;在相同实验条件下,与淬火45#钢对磨,磨损量为Ti3SiC2的30%左右。应用本发明将大大提高Ti3SiC2材料的使用效率并拓宽其应用范围,使涂层具有极高的表面硬度和优良的耐磨性能。
SY5757-0041-0004、 一种对抽油泵泵筒柱塞泵阀耐高温腐蚀、高温磨损新技术工艺
摘要、 本发明是这样实现的,采用金属合金成分,在设计预定的工艺条件下完成。将氯化镍、氨基乙酸、胺基硼烷、氟化石墨、硼酸、糖精钠、铅离子等按比例秤重,放入带搅拌器的容器内进行搅拌,待全部溶解后便可使用。需镀时将镀液加温40~50℃,根据所需厚度不同,来确定施镀时间。其中的材料为水、氯化镍、氨基乙酸、胺基硼烷、氟化石墨、硼酸、糖精钠、铅离子、*、*。比例分别为:90、3、2.5、0.45、0.6、0.35、0.3、0.003、0.35、0.15。用此比例配制的合金液及独特技术工艺非常适用于耐高温腐蚀、耐高温磨损,并具有较好的抗冲刷能力,市场前景广阔。
SY5757-0015-0005、 催化剂组合物和沉积方法
摘要、 用于在基底上沉积一种或多种金属或金属合金薄膜的组合物和方法。该组合物包含催化剂一种或多种载体颗粒和一种或多种水溶性或水分散性有机化合物。可以通过化学镀或电解沉积在该基底上沉积金属或金属合金。
SY5757-0093-0006、 以阴极射线法制造镀层的装置
摘要、 本发明涉及一种以阴极射线法制造镀层的装置包括装有坩埚和阴极射线枪的工艺液途哂凶?卸待镀产品装样器的工艺前室,其特征为装载有待镀产品的装样器的下部固定锥形小齿轮安装在工艺室下盖的直立支柱上,一转轴在工艺室中旋转且同装样器的上部活动的锥形小齿轮相啮合。
SY5757-0022-0007、 耐剥离性、滑动性和耐划伤性优良的镀锌钢板及其制造方法
摘要、 本发明提供具有在镀锌层表面含有50wt%以上的磷酸锌颗粒,而且实质上不形成镀锌和此磷酸锌颗粒的反应层的被膜的镀锌钢板及其制造方法。本发明的镀锌钢板耐剥离性优良,此外在油被膜被截断部分那样的无涂油的状态下滑动性也优良,进而也是耐划伤性优良的镀锌钢板。
SY5757-0119-0008、 一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
摘要、 本发明为一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法。它以传统的真空热蒸镀成膜方法为基础,引入强电场,使蒸发源里的材料粒子带上电荷,再通过加热蒸发,使这些带电的分子或粒子飞出,飞出的分子或粒子在电磁场的调控下精确飞向基板最终成膜。与传统的热蒸发相比,本发明能够对蒸发出来的粒子的飞行方向和速度进行精确控制,从而提高所得到的光电子与磁器件的光电磁性能,并带来一系列其他领域的应用。
SY5757-0051-0009、 太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法
摘要、 一种太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法为将基体放置在真空溅射室内,以金属或硅为靶材,使吸收层溅射靶溅射出金属或硅,在真空溅射室内通入反应气体,使金属或硅及其与反应气体生成的反应物的混合物沉积在基体表面,形成吸收层,吸收层厚度为100-150nm;以氧气、氮气、一氧化碳、二氧化碳、四氟化碳、空气中任意一种或任意二种或任意三种作为反应气体,在真空溅射室内同时通入硅烷,反应气体与硅烷的流量比为2∶1~8∶1倍,以铝或硅或活泼过渡元素金属为靶材,在减反射层溅射靶表面周围形成辉光放电区,在吸收层上沉积减反射层,减反射层厚度为40nm-100nm。优点是吸收比高、发射比低、沉积速率快,生产效率高。
SY5757-0096-0010、 薄膜沉积反应器
摘要、 一种依据控制程序运行的薄膜沉积反应器,该反应器包括第一、第二阀门,用以防止第一、第二阀门同时被开启的控制单元,以及反应室。第一、第二气体分别经由被开启的第一、第二阀门被导入反应室。控制程序分别设定第一阀门和第二阀门,使得这二个阀门之中的每一个是在另一个被关闭后的一时间间隔内被开启,并且第一气体流速和第二气体流速之一为零。
SY5757-0134-0011、 施涂涂层的方法
SY5757-0117-0012、 复合等离子体表面处理装置
SY5757-0166-0013、 涂装后的耐蚀性与涂装鲜映性优异的镀锌钢板
SY5757-0018-0014、 热压成型方法,其电镀钢材及其制备方法
SY5757-0081-0015、 镁合金化学镀镍溶液及其施镀方法
SY5757-0114-0016、 用于制备大面积均匀薄膜的非线性热丝结构
SY5757-0122-0017、 用于挥发性,热敏感固体和液体化合物的蒸发器,输送容器
SY5757-0159-0018、 离子注入电铸结构材料及其制备方法
SY5757-0040-0019、 用于称出存储容器中剩余物质量的装置
SY5757-0017-0020、 形成纳米复合层的方法
SY5757-0144-0021、 用离子注入工艺处理印制线路板用铣刀的方法
SY5757-0151-0022、 在连续镀锌处理中控制钢带上的镀层重量的装置
SY5757-0068-0023、 汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法
SY5757-0094-0024、 一种锑掺杂多元氧化物透明导电膜的制备方法
SY5757-0177-0025、 一种配置气体离子源的真空离子镀膜机
SY5757-0207-0026、 无机有机薄膜的沉积方法
SY5757-0165-0027、 电著涂装上漆方法
SY5757-0078-0028、 等离子体增强式化学气相沉积处理方法
SY5757-0059-0029、 连续生产热镀锌彩色涂层钢板的方法
SY5757-0062-0030、 用化学蒸气沉积技术沉积氮化硅膜和氧氮化硅膜的方法
SY5757-0054-0031、 真空镀膜设备
SY5757-0076-0032、 一种制备大面积高质量金刚石膜中抗裂纹的方法
SY5757-0011-0033、 在基片上生成光滑铟锡氧化物层的方法及一种基片铟锡氧化物覆层
SY5757-0042-0034、 高强溅射靶及其制造方法
SY5757-0074-0035、 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的工艺
SY5757-0145-0036、 用于平面矩形或方形基片的真空-处理设备
SY5757-0035-0037、 抗铁磁材料膜和包括其的磁阻效应器件
SY5757-0031-0038、 镁和,或镁合金的表面处理方法及镁和,或镁合金制品
SY5757-0105-0039、 一种可提高巨磁电阻效应的自旋阀制备方法
SY5757-0060-0040、 用于制造埃级和大纵横比的功能性薄片的方法
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SY5757-0033-0042、 离子渗氮炉
SY5757-0143-0043、 用离子注入工艺处理印制线路板用铣刀的方法
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